CN110295004A - 辐射制冷涂层材料及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种辐射制冷涂层材料及其制备方法，制备方法包括如下步骤：(1)在基材的一侧，喷涂聚合物浆料形成第一层；(2)在所述第一层上，喷涂碳材料悬浮液形成第二层，即可。本发明中还可进一步在第二层上形成保护层。本发明获得的涂层材料红外谱段发射率高，适用于多种不同材质的基材并且不受基材形状的限制，制备工艺易于在较低温度操作，适合产业化。

Description

辐射制冷涂层材料及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种辐射制冷涂层材料及其制备方法。
背景技术
红外遥感设备中的核心部件红外探测器件必须在低温环境下才能正常工作，进而才能得到满意的性能。目前空间红外遥感器在轨使用过的制冷机主要有辐射制冷器及斯特林制冷机。
辐冷器是利用宇宙空间的真空与冷黑环境，以辐射换热方式通过辐射器不断向冷黑空间辐射热量并尽可能屏蔽外部热流以达到被动制冷的目的。它具有无振动、无噪声干扰、极少耗功、寿命长、可靠性高等优点，非常适合空间遥感器的需求。
阵列式碳纳米管被认为是人造最黑材料，在0.2～25μm谱段区间内其红外发射率和吸收率都高于0.98，并且该发射率数据不依赖于波长。基于碳纳米管优异的材料性能，美国NASA和英国SNS(萨里纳米系统公司)先后采用MOCVD开发出了性能优异的碳纳米管超黑材料。而MOCVD制备技术需要设备投入较大，工艺复杂，尤其是涉及衬底缓冲层的制备上工艺要求严格，且工艺重复性不好。最重要的问题是基材衬底的尺寸大小、形状受到设备的严格限制，还有基材衬底必须经受高达超过500℃的温度，这就严格限制了其广泛的应用。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于：提升涂层材料在红外谱段发射率和3～35μm平均值的性能，并且使其适用于多种不同材质的基材并且不受基材形状的限制。
本发明的第一方面是提供一种辐射制冷涂层材料的制备方法，其包括如下步骤：
(1)在基材的一侧，喷涂聚合物浆料形成第一层；
(2)在所述第一层上，喷涂碳材料悬浮液形成第二层，即可。
步骤(1)中，所述聚合物浆料可为本领域常规的由有机聚合物与溶剂所形成的混合物。
其中，所述有机聚合物可为本领域常规的有机聚合物，优选为聚氨酯、环氧树脂、聚酰亚胺和聚酰胺中的一种或多种，更优选为聚氨酯和/或聚酰亚胺。
其中，所述溶剂可为本领域常规的可用于溶解所述有机聚合物的溶剂，优选为酰胺类有机溶剂，更优选为二甲基乙酰胺(DMAC)和/或二甲基甲酰胺(DMF)。
其中，所述有机聚合物和所述溶剂的体积比可为本领域常规的体积比，优选为9:1～1:1，更优选为4:1。
步骤(1)中，所述聚合物浆料优选为“聚氨酯与二甲基乙酰胺以体积比为4:1混合所得的聚氨酯浆料”或“聚酰亚胺与二甲基甲酰胺以体积比为4:1混合所得的聚酰亚胺浆料”。所述聚氨酯浆料或所述聚酰亚胺浆料的粘度范围优选为300～500Pa·s。
步骤(1)中，所述的基材可为本领域常规的用于辐射制冷涂层的基材，例如铝合金板、不锈钢板或碳纤维板。
步骤(1)中，优选地，在所述喷涂之前对所述基材进行打磨和/或清洗。所述打磨的方式可为本领常规的打磨方式，优选为依次使用240#水磨砂纸、1000#水磨砂纸和1500#砂纸打磨。所述清洗的溶剂可为本领域常规的溶剂，优选为丙酮和/或去离子水。
步骤(1)中，优选地，在所述喷涂之前对基材进行预热。所述预热温度可按本领域常识设定为70℃～200℃。
步骤(1)中，所述喷涂时基材的温度可按本领域常规进行设定，优选为70℃～200℃，例如100℃。
步骤(1)中，所述喷涂的方式可为本领域常规的喷涂方式，例如超声雾化喷涂或者高流量低气压(HVLP)喷涂。
其中，所述高流量低气压(HVLP)为本领域技术术语，按本领域常识，所述高流量低气压喷涂是指喷枪风帽处空气雾化压力低于0.7巴、喷枪耗气量高于每分钟430公升的喷涂。
步骤(1)中，所述喷涂的时间可为本领域常规的喷涂时间，优选为5秒/100cm2～3分钟/100cm2，更优选为10～15秒/100cm2。
步骤(1)中，所述喷涂的环境可根据喷涂的方式或原料进行常规选择，例如大气环境。
步骤(2)中，所述的碳材料悬浮液可按本领域常规的方法进行制备，例如将碳材料和极性溶剂混合，即可。
其中，所述碳材料可为本领域常规的碳材料，例如包括碳纤维、碳纤维衍生物、气相生长碳纤维、气相生长碳纤维衍生物、石墨纤维、石墨纤维衍生物、碳纳米管、碳纳米管衍生物、石墨烯、石墨烯衍生物、富勒烯(C60)、富勒烯衍生物、中间相碳微球、中间相碳微球衍生物、活性碳纤维、活性碳纤维衍生物、碳分子筛、碳分子筛衍生物、碳合金、碳合金衍生物、碳/碳复合材料和碳/碳复合材料衍生物中的一种或多种，优选为包括碳纳米管、石墨烯和富勒烯(C60)中的一种或多种。
本领域技术人员均知，所述碳纳米管是由单层到数十层的同轴圆管构成或由石墨烯片层卷曲而成。所述同轴圆管的结构是指由呈六边形排列的碳原子构成的结构。所述碳纳米管按其结构特征可为缠绕式碳管或气相生长碳纳米管，按石墨烯片的层数可为单壁碳纳米管(SWCNTs)和/或多壁碳纳米管(MWCNTs)。
所述石墨烯可为市售或者将石墨粉末经化学氧化及剥离后得到的产物，例如氧化石墨烯(购自宁波墨西科技有限公司)。所述氧化石墨烯由单层和/或多层氧化石墨烯构成。所述氧化石墨烯的尺寸可为微纳米级二维材料。所述单层氧化石墨烯层的厚度可以为0.355nm。
当所述碳材料包括碳纳米管和石墨烯时，所述碳纳米管和石墨烯的质量比优选为0.1～10:1，更优选为1:1。
当所述碳材料包括碳纳米管、石墨烯和富勒烯时，所述碳纳米管、石墨烯和富勒烯的质量比优选为(0.1～10):1:(0～1)，更优选为6:3:1。
其中，所述极性溶剂可为本领域常规的极性溶剂，优选为沸点低于200℃、极性指数值为0.2～7的溶剂，例如包括二甲基乙酰胺、四氢呋喃、二甲基甲酰胺、甲基吡咯烷酮和1-乙基-2-吡咯烷酮中的一种或多种，更优选为1-乙基-2-吡咯烷酮和/或四氢呋喃。
步骤(2)中，优选地，所述碳材料悬浮液中还可包括非碳类材料。所述非碳类材料可为本领常规的非碳类材料，例如氢氧化物和/或过渡金属氧化物等。
步骤(2)中，所述碳材料悬浮液的中碳材料的浓度可为本领域常规的浓度，优选为0.01～20mg/mL，例如1mg/mL。
步骤(2)中，所述喷涂时基材的温度可按本领域常规进行设定，优选为100℃～300℃，例如120℃或180℃。
步骤(2)中，所述喷涂的方式如前所述。
步骤(2)中，所述喷涂的时间可根据喷涂的方式或原料进行常规选择，优选为60～70秒/100cm2。
步骤(2)中，优选地，所述第二层喷涂结束后，还进行加热处理。所述加热处理的温度优选为100～300℃，例如180℃或210℃。所述加热处理的时间优选为5～10分钟，例如5分钟或10分钟。
步骤(2)中，优选地，所述第二层喷涂结束后，还进行等离子体刻蚀处理。
其中，所述等离子体刻蚀处理可为本领域常规的处理条件，优选为：温度为0～200℃、反应室气压为10～105Pa、放电功常规率密度为0.1～10W/cm2和刻蚀频率为2.45GHz、13.56kHz或40kHz。所述放电功率密度优选为0.8W/cm2、1.3W/cm2。
本领域技术人员均知，在进行等离子体刻蚀时需导入气体与等离子体进行交换。所述气体可为本领域常规的气体，优选为空气、氧气和氩气中的一种或者两种。所述气体的流量可为本领域常规的流量，优选为0.5～100cm3/min，更优选为55cm3/min。所述等离子体刻蚀处理的时间可为本领域常规的时间，例如1～10分钟，再例如5分钟。
步骤(2)中，优选地，在所述第二层的表面上还包括一保护层，例如聚酯保护层。
本领域技术人员均知，所述第二层的表面是指第二层与外界环境接触的一侧，即为“第二层不与步骤(1)中所述第一层接触的一侧”。
其中，所述保护层的形成方式可为本领域常规的方式，例如化学气相沉积方式。
所述化学气相沉积的方式可为本领域常规的方式，例如将原料于蒸发室蒸发至纳米态，而后于裂解室裂解为活性单体，活性单体于沉积室在所述第二层的表面重新聚合，形成薄膜即可。
所述原料优选为聚酯单体。所述聚酯单体可为本领域常规的聚酯单体，例如环氧树脂(ER型)、有机硅树脂(SR型)、聚氨酯(UR型)、聚丙烯酸酯(AR或UV型)和聚对二甲苯(C型、N型、D型或F型)中的一种或多种，优选为有机硅树脂和/或聚对二甲苯(C型)。
所述蒸发室的温度优选为150～200℃，更优选为170℃。
所述裂解室的气压优选为1.0-8～1.03Pa。
所述裂解室的温度优选为690℃。
所述沉积室的温度优选为30～60℃，更优选为35℃。
本发明的第二方面是提供一种由上述制备方法制备获得的辐射制冷涂层材料。
采用VERTEX70傅里叶变换红外光谱仪(测量范围2.5～25μm)和TESA2000发射率测试仪(测量范围3～35μm)对本申请中的辐射制冷涂层材料进行发射率测试。
VERTEX70傅里叶变换红外光谱仪测得径向发射率大于98％，并且在该波段范围内的发射率基本不随波长发生变化。
采用TESA2000测试的是在3～35μm的计算平均值，测试获得实施例1～4为95％，对比实施例1为87％，对比实施例2为80％。
本发明的积极进步效果在于：
(1)本发明获得的涂层材料红外谱段发射率和3～35μm平均值高，采用VERTEX70傅里叶变换红外光谱仪测得径向发射率大于98％，采用TESA2000测试发射率大于95％，且适用于多种不同材质的基材并且不受基材形状的限制，制备工艺易于在较低温度操作，适合产业化。
(2)本发明辐射制冷涂层材料中还可包括一保护涂层，涂层表面具有膜连续、无针孔、高度交联、与基体黏附性强等特性。保护涂层可以有效的抑制环境中的水汽、灰尘和油污等而几乎不影响碳材料涂层的性能。
附图说明
图1为实施例1制得的辐射制冷涂层材料结构示意图，其中，1为第二层，2为第一层，3为基材。
图2为实施例3制得的辐射制冷涂层材料结构示意图，其中，1为保护层，2为第二层，3为第一层，4为基材。
具体实施方式
下面通过实施例的方式进一步说明本发明，但并不因此将本发明限制在所述的实施例范围之中。下列实施例中未注明具体条件的实验方法，按照常规方法和条件，或按照商品说明书选择。
实施例1
(1)基材采用厚度2mm的6系铝合金(采购自深圳市鸿年金属材料有限公司)，面积75×150mm，依次使用240#水磨砂纸、1000#水磨砂纸和1500#砂纸打磨其表面，再使用丙酮和去离子水超声清洗打磨后的铝合金表面，表面吹干，得到处理后的铝合金基材。
(2)将0.5g碳纳米管和0.5g石墨烯加入到1L的1-乙基-2-吡咯烷酮中，通过超声搅拌溶液共混的方式制备得到固含量浓度为1mg/mL的碳纳米管/石墨烯复合的碳材料悬浮液。
(3)把基材放置于加热平台，加热温度为100℃，将聚氨酯溶解于二甲基乙酰胺(DMAC)中形成聚氨酯浆料，聚氨酯与二甲基乙酰胺的体积比为4:1，形成的聚氨酯浆料的粘度范围在300～500Pa·s，对聚氨酯浆料进行超声雾化喷涂，通过喷头架的运动带动喷头在基材上往复运动，控制喷涂时间为10～15秒/100cm2。
(4)在上一步基础上，更换碳材料悬浮液喷头，把基材加热温度调整为180℃，对碳材料悬浮液进行超声雾化喷涂，通过喷头架的运动带动喷头在基材上往复运动，控制喷涂时间为60～70秒/100cm2。待结束涂覆后，加热温度升至210℃，加热持续时间5分钟。
(5)将经过加热处理的涂覆碳材料悬浮液的基材放入等离子体装置的下极板上，并将下极板加热至80℃且保持恒定，等离子源采用13.56MHz射频，待反应室的本底真空度抽至1.3Pa以下，将氧气引入反应室，控制流量为55cm3/min，通过调节真空泵的抽气速率将工作气压稳定在66Pa，在额定放电功率600W的100％输出条件下放电功率600W(放电功率密度为1.3W/cm2)，对涂覆碳材料悬浮液的基材进行刻蚀，刻蚀时间为5分钟。试验结束后向反应室缓慢通入氮气直至反应室盖开启，即制备得到辐射制冷涂层材料。
采用VERTEX70傅里叶变换红外光谱仪测得径向发射率大于98％，并且在该波段范围内的发射率基本不随波长发生变化。采用TESA2000测试的是在3～35μm的计算平均值为95％。
实施例1中的辐射制冷涂层材料放置7天后，采用VERTEX70傅里叶变换红外光谱仪测得径向发射率92％，下降了6％；采用TESA2000测试的是在3～35μm的计算平均值为90％，下降了5％。
图1为实施例1制得的辐射制冷涂层材料结构示意图，其中，1为第二层，2为第一层，3为基材。
实施例2
(1)基材采用厚度3mm的碳纤维板(T300-东丽)，面积50×50mm，把表面毛化处理并清洗清洁，前处理依次为使用240#水磨砂纸、1000#水磨砂纸和1500#砂纸打磨其表面，再使用丙酮和去离子水超声清洗打磨后的碳纤维表面，表面吹干，得到处理后的碳纤维基板。
(2)将0.6g碳纳米管、0.3g石墨烯和0.1g富勒烯C60加入到1L的四氢呋喃中，通过超声搅拌溶液共混的方式制备得到固含量浓度为1mg/mL的碳纳米管/石墨烯为主相的复合悬浮液。
(3)把基材放置于加热平台，加热温度为100℃，将聚酰亚胺溶解于二甲基甲酰胺(DMF)溶解的聚酰亚胺浆料，聚酰亚胺与二甲基甲酰胺的体积比为4:1，形成的聚酰亚胺浆料粘度范围在300～500Pa·s，对聚酰亚胺浆料进行超声雾化喷涂，通过喷头架的运动带动喷头在基材上往复运动，控制喷涂时间为10～15秒/100cm2。
(4)在上一步基础上，更换碳材料悬浮液喷头，把基材加热温度调整为120℃，对碳材料悬浮液进行超声雾化喷涂，通过喷头架的运动带动喷头在基材上往复运动，控制喷涂时间为60～70秒/100cm2。待结束涂覆后，加热温度升至180℃，加热持续时间10分钟。
(5)将经过加热处理的涂覆碳材料悬浮液的基材放入等离子体装置的下极板上，并将下极板加热至50℃且保持恒定，等离子源采用40kHz中频。待反应室的本底真空度抽至1.3Pa以下，将空气引入反应室，控制流量为55cm3/min，通过调节真空泵的抽气速率将工作气压稳定在66Pa，在额定放电功率81W的输出条件下(放电功率密度为0.81Wcm-2)对涂覆碳材料悬浮液的基材进行刻蚀，刻蚀时间为5分钟。试验结束后向反应室缓慢通入氮气直至反应室盖开启，即制备得到辐射制冷涂层材料。
采用VERTEX70傅里叶变换红外光谱仪测得径向发射率大于98％，并且在该波段范围内的发射率基本不随波长发生变化。采用TESA2000测试3～35μm的计算平均值为95％。
实施例2中的辐射制冷涂层材料放置7天后，采用VERTEX70傅里叶变换红外光谱仪测得径向发射率91％，下降了7％；采用TESA2000测试的是在3～35μm的计算平均值为89％，下降了6％。
实施例2所制得的辐射制冷涂层材料结构示意图与图1类似。
实施例3
(1)基材采用厚度2mm的6系铝合金(采购自深圳市鸿年金属材料有限公司)，面积75×150mm，依次使用240#水磨砂纸、1000#水磨砂纸和1500#砂纸打磨其表面，再使用丙酮和去离子水超声清洗打磨后的铝合金表面，表面吹干，得到处理后的铝合金基材。
(2)将0.5g碳纳米管和0.5g石墨烯加入到1L的1-乙基-2-吡咯烷酮中，通过超声搅拌溶液共混的方式制备得到固含量浓度为1mg/mL的碳纳米管/石墨烯复合的碳材料悬浮液。
(3)把基材放置于加热平台，加热温度为100℃，将聚氨酯溶解于二甲基乙酰胺(DMAC)中形成聚氨酯浆料，聚氨酯与二甲基乙酰胺的体积比为4:1，形成的聚氨酯浆料的粘度范围在300～500Pa·s，对聚氨酯浆料进行超声雾化喷涂，通过喷头架的运动带动喷头在基材上往复运动，控制喷涂时间为10～15秒/100cm2。
(4)在上一步基础上，更换碳材料悬浮液喷头，把基材加热温度调整为180℃，对碳材料悬浮液进行超声雾化喷涂，通过喷头架的运动带动喷头在基材上往复运动，控制喷涂时间为60～70秒/100cm2。待结束涂覆后，加热温度升至210℃，加热持续时间5分钟。
(5)将经过加热处理的涂覆碳材料悬浮液的基材放入等离子体装置的下极板上，并将下极板加热至80℃且保持恒定，等离子源采用13.56MHz射频，待反应室的本底真空度抽至1.3Pa以下，将氧气引入反应室，控制流量为55cm3/min，通过调节真空泵的抽气速率将工作气压稳定在66Pa，在额定放电功率600W的100％输出条件下放电功率600W(放电功率密度为1.3W/cm2)，对涂覆碳材料悬浮液的基材进行刻蚀，刻蚀时间为5分钟。试验结束后向反应室缓慢通入氮气直至反应室盖开启，取出基材。
(6)将经等离子体刻蚀后的基材放置于沉积室，粉末状纳米有机硅树脂放入真空纳米涂层设备的蒸发室，通过170℃的温度蒸发为气态分子，在真空度约2torr(相当于气压为266Pa，对应气压为1.0-8～1.03Pa的范围)，作用下气态的10nm以下纳米分子进入裂解室，在裂解室690℃的高温下裂解为具有反应活性的单体。活性单体在真空的作用下进入到沉积室35℃，活性单体与单体之间重新聚合，形成聚酯保护层，即制备得到包括一保护层的辐射制冷涂层材料。
采用VERTEX70傅里叶变换红外光谱仪测得径向发射率大于98％，并且在该波段范围内的发射率基本不随波长发生变化。采用TESA2000测试的是在3～35μm的计算平均值为95％。
实施例3中包括一保护层的辐射制冷涂层材料放置7天后，其性能无显著变化。
图2为实施例3制得的辐射制冷涂层材料结构示意图，其中，1为保护层，2为第二层，3为第一层，4为基材。
实施例4
(1)基材采用厚度3mm的碳纤维板(T300-东丽)，面积50×50mm，把表面毛化处理并清洗清洁，前处理依次为使用240#水磨砂纸、1000#水磨砂纸和1500#砂纸打磨其表面，再使用丙酮和去离子水超声清洗打磨后的碳纤维表面，表面吹干，得到处理后的碳纤维基板。
(2)将0.6g碳纳米管、0.3g石墨烯和0.1g富勒烯C60加入到1L的四氢呋喃中，通过超声搅拌溶液共混的方式制备得到固含量浓度为1mg/mL的碳纳米管/石墨烯为主相的复合悬浮液。
(3)把基材放置于加热平台，加热温度为100℃，将聚酰亚胺溶解于二甲基甲酰胺(DMF)溶解的聚酰亚胺浆料，聚酰亚胺与二甲基甲酰胺的体积比为4:1，形成的聚酰亚胺浆料粘度范围在300～500Pa·s，对聚酰亚胺浆料进行超声雾化喷涂，通过喷头架的运动带动喷头在基材上往复运动，控制喷涂时间为10～15秒/100cm2。
(4)在上一步基础上，更换碳材料悬浮液喷头，把基材加热温度调整为120℃，对碳材料悬浮液进行超声雾化喷涂，通过喷头架的运动带动喷头在基材上往复运动，控制喷涂时间为60～70秒/100cm2。待结束涂覆后，加热温度升至180℃，加热持续时间10分钟。
(5)将经过加热处理的涂覆碳材料悬浮液的基材放入等离子体装置的下极板上，并将下极板加热至50℃且保持恒定，等离子源采用40kHz中频。待反应室的本底真空度抽至1.3Pa以下，将空气引入反应室，控制流量为55cm3/min，通过调节真空泵的抽气速率将工作气压稳定在66Pa，在额定放电功率81W的输出条件下(放电功率密度为0.81Wcm-2)对涂覆碳材料悬浮液的基材进行刻蚀，刻蚀时间为5分钟。试验结束后向反应室缓慢通入氮气直至反应室盖开启，取出基材。
(6)将经等离子体刻蚀后的基材放置于沉积室，粉末状纳米聚对二甲苯(C型)放入真空纳米涂层设备的蒸发室，通过170℃的温度蒸发为气态分子，在真空度约2torr(相当于气压为266Pa，对应气压为1.0-8～1.03Pa的范围)作用下气态的10nm以下纳米分子进入裂解室，在裂解室690℃的高温下裂解为具有反应活性的单体，活性单体在真空的作用下进入到沉积室，在35℃下，活性单体与单体之间重新聚合，形成聚酯保护层，即制备得到包括一保护层的辐射制冷涂层材料。
采用VERTEX70傅里叶变换红外光谱仪测得径向发射率大于98％，并且在该波段范围内的发射率基本不随波长发生变化。采用TESA2000测试3～35μm的计算平均值为95％。
实施例4中包括一保护层的辐射制冷涂层材料放置7天后，其性能无显著变化。
实施例4所制得的辐射制冷涂层材料结构示意图与图2类似。
对比实施例1
美国LORD公司生产的Z306为采用化学喷涂法制备获得的超黑材料，采用TESA2000测试3～35μm的计算平均值为87％。该超黑材料的制备工艺为采用喷涂法制备，室温固化或者加热固化。一般具有两层结构：底层附着层和表面功能层。表面功能层由成膜物质(即基料)、颜料、填料、涂料助剂、功能组分、有机溶剂或水组成。
对比实施例2
以色列Acktar公司生产的Magic Black为采用物理真空镀膜法制备获得超黑材料，采用TESA2000测试3～35μm的计算平均值为80％。该超黑材料的制备工艺为采用真空镀膜设备制备。一般具有两种结构：底层附着缓冲层和表面功能层。其结构材料为纯无机类材料。

Claims (10)

1.一种辐射制冷涂层材料的制备方法，其特征在于，其包括如下步骤：
(1)在基材的一侧，喷涂聚合物浆料形成第一层；
(2)在所述第一层上，喷涂碳材料悬浮液形成第二层，即可。
2.如权利要求1所述的辐射制冷涂层材料的制备方法，其特征在于，步骤(1)中，所述聚合物浆料为有机聚合物与溶剂所形成的混合物；
所述有机聚合物优选为聚氨酯、环氧树脂、聚酰亚胺和聚酰胺中的一种或多种，更优选为聚氨酯和/或聚酰亚胺；
所述溶剂优选为酰胺类有机溶剂，更优选为二甲基乙酰胺和/或二甲基甲酰胺；
所述有机聚合物和所述溶剂的体积比优选为9:1～1:1，更优选为4:1；
和/或，步骤(1)中，所述的基材为铝合金板、不锈钢板或碳纤维板；
和/或，步骤(1)中，在所述喷涂之前对基材进行打磨和/或清洗，所述打磨的方式优选为依次使用240#水磨砂纸、1000#水磨砂纸和1500#砂纸打磨，所述清洗的溶剂优选为丙酮和/或去离子水；
和/或，步骤(1)中，在所述喷涂之前对基材进行预热，所述预热的温度为70℃～200℃。
3.如权利要求1所述的辐射制冷涂层材料的制备方法，其特征在于，
步骤(1)中，所述聚合物浆料为“聚氨酯与二甲基乙酰胺以体积比为4:1混合所得的聚氨酯浆料”或“聚酰亚胺与二甲基甲酰胺以体积比为4:1混合所得的聚酰亚胺浆料”；所述聚氨酯浆料或所述聚酰亚胺浆料的粘度范围优选为300～500Pa·s；
和/或，步骤(1)中，所述喷涂时基材的温度为70℃～200℃，优选为100℃；
和/或，步骤(1)中，所述喷涂的方式为超声雾化喷涂或者高流量低气压喷涂；
和/或，步骤(1)中，所述喷涂的时间为5秒/100cm2～3分钟/100cm2，优选为10～15秒/100cm2；
和/或，步骤(1)中，所述喷涂的环境为大气环境。
4.如权利要求1所述的辐射制冷涂层材料的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述的碳材料悬浮液的制备方法为将碳材料和极性溶剂混合，即可。
5.如权利要求4所述的辐射制冷涂层材料的制备方法，其特征在于，所述碳材料包括碳纤维、碳纤维衍生物、气相生长碳纤维、气相生长碳纤维衍生物、石墨纤维、石墨纤维衍生物、碳纳米管、碳纳米管衍生物、石墨烯、石墨烯衍生物、富勒烯、富勒烯衍生物、中间相碳微球、中间相碳微球衍生物、活性碳纤维、活性碳纤维衍生物、碳分子筛、碳分子筛衍生物、碳合金、碳合金衍生物、碳/碳复合材料和碳/碳复合材料衍生物中的一种或多种，优选为包括碳纳米管、石墨烯和富勒烯中的一种或多种；
当所述碳材料优选包括碳纳米管和石墨烯时，所述碳纳米管和石墨烯的质量比优选为0.1～10:1，更优选为1:1；
当所述碳材料优选包括碳纳米管、石墨烯和富勒烯时，所述碳纳米管、石墨烯和富勒烯的质量比优选为(0.1～10):1:(0～1)，更优选为6:3:1；
和/或，所述极性溶剂为沸点低于200℃、极性指数值为0.2～7的溶剂，优选为包括二甲基乙酰胺、四氢呋喃、二甲基甲酰胺、甲基吡咯烷酮和1-乙基-2-吡咯烷酮中的一种或多种，更优选为1-乙基-2-吡咯烷酮和/或四氢呋喃。
6.如权利要求1所述的辐射制冷涂层材料的制备方法，其特征在于，所述碳材料悬浮液中还包括非碳类材料，所述非碳类材料优选为氢氧化物和/或过渡金属氧化物；
和/或，所述碳材料悬浮液的中碳材料的浓度为0.01～20mg/mL，优选为1mg/mL。
7.如权利要求1所述的辐射制冷涂层材料的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述喷涂时基材的温度为100℃～300℃，优选为120℃或180℃；
和/或，步骤(2)中，所述喷涂的时间为60～70秒/100cm2；
和/或，步骤(2)中，所述第二层喷涂结束后，还进行加热处理，所述加热处理的温度优选为100～300℃，所述加热处理的时间优选为5～10分钟；
和/或，步骤(2)中，所述第二层喷涂结束后，还进行等离子体刻蚀处理，所述等离子体刻蚀处理的条件优选为：温度为0～200℃，反应室气压为10～105Pa，放电功率密度为0.1～10W/cm2和刻蚀频率为2.45GHz、13.56kHz或40kHz；当进行所述等离子体刻蚀处理时，需导入气体与等离子体进行交换，所述气体优选为空气、氧气和氩气中的一种或多种，所述气体的流量优选为0.5～100cm3/min，所述等离子体刻蚀处理的时间优选为1～10分钟。
8.如权利要求1所述的辐射制冷涂层材料的制备方法，其特征在于，步骤(2)中，所述第二层的表面上还包括一保护层，所述保护层优选为聚酯保护层。
9.如权利要求8所述的辐射制冷涂层材料的制备方法，其特征在于，所述保护层通过化学气相沉积方式制得；
所述化学气相沉积的方式优选为将原料于蒸发室蒸发至纳米态，而后于裂解室裂解为活性单体，活性单体于沉积室在所述第二层的表面重新聚合，形成薄膜即可；所述原料优选为聚酯单体，所述聚酯单体优选为环氧树脂、有机硅树脂、聚氨酯、聚丙烯酸酯和聚对二甲苯中的一种或多种，更优选为聚对二甲苯；所述蒸发室的温度优选为150～200℃，更优选为170℃；所述裂解室的气压优选为1.0-8～1.03Pa；所述裂解室的温度优选为690℃；所述沉积室的温度优选为30～60℃，更优选为35℃。
10.一种如权利要求1～9中任一项所述的辐射制冷涂层材料的制备方法制备得到的辐射制冷涂层材料。
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