CN110218977A - 蒸镀装置 - Google Patents
蒸镀装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN110218977A CN110218977A CN201910595503.0A CN201910595503A CN110218977A CN 110218977 A CN110218977 A CN 110218977A CN 201910595503 A CN201910595503 A CN 201910595503A CN 110218977 A CN110218977 A CN 110218977A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- evaporation
- coating device
- evaporation coating
- fusing department
- connecting rod
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明公开一种蒸镀装置。蒸镀装置包括本体以及设置于本体上方的覆盖体。本体包括蒸发部以及熔融部,熔融部的底部设有开孔,熔融部设置于蒸发部的下方,以及蒸发部及熔融部可分别独立拆解。另外,蒸镀装置还包括用于承载蒸镀材料的承载部、连接杆、压力传感器及旋转马达,以及蒸镀装置的加热源采用两段式独立温度控制的加热单元。
Description
技术领域
本发明是有关于一种蒸镀装置,特别是有关于一种采用两段式独立温度控制的蒸镀装置。
背景技术
目前,主要以加热蒸发镀膜的方式制作有机发光二极管(Organic LightEmitting Diode),蒸镀装置在真空环境下加热蒸镀材料,接着使汽化的蒸镀材料沉积在薄膜晶体管或基板上,进而在薄膜晶体管或基板上形成薄膜。
然而,习知的蒸镀装置所具有的熔融部与蒸发部是一体成形且无法拆解。当蒸镀装置处于预熔状态时,待蒸镀材料仍保持蒸发状态,导致过多的蒸镀材料附着到蒸镀装置的内壁上,产生蒸镀材料利用率低的问题。故,有必要提供一种改良的蒸镀装置,以提高蒸镀材料的利用率,降低有机发光二极管的制造成本。
发明内容
本发明提供一种蒸镀装置。蒸镀装置包括本体以及设置于本体上方的覆盖体以及加热源。本体包括蒸发部以及熔融部。熔融部的底部设有开孔,熔融部设置于蒸发部的下方,以及蒸发部与熔融部可分别独立拆解。加热源用以加热蒸发部和熔融部。
在本发明的一实施例中,蒸镀装置还包括用于承载蒸镀材料的承载部、连接杆、压力传感器及旋转马达。
在本发明的一实施例中,承载部设置于连接杆的第一端,压力传感器设置于连接杆的第二端,连接杆的第一端与连接杆的第二端彼此相对,旋转马达设置于压力传感器的下方,以及连接杆穿过熔融部的底部开孔。
在本发明的一实施例中,当蒸镀装置进行蒸镀时,旋转马达以的一方向转动转动,连接杆的第一端的承载部向上移动至蒸发部;以及当蒸镀装置完成蒸镀时,旋转马达以相反于第一方向的第二方向转动,连接杆的第一端的承载部向下移动至熔融部。
在本发明的一实施例中,蒸镀装置的加热源采用两段式独立温度控制的加热单元,两段式独立温度包括预熔温度及蒸发温度,预熔温度低于蒸发温度。
在本发明的一实施例中,两段式独立温度控制的加热单元包括蒸发部加热单元及熔融部加热单元,蒸发部加热单元用以加热蒸发部至蒸发温度,熔融部加热单元用以加热熔融部至预熔温度。
在本发明的一实施例中,当蒸镀装置进行蒸镀时,蒸发部的温度高于熔融部的温度。
在本发明的一实施例中,当蒸镀装置进行蒸镀时,压力传感器依据承载部的总重量并通过连接杆及旋转马达调整承载部在蒸发部内的高度。
在本发明的一实施例中,当蒸镀装置处于预熔状态时,压力传感器显示的数值为K1,承载部与压力传感器之间的距离为H1,蒸镀材料的重量为G1;当蒸镀装置处于蒸镀状态时,随着蒸镀的进行,蒸镀材料减少,此时压力传感器显示的数值为K2,承载部与压力传感器之间的距离为H2,蒸镀材料的重量为G2,以及关系式如下所示:
H2=(K1×H1×G1)/(K2×G2)。
在本发明的一实施例中,蒸发部呈现圆柱形及熔融部呈现梯形。
附图说明
图1是本发明实施例的蒸镀装置结构示意图;
图2是本发明实施例的蒸镀装置在起始进行蒸镀时的结构示意图;以及
图3是本发明实施例的蒸镀装置在进行蒸镀一段时间后的结构示意图。
具体实施方式
参照图1,本发明的实施例提供一种蒸镀装置10。蒸镀装置10包括本体11以及设置于本体11上方的覆盖体14。本体11包括蒸发部12以及熔融部13,熔融部13的底部设有开孔,熔融部13设置于蒸发部12的下方,以及蒸发部12及熔融部13可分别独立拆解。另外,蒸镀装置10还包括用于承载蒸镀材料的承载部15、连接杆16、压力传感器17及旋转马达18,以及蒸镀装置10的加热源20采用两段式独立温度控制的加热单元。详言之,承载部15设置于连接杆16的第一端,压力传感器17设置于连接杆16的第二端,连接杆16的第一端与连接杆16的第二端彼此相对,旋转马达18设置于压力传感器17的下方,以及连接杆16穿过熔融部13的底部开孔。
参照图2及图3,当准备进行蒸镀时,连接杆16的第一端的承载部15上置有待蒸镀材料,此时承载部15位在蒸镀装置10的熔融部13内,此时蒸镀材料处于预融状态,接着旋转马达18以第一方向转动,承载部15向上移动至蒸发部12,同时压力传感器17依据承载部15的总重量并通过连接杆16及旋转马达18调整承载部15在蒸发部12内的高度,进而使得在连接杆16的第一端的承载部15会移动到固定蒸发高度。接着通过调整加热单元使得蒸镀材料的蒸镀率提升至预设值,此时蒸镀材料的蒸镀率处于最稳定的状态,且蒸发部12内的温度高于熔融部13的温度。优选地,蒸镀装置10的加热源20采用两段式独立温度控制的加热单元,其中两段式独立温度控制的加热单元包括蒸发部加热单元21及熔融部加热单元22,蒸发部加热单元21用以加热蒸发部至蒸发温度,熔融部加热单元22用以加热熔融部至预熔温度,以及蒸发部12呈现圆柱形及熔融部13呈现梯形。当蒸镀装置10完成蒸镀时,旋转马达18以相反于第一方向的第二方向转动,在连接杆16的第一端的承载部15会从蒸发部12向下移动至熔融部13。
参照图2及图3,进一步而言,承载部15上升的高度会随着压力传感器17显示的数值而有所变化,以下描述如何计算承载部15与压力传感器17之间的距离。当蒸镀装置10处于预熔状态时,压力传感器17显示的数值为K1,承载部15与压力传感器17之间的距离为H1,承载部15上的蒸镀材料的重量为G1;当蒸镀装置10处于蒸镀状态时,随着蒸镀的进行,承载部15上的蒸镀材料会减少,此时压力传感器显示17的数值为K2,承载部15与压力传感器17之间的距离为H2,蒸镀材料的重量为G2,并且有以下关系式:
H2=(K1×H1×G1)/(K2×G2)。
综上述而言,本发明提供的蒸镀装置具有可分别独立拆解得蒸发部及熔融部,因此可以提高蒸镀材料的利用率,降低有机发光二极管的制造成本。
虽然本发明结合其具体实施例而被描述,应该理解的是,许多替代、修改及变化对于那些本领域的技术人员将是显而易见的。因此,其意在包含落入所附权利要求书的范围内的所有替代、修改及变化。
Claims (10)
1.一种蒸镀装置,其特征在于,包括:
本体;以及
设置于所述本体上方的覆盖体;
其中所述本体包括:
蒸发部;
熔融部,其中所述熔融部的底部设有开孔,所述熔融部设置于所述蒸发部的下方,以及所述蒸发部与所述熔融部可分别独立拆解;以及
加热源,其中所述加热源用以加热所述蒸发部和熔融部。
2.如权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,还包括用于承载蒸镀材料的承载部、连接杆、压力传感器及旋转马达。
3.如权利要求2所述的蒸镀装置,其特征在于,所述承载部设置于所述连接杆的第一端,所述压力传感器设置于所述连接杆的第二端,所述连接杆的第一端与所述连接杆的第二端彼此相对,所述旋转马达设置于所述压力传感器的下方,以及所述连接杆穿过所述熔融部的底部开孔。
4.如权利要求3所述的蒸镀装置,其特征在于,当所述蒸镀装置进行蒸镀时,所述旋转马达以第一方向转动,所述连接杆的第一端的所述承载部向上移动至所述蒸发部;以及当所述蒸镀装置完成蒸镀时,所述旋转马达以相反于第一方向的第二方向转动,所述连接杆的第一端的所述承载部向下移动至所述熔融部。
5.如权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述蒸镀装置的加热源采用两段式独立温度控制的加热单元,所述两段式独立温度包括预熔温度及蒸发温度,预熔温度低于蒸发温度。
6.如权利要求5所述的蒸镀装置,其特征在于,所述两段式独立温度控制的加热单元包括蒸发部加热单元及熔融部加热单元,所述蒸发部加热单元用以加热蒸发部至蒸发温度,所述熔融部加热单元用以加热熔融部至预熔温度。
7.如权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,当所述蒸镀装置进行蒸镀时,所述蒸发部的温度高于所述熔融部的温度。
8.如权利要求2所述的蒸镀装置,其特征在于,当所述蒸镀装置进行蒸镀时,所述压力传感器依据所述承载部的总重量并通过所述连接杆及所述旋转马达调整所述承载部在所述蒸发部内的高度。
9.如权利要求2所述的蒸镀装置,其特征在于,当所述蒸镀装置处于预熔状态时,所述压力传感器显示的数值为K1,所述承载部与所述压力传感器之间的距离为H1,所述蒸镀材料的重量为G1;当所述蒸镀装置处于蒸镀状态时,随着蒸镀的进行,所述蒸镀材料减少,此时所述压力传感器显示的数值为K2,所述承载部与所述压力传感器之间的距离为H2,所述蒸镀材料的重量为G2,以及关系式如下所示:
H2=(K1×H1×G1)/(K2×G2)。
10.如权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述蒸发部呈现圆柱形及所述熔融部呈现梯形。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201910595503.0A CN110218977B (zh) | 2019-07-03 | 2019-07-03 | 蒸镀装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201910595503.0A CN110218977B (zh) | 2019-07-03 | 2019-07-03 | 蒸镀装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN110218977A true CN110218977A (zh) | 2019-09-10 |
CN110218977B CN110218977B (zh) | 2021-04-27 |
Family
ID=67815818
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201910595503.0A Active CN110218977B (zh) | 2019-07-03 | 2019-07-03 | 蒸镀装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN110218977B (zh) |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004323876A (ja) * | 2003-04-22 | 2004-11-18 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | 電子ビーム蒸発源 |
JP2007231368A (ja) * | 2006-03-01 | 2007-09-13 | Fujifilm Corp | 蒸着材料蒸発装置 |
US20080226271A1 (en) * | 2007-03-08 | 2008-09-18 | Applied Materials, Inc. | Evaporation crucible and evaporation apparatus with adapted evaporation characteristic |
CN102482762A (zh) * | 2010-06-16 | 2012-05-30 | 松下电器产业株式会社 | 薄膜的制造方法 |
WO2014142097A1 (ja) * | 2013-03-12 | 2014-09-18 | キヤノントッキ株式会社 | 蒸発源装置 |
CN206666631U (zh) * | 2017-04-26 | 2017-11-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种线性蒸发源系统及蒸镀装置 |
CN107805783A (zh) * | 2017-11-30 | 2018-03-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 蒸发源、蒸镀设备及蒸镀控制方法 |
CN108138309A (zh) * | 2015-10-06 | 2018-06-08 | 株式会社爱发科 | 材料供给装置及蒸镀装置 |
-
2019
- 2019-07-03 CN CN201910595503.0A patent/CN110218977B/zh active Active
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004323876A (ja) * | 2003-04-22 | 2004-11-18 | Nippon Hoso Kyokai <Nhk> | 電子ビーム蒸発源 |
JP2007231368A (ja) * | 2006-03-01 | 2007-09-13 | Fujifilm Corp | 蒸着材料蒸発装置 |
US20080226271A1 (en) * | 2007-03-08 | 2008-09-18 | Applied Materials, Inc. | Evaporation crucible and evaporation apparatus with adapted evaporation characteristic |
CN102482762A (zh) * | 2010-06-16 | 2012-05-30 | 松下电器产业株式会社 | 薄膜的制造方法 |
WO2014142097A1 (ja) * | 2013-03-12 | 2014-09-18 | キヤノントッキ株式会社 | 蒸発源装置 |
CN108138309A (zh) * | 2015-10-06 | 2018-06-08 | 株式会社爱发科 | 材料供给装置及蒸镀装置 |
CN206666631U (zh) * | 2017-04-26 | 2017-11-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种线性蒸发源系统及蒸镀装置 |
CN107805783A (zh) * | 2017-11-30 | 2018-03-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 蒸发源、蒸镀设备及蒸镀控制方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN110218977B (zh) | 2021-04-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN103774095B (zh) | 线性沉积源及包括该线性沉积源的真空沉积装置 | |
KR101172275B1 (ko) | 기화 장치 및 이의 제어 방법 | |
JP2007535275A5 (zh) | ||
JP6250940B2 (ja) | 蒸発源装置 | |
CN110218977A (zh) | 蒸镀装置 | |
US20080128094A1 (en) | Evaporation Source Device | |
CN103492624B (zh) | 具有高的针脚形成精度的无缝类型的圆形织袜机器 | |
KR101218228B1 (ko) | 균일 비율에서의 물질 기화 방법 | |
CN103726022A (zh) | 一种有机材料加热蒸镀源 | |
US10711340B2 (en) | Baffle device for evaporation apparatus and evaporation apparatus | |
TW200913060A (en) | Evaporation control unit, evaporation apparatus having the same, and method for controlling evaporation | |
US20120055198A1 (en) | Apparatus for fabricating a glass rod and method of same | |
JP2017536480A (ja) | 大面積基板のコーティング用装置 | |
CN207481322U (zh) | 一种糊盒机的烧边机构 | |
CN207552515U (zh) | 升降式导丝架 | |
KR20190129368A (ko) | 증착 공정용 멀티 노즐 증착기 | |
KR101499228B1 (ko) | 증착 장치 및 증착 방법 | |
CN104762585B (zh) | 一种利用金属丝导引熔融金属涂覆的成形装置及方法 | |
CN102168347A (zh) | 一种管式牵伸纺粘设备摆丝器 | |
US1796929A (en) | Apparatus for and method of feeding molten glass | |
KR102104574B1 (ko) | 물질증발량 조절이 가능한 선형증발원 | |
CN109773444A (zh) | 一种多功能发热丝组装机 | |
CN208960258U (zh) | 一种加热流延涂膜机 | |
KR101334158B1 (ko) | 소스가스 공급장치 및 방법 | |
WO2016005090A1 (en) | A display device comprising a stand |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
CB02 | Change of applicant information | ||
CB02 | Change of applicant information |
Address after: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province Applicant after: TCL Huaxing Photoelectric Technology Co.,Ltd. Address before: 9-2 Tangming Avenue, Guangming New District, Shenzhen City, Guangdong Province Applicant before: Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co.,Ltd. |
|
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |