CN110212110A - 显示面板及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
本申请提供了一种显示面板及其制作方法。所述显示面板包括显示区和环绕所述显示区的阻挡墙，所述阻挡墙的顶部具有多个平行设置的凹槽结构，所述多个凹槽结构的延伸方向平行于所述阻挡墙的延伸方向。本申请通过在阻挡墙顶部设置多个凹槽结构，提高了单一的阻挡墙对有机封装层的阻挡能力。通过合理的设置凹槽结构的数目、位置和深度，本申请能够在避免有机阻挡层外溢的情况下将阻挡墙的数目减小到一条，有效的减小了阻挡墙所占的面积，有利于增加显示面板的屏占比。
Description
技术领域
本申请涉及电子显示领域，尤其涉及一种显示面板及其制作方法。
背景技术
现有技术的有机自发光二极管(organic light emitting diode, OLED)显示面板通常采用薄膜封装结构实现显示区的密封。薄膜封装结构的成本低且密封效果好，在OLED显示面板中得到了广泛的应用。
薄膜封装结构通常包括至少一层有机阻挡层。由于有机阻挡层的具有流动性，因此需要在显示面板的显示区外围设置多层阻挡墙以防止有机阻挡层溢出，影响封装效果。阻挡墙侧存在增大了非显示区的面积，为了提高显示面板的屏占比，需要尽可能在保证阻挡墙的阻挡效果的同时减小阻挡墙的数目，以减小阻挡墙的所占的面积。
申请内容
本申请提供了一种显示面板及其制作方法，能够有效的减小阻挡墙所占的面积。
为解决上述问题，本申请提供了一种显示面板，所述显示面板包括显示区和环绕所述显示区的阻挡墙，所述阻挡墙的顶部具有多个平行设置的凹槽结构，所述多个凹槽结构的延伸方向平行于所述阻挡墙的延伸方向。
根据本申请的其中一个方面，所述阻挡墙还包括多个盖帽结构，所述多个盖帽结构位于所述多个凹槽结构两侧的阻挡墙顶部。
根据本申请的其中一个方面，所述多个凹槽结构的深度大于或等于所述阻挡墙高度的四分之一，所述盖帽结构的高度小于或等于所述凹槽结构的最小深度。
根据本申请的其中一个方面，所述多个凹槽结构具有不同的深度，所述多个盖帽结构具有不同的高度。
根据本申请的其中一个方面，所述凹槽结构的深度与所述凹槽结构距离所述显示区的距离正相关，距离所述显示区最近的凹槽结构的深度小于距离所述显示区最远的凹槽结构的深度。
根据本申请的其中一个方面，所述阻挡墙包括：
第一区段，所述第一区段包括多个第一子区段，所述多个第一子区段沿所述多个第一区段的长度方向延伸，相邻的两个第一子区段之间具有第一间隔；
第二区段，所述第二区段与所述第一区段平行设置，所述第二区段包括多个第二子区段，相邻的两个第二子区段之间具有第二间隔，所述多个第二子区段的位置与所述多个第一个间隔的位置相对应，所述多个第一子区段的位于与所述多个第二间隔的位置相对应；以及
多个连接段，所述多个连接段位于所述第一区段和第二区段之间，用于连接每一个第一子区段和与所述第一子区段相邻的两个第二子区段。
根据本申请的其中一个方面，，所述多个第一子区段的长度相等，所述多个第一间隔的长度相等，所述多个第二子区段的长度相等，所述多个第二间隔的长度相等。
根据本申请的其中一个方面，所述多个第一子区段的长度大于所述多个第二间隔的长度，所述多个第二子区段的长度大于所述第一间隔的长度。
根据本申请的其中一个方面，所述第一区段和所述第二区段之间的距离大于或等于所述第一区段和第二区段的宽度之和，小于或等于所述第一区段和第二区段的宽度之和的两倍。
相应的，本申请还提供了一种显示面板的制作方法，该方法包括以下步骤：
提供基板，在所述基板上形成显示区；
形成环绕所述显示区的阻挡墙；
在所述阻挡墙顶部形成第一绝缘层；
将所述第一绝缘层图形化，形成多个平行设置的盖帽结构，所述多个盖帽结构的延伸方向平行于所述阻挡墙的延伸方向；
以所述盖帽结构为掩膜版，对所述阻挡墙进行刻蚀，形成多个平行设置的凹槽结构。
本申请通过在阻挡墙顶部设置多个凹槽结构，提高了单一的阻挡墙对有机封装层的阻挡能力。通过合理的设置凹槽结构的数目、位置和深度，本申请能够在避免有机阻挡层外溢的情况下将阻挡墙的数目减小到一条，有效的减小了阻挡墙所占的面积，有利于增加显示面板的屏占比。
附图说明
图1为本申请的一个具体实施例中的显示面板的结构示意图；
图2为图1中的显示面板的阻挡墙在形成多个凹槽结构之前沿A1-A2方向的剖面图；
图3为图1中的显示面板的阻挡墙在形成多个凹槽结构之后沿A1-A2方向的剖面图；
图4为本申请的一个具体实施例中的阻挡墙的结构示意图；
图5为本申请的另一个具体实施例中的阻挡墙的结构示意图；
图6为图5中的阻挡墙的俯视图；
图7为图2中的显示面板形成薄膜封装结构之后的剖面图；
图8为本申请的另一个实施例中的阻挡墙的俯视图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本申请可用以实施的特定实施例。本申请所提到的方向用语，例如[上]、 [下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本申请，而非用以限制本申请。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。
参见图1，图1为本申请的一个具体实施例中的显示面板的结构示意图。所述显示面板包括显示区110、环绕所述显示区110的非显示区120和位于所述非显示区120下方的弯折区130。所述非显示区120中包括第一阻挡墙121以及环绕所述第一阻挡墙121 的第二阻挡墙122。在弯折区130上方，为了减小阻挡墙的面积，弯折区上方的阻挡墙仅设置了一层，即第三阻挡墙410。为了增强第三阻挡墙410的阻挡效果，本申请对所述第三阻挡墙410的结构进行了改进。
参见图2、图3和图7，图2为图1中的显示面板的阻挡墙在形成多个凹槽结构之前沿A1-A2方向的剖面图，图3为图1中的显示面板的阻挡墙在形成多个凹槽结构之后沿A1-A2方向的剖面图，图7为图2中的显示面板形成薄膜封装结构之后的剖面图。
本申请中，所述显示面板包括柔性基板200，所述显示区110 和非显示区120均位于所述柔性基板200上。所述显示区110包括薄膜晶体管层310、覆盖所述薄膜晶体管层310的平坦化层320、位于所述平坦化层320上发的像素定义层340以及位于所述像素定义层340的多个开口之中的多个发光结构330。
所述非显示区120包括环绕所述显示区110的阻挡墙410，所述阻挡墙410的顶部具有多个平行设置的凹槽结构422。参见图6，所述多个凹槽结构422的延伸方向平行于所述阻挡墙410的延伸方向。
薄膜封装结构500覆盖所述显示区和非显示区。可以看出，所述凹槽结构422能够将所述薄膜封装结构500中的无机薄膜限制在凹槽结构中，使有机阻挡材料无法溢出，从而通过单一的阻挡墙即可实现对有机阻挡材料的密封。
下面将结合具体实施例对本申请进行详细说明。
参见图7，所述阻挡墙410还包括多个盖帽结构421，所述多个盖帽结构421位于所述多个凹槽结构两侧的阻挡墙410顶部。
参见图2和图3，所述凹槽结构422和盖帽结构421的形成方法为：首先在所述阻挡墙410顶部形成第一绝缘层420，之后将所述第一绝缘层420图形化，形成多个平行设置的盖帽结构421，所述多个盖帽结构421的延伸方向平行于所述阻挡墙410的延伸方向，最后以所述盖帽结构421为掩膜版，对所述阻挡墙410进行刻蚀，形成多个平行设置的凹槽结构422。本实施例中，采用同一工艺流程同时形成所述凹槽结构422和盖帽结构421，能够节省工艺成本，简化工艺流程。
本实施例中，为了增强所述凹槽结构422对无机薄膜的限制能力，所述所述多个凹槽结构422的深度大于或等于所述阻挡墙410 高度的四分之一，所述盖帽结构421的高度小于或等于所述凹槽结构422的最小深度。
本申请中，通过控制刻蚀工艺的参数，可以使所述多个凹槽结构422具有不同的深度，所述多个盖帽结构421具有不同的高度，如图3所示。当然，在本申请的其他实施例中，如图4所示，所述多个凹槽结构422具有相同的深度，所述多个盖帽结构421具有相同的高度。相同规格的多个凹槽结构422和盖帽结构421更加容易实现，降低了工艺难度。
参见图5，在本申请的另一个实施例中，所述凹槽结构422的深度与所述凹槽结构422距离所述显示区110的距离正相关，距离所述显示区110最近的凹槽结构422的深度小于距离所述显示区最远的凹槽结构422的深度。同样的，所述盖膜结构421的高度也与所述盖帽结构421距离所述显示区110的距离正相关，距离所述显示区110最近的盖帽结构421的高度小于距离所述显示区最远的盖帽结构421的高度。
本申请中，为了进一步增强所述阻挡墙410的阻挡能力，对所述阻挡墙410的结构进行了进一步优化。参见图8，所述阻挡墙410 包括第一区段、第二区段和多个连接段1233。
所述第一区段包括多个第一子区段1231，所述多个第一子区段1231沿所述多个第一区段的长度方向延伸，相邻的两个第一子区段1231之间具有第一间隔。所述第二区段与所述第一区段平行设置，所述第二区段包括多个第二子区段1232，相邻的两个第二子区段1232之间具有第二间隔，所述多个第二子区段1232的位置与所述多个第一个间隔的位置相对应，所述多个第一子区段1231 的位于与所述多个第二间隔的位置相对应。
所述多个连接段1233位于所述第一区段和第二区段之间，用于连接每一个第一子区段1231和与所述第一子区段1231相邻的两个第二子区段1232。
参见图8，本实施例中，所述多个第一子区段1231的长度相等，所述多个第一间隔的长度相等，所述多个第二子区段1232的长度相等，所述多个第二间隔的长度相等。所述多个第一子区段1231 的长度大于所述多个第二间隔的长度，所述多个第二子区段1232 的长度大于所述第一间隔的长度。所述第一区段和所述第二区段之间的距离大于或等于所述第一区段和第二区段的宽度之和，小于或等于所述第一区段和第二区段的宽度之和的两倍。
本实施例中，每一个第一子区段1231和与所述第一子区段 1231连接的两个连接段1233构成一个梯形结构，每一个第二子区段1232和与所述第二子区段1232连接的两个连接段1233构成一个梯形结构，所述梯形结构能够对阻挡墙处的无机薄膜产生三次阻挡，从而极大的提高了所述阻挡墙的阻挡能力。
相应的，本申请还提供了一种显示面板的制作方法，该方法包括以下步骤：
提供基板200，在所述基板200上形成显示区120；
形成环绕所述显示区110的阻挡墙410；
在所述阻挡墙410顶部形成第一绝缘层420；
将所述第一绝缘层420图形化，形成多个平行设置的盖帽结构 421，所述多个盖帽结构421的延伸方向平行于所述阻挡墙410的延伸方向；
以所述盖帽结构421为掩膜版，对所述阻挡墙410进行刻蚀，形成多个平行设置的凹槽结构422。
本申请通过在阻挡墙顶部设置多个凹槽结构，提高了单一的阻挡墙对有机封装层的阻挡能力。通过合理的设置凹槽结构的数目、位置和深度，本申请能够在避免有机阻挡层外溢的情况下将阻挡墙的数目减小到一条，有效的减小了阻挡墙所占的面积，有利于增加显示面板的屏占比。
综上所述，虽然本申请已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本申请，本领域的普通技术人员，在不脱离本申请的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本申请的保护范围以权利要求界定的范围为准。
Claims (10)
1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括显示区和环绕所述显示区的阻挡墙，所述阻挡墙的顶部具有多个平行设置的凹槽结构，所述多个凹槽结构的延伸方向平行于所述阻挡墙的延伸方向。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阻挡墙还包括多个盖帽结构，所述多个盖帽结构位于所述多个凹槽结构两侧的阻挡墙顶部。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述多个凹槽结构的深度大于或等于所述阻挡墙高度的四分之一，所述盖帽结构的高度小于或等于所述凹槽结构的最小深度。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述多个凹槽结构具有不同的深度，所述多个盖帽结构具有不同的高度。
5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述凹槽结构的深度与所述凹槽结构距离所述显示区的距离正相关，距离所述显示区最近的凹槽结构的深度小于距离所述显示区最远的凹槽结构的深度。
6.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阻挡墙包括：
第一区段，所述第一区段包括多个第一子区段，所述多个第一子区段沿所述多个第一区段的长度方向延伸，相邻的两个第一子区段之间具有第一间隔；
第二区段，所述第二区段与所述第一区段平行设置，所述第二区段包括多个第二子区段，相邻的两个第二子区段之间具有第二间隔，所述多个第二子区段的位置与所述多个第一个间隔的位置相对应，所述多个第一子区段的位于与所述多个第二间隔的位置相对应；以及
多个连接段，所述多个连接段位于所述第一区段和第二区段之间，用于连接每一个第一子区段和与所述第一子区段相邻的两个第二子区段。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述多个第一子区段的长度相等，所述多个第一间隔的长度相等，所述多个第二子区段的长度相等，所述多个第二间隔的长度相等。
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述多个第一子区段的长度大于所述多个第二间隔的长度，所述多个第二子区段的长度大于所述第一间隔的长度。
9.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述第一区段和所述第二区段之间的距离大于或等于所述第一区段和第二区段的宽度之和，小于或等于所述第一区段和第二区段的宽度之和的两倍。
10.一种显示面板的制作方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：
提供基板，在所述基板上形成显示区；
形成环绕所述显示区的阻挡墙；
在所述阻挡墙顶部形成第一绝缘层；
将所述第一绝缘层图形化，形成多个平行设置的盖帽结构，所述多个盖帽结构的延伸方向平行于所述阻挡墙的延伸方向；
以所述盖帽结构为掩膜版，对所述阻挡墙进行刻蚀，形成多个平行设置的凹槽结构。
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