CN110128171A - 类坯体型泥浆化妆土及陶瓷砖的制备工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种类坯体型泥浆化妆土及陶瓷砖的制备工艺。类坯体型泥浆化妆土,按重量份由以下组份组成:泥沙料浆45%~80%;釉面砖回收料浆10%~50%;硅灰石2%~5%;羧甲基纤维素钠0~0.5%;三聚磷酸钠0~0.5%;木质素0~0.5%;水玻璃0~0.5%;焦磷酸钠0~1%;六聚偏磷酸钠0~0.5%。制备工艺包括:⑴坯体压制:批量均化的矿物原料;⑵坯体干燥:⑶干燥温度:100~280℃,干燥时间90~120分钟;⑷施类坯体型泥浆化妆土;⑸图案装饰;⑹淋透明釉:比重控制为1.75~1.80,恩式粘度控制为30~40S;⑺烧成:温度1170~1190℃,时间80~90分钟;⑻抛光磨边。

Description

类坯体型泥浆化妆土及陶瓷砖的制备工艺
技术领域
本发明涉及陶瓷技术领域,特别涉及一种类坯体型泥浆化妆土及陶瓷 砖的制备工艺。
背景技术
近年来,建筑陶瓷行业通体大理石、通体釉面砖等全抛釉产品已成为 市场的主流产品,按传统坯釉适应性要求,陶瓷砖产品坯的膨胀系数需略 大于釉的膨胀系数,使釉中产生不大的压应力,可以在提高釉的热稳定性 及力学强度的情况下而不出现裂纹。而全抛釉产品生产通常采用坯体压制 →淋化妆土→装饰印花→淋透明釉的工艺流程,其中化妆土及透明釉通常 采用钾长石、钠长石、霞石、硅灰石、烧滑石、石英、硅酸锆等化工料为 原料,而坯体原料通常就地取材,采用成分较复杂的原矿为原料。由于抛 釉砖产品在生产后工序中需要对砖面进行抛光,因此,坯体、化妆土、透 明釉三者的坯釉匹配性比传统工艺要求更高,一般要求是坯体膨胀系数略 大于化妆土膨胀系数,化妆土膨胀系数略大于透明釉膨胀系数。由于坯 体、化妆土、透明釉三者的原料选择和配方结构不同,其化学组成和膨胀系数也存在差异,且三者的膨胀系数随陶瓷砖高温烧成温度变化趋势难以 一致,因此导致全抛类产品在高温烧成过程中易产生波浪变形,使砖面表 面平整度变差的问题,从而造成半成品后抛光工序难以进行的现象。虽然 陶瓷砖国家标准GB/T4100~2016对陶瓷砖表面平整度的要求是在2mm范围 内,但通常情况下,为保证半成品陶瓷砖在抛光工序中不会被抛露底,行 业中全抛釉产品砖面表面平整度要求控制在上凸或下凹≤1.0mm,不过有 些色系的产品如灰色系的产品抛光对砖面表面平整度要求更高,抛的釉层 厚度不一致较容易出现抛光黄边现象,影响产品质量。另一方面,随着我 国优质矿物资源枯竭,优质化工原料越来越少,价格不断攀升,而化妆土 配方受原料波动影响又较大,如此一来每次原料稍有波动都需要进行一番 从头到尾的实验才能找出合适的化妆土配方以保证生产稳定进行。
发明内容
本发明的目的是提供一种替代以化工料为原料的传统化妆土,减少因 优质化工原料资源枯竭所引起的产品质量波动,稳定生产成本的类坯体型 泥浆化妆土,同时,通过在化妆土配方中引入釉面砖回收料,不但可以减 缓陶瓷废渣对环境的污染,还可利用釉面砖回收料结构与坯体相似且已经 过高温烧结类似熔块的特性能增强坯釉结合性,从而获得一种与坯体结合 性能好,膨胀系数匹配砖形表面平整度好的陶瓷砖。本发明的另一目的是 提供一种以矿物为主要原料,采用泥沙料浆,掺入釉面砖回收料浆,通过 配比调整及优化,兼具坯釉结合性能,将传统全抛釉结构坯体+淋化妆土+ 淋透明釉,优化成坯体混合体+透明釉结构,将传统全抛釉性质存在差别 的三层坯釉层转化成结构、性质、功能更为接近的坯釉两层,在陶瓷砖辊 道窑烧成过程中,避免了传统全抛釉产品三层物料随温度变化,其化学结 构与性能产生差异变化,进而导致抛釉产品经过辊道窑烧成后陶瓷砖表面 平整度差,甚至砖形变形缺陷的类坯体型泥浆化妆土陶瓷砖的制备工艺。
本发明的技术解决方案是所述类坯体型泥浆化妆土,其特殊之处在 于,所述化妆土按重量份由以下组份组成:
作为优选:高温透明釉全抛类坯体型泥浆化妆土,按重量份由以下组 份组成:
所制得的陶瓷砖砖面表面平整度为上凸0.1mm,下凹0.2mm。
作为优选:低温透明釉全抛类坯体型泥浆化妆土,按重量份由以下组 份组成:
所制得的陶瓷砖砖面表面平整度为上凸0.3mm,下凹0.2mm。
作为优选:所述泥沙料浆,按重量份由以下组份组成:
作为优选:所述泥沙料浆,按重量份由以下组份组成:
所述泥沙料浆的制备过程:按所述配方称量,进入球磨机,加入设定 量的水球磨4~5H,细度控制为325目筛筛余4%~5%,含水率33%~36%。
作为优选:所述釉面砖回收料浆指将高温烧结后的釉面废砖所制成的 浆料;所述釉面砖回收料浆的制备过程:釉面废砖经过粗破碎工序后投入 球磨机,加入0.1%羧甲基纤维素钠、0.5%三聚磷酸钠、0.6%焦磷酸钠及设 定量的水,球磨6~7H,细度控制为325目筛筛余1%~3%,含水率33%~ 35%。
作为优选:所述类坯体型泥浆化妆土的制备过程:按类坯体型泥浆化 妆土配方配料,投入球磨机球磨2~3H,细度控制为325目筛筛余0.5~ 0.7%,恩式粘度控制为40~50S,比重1.75~1.80。
本发明的另一技术解决方案是所述使用类坯体型泥浆化妆土制备陶瓷 砖的制备工艺,其特殊之处在于,包括以下步骤:
⑴坯体压制:采用经过批量完全均化的矿物原料;
⑵坯体干燥:
⑶干燥温度:100~280℃,干燥时间90~120分钟;
⑷施类坯体型泥浆化妆土:采用钟罩淋釉器或者直线淋釉器施釉;
⑸图案装饰:在类坯体型泥浆化妆土上采用喷墨印花方式喷印装饰图 案;
⑹淋透明釉:采用常规透明釉,比重控制为1.75~1.80,恩式粘度控 制为30~40S,采用钟罩淋釉器或者直线淋釉器施釉;
⑺烧成:温度1170~1190℃,时间80~90分钟;
⑻抛光磨边。
作为优选:步骤⑴中所述的矿物原料按重量份由以下组份组成:
作为优选:步骤⑸中所述的装饰图案,根据产品明暗度要求不同,选 择在喷印装饰图案前,采用胶辊或平板加印一层白色釉料;或者,根据产 品图案特点喷印白色墨水,以获得明亮度更好的图案装饰效果。
作为优选:制得的陶瓷砖砖面表面平整度在上凸或下凹≤0.5mm,满 足后面抛光工序要求。
与现有技术相比,本发明的有益效果:
⑴本发明将传统全抛釉结构坯体+淋化妆土+淋透明釉,优化成坯体混 合体+透明釉结构,将传统全抛釉性质存在差别的三层坯釉层转化成结 构、性质、功能更为接近的坯釉两层,在陶瓷砖辊道窑烧成过程中,避免 传统全抛釉产品三层物料随温度变化,其化学结构与性能产生差异变化, 进而导致抛釉产品经过辊道窑烧成后陶瓷砖表面平整度差,甚至砖形变形 缺陷,实践证明坯体混合体+透明釉结构更利于全抛釉产品砖形表面平整 度调整,同时,掺入釉面砖回收料作为配方原料,不但可以减少废弃物对 环境的污染,还可利用釉面砖回收料结构与坯体相似且已经过高温烧结类 似熔块的特性,增强坯釉结合性,提高产品质量。
⑵本发明得到的泥沙料浆和釉面砖回收料浆需分别采用大浆池批量组 批均匀,使配方结构均匀一致,利于产品生产稳定。
⑶本发明减少因优质化工原料资源枯竭所引起的产品质量波动,稳定 生产成本,同时,通过在化妆土配方中引入釉面砖回收料,不但可以减缓 陶瓷废渣对环境的污染,还可利用釉面砖回收料结构与坯体相似且已经过 高温烧结类似熔块的特性能增强坯釉结合性,从而获得一种与坯体结合性 能好,膨胀系数匹配砖形表面平整度好的陶瓷砖。
具体实施方式
本发明下面将结合实施例作进一步详述:
所述高温透明釉全抛类坯体型泥浆化妆土,按重量份由以下组份组 成:
所制得的陶瓷砖砖面表面平整度为上凸0.1mm,下凹0.2mm。
所述低温透明釉全抛类坯体型泥浆化妆土,按重量份由以下组份组 成:
所制得的陶瓷砖砖面表面平整度为上凸0.3mm,下凹0.2mm。
本实施例中,所述泥沙料浆的制备过程:按江西瓷石28%,奉新高温 砂15%,抚州黑泥10%,丰城水洗泥14%,宜春锂砂20%,镁质泥12%,硅灰 石4%,羧甲基纤维素钠0.5%,木质素0.25%,水玻璃0.25%配方称量,进 入球磨机,加入48%水球磨4H,细度控制为325目筛筛余4%~5%,含水率 34%~36%;
本实施例中,所述釉面砖回收料浆指将高温烧结后的釉面废砖所制成 的浆料;所述釉面砖回收料浆的制备过程:釉面废砖经过粗破碎工序后投 入球磨机,加入0.1%羧甲基纤维素钠、0.5%三聚磷酸钠、0.6%焦磷酸钠及 46%水,球磨6.5H,细度控制为325目筛筛余1%~3%,含水率33%~35%。
本实施例中,所述类坯体型泥浆化妆土的制备过程:按类坯体型泥浆 化妆土配方配料,投入球磨机球磨2~3H,细度控制为325目筛筛余0.5~ 0.7%,恩式粘度控制为45~47S,比重1.75±0.02。
所述使用类坯体型泥浆化妆土制备陶瓷砖的制备工艺,其特征在于, 包括以下步骤:
⑴坯体压制:采用经过批量完全均化的矿物原料;
坯体原料就地取材,采用品位普通、但贮量较大,经过批量完全均化 的矿物原料,所述矿物原料按重量份由以下组份组成:
江西瓷石30% 奉新高温砂18% 抚州黑泥15% 丰城水洗泥22%
宜春锂砂10% 镁质泥3% 膨润土1%。
⑵坯体干燥:
⑶干燥温度:210℃,干燥时间105分钟;
⑷施类坯体型泥浆化妆土:采用钟罩淋釉器或者直线淋釉器施釉;
⑸图案装饰:在类坯体型泥浆化妆土上采用喷墨印花方式喷印装饰图 案;所述装饰图案,根据产品明暗度要求不同,选择在喷印装饰图案前, 采用胶辊或平板加印一层白色釉料;或者,根据产品图案特点喷印白色墨 水,以获得明亮度更好的图案装饰效果;
⑹淋透明釉:采用常规透明釉,比重控制为1.78±0.02,恩式粘度控 制为36~38S,采用钟罩淋釉器或者直线淋釉器施釉;
⑺烧成:温度1190℃,时间85分钟;
制得的陶瓷砖砖面表面平整度在上凸或下凹≤0.5mm,满足后面抛光 工序要求;
⑻抛光磨边。
以上所述仅为本发明的较佳实施例,凡依本发明权利要求范围所做的 均等变化与修饰,皆应属本发明权利要求的涵盖范围。

Claims (10)

1.一种类坯体型泥浆化妆土,其特征在于,所述化妆土按重量份由以下组份组成:
2.根据权利要求1所述类坯体型泥浆化妆土,其特征在于,高温透明釉全抛类坯体型泥浆化妆土,按重量份由以下组份组成:
所制得的陶瓷砖砖面表面平整度为上凸0.1mm,下凹0.2mm。
3.根据权利要求1所述类坯体型泥浆化妆土,其特征在于,低温透明釉全抛类坯体型泥浆化妆土,按重量份由以下组份组成:
所制得的陶瓷砖砖面表面平整度为上凸0.3mm,下凹0.2mm。
4.根据权利要求1所述类坯体型泥浆化妆土,其特征在于,所述泥沙料浆,按重量份由以下组份组成:
所述泥沙料浆的制备过程:按所述配方称量,进入球磨机,加入设定量的水球磨4~5H,细度控制为325目筛筛余4%~5%,含水率33%~36%。
5.根据权利要求1所述类坯体型泥浆化妆土,其特征在于,所述釉面砖回收料浆指将高温烧结后的釉面废砖所制成的浆料;所述釉面砖回收料浆的制备过程:釉面废砖经过粗破碎工序后投入球磨机,加入0.1%羧甲基纤维素钠、0.5%三聚磷酸钠、0.6%焦磷酸钠及设定量的水,球磨6~7H,细度控制为325目筛筛余1%~3%,含水率33%~35%。
6.根据权利要求1所述类坯体型泥浆化妆土,其特征在于,所述类坯体型泥浆化妆土的制备过程:按类坯体型泥浆化妆土配方配料,投入球磨机球磨2~3H,细度控制为325目筛筛余0.5~0.7%,恩式粘度控制为40~50S,比重1.75~1.80。
7.一种使用类坯体型泥浆化妆土制备陶瓷砖的制备工艺,其特征在于,包括以下步骤:
⑴坯体压制:采用经过批量完全均化的矿物原料;
⑵坯体干燥:
⑶干燥温度:100~280℃,干燥时间90~120分钟;
⑷施类坯体型泥浆化妆土:采用钟罩淋釉器或者直线淋釉器施釉;
⑸图案装饰:在类坯体型泥浆化妆土上采用喷墨印花方式喷印装饰图案;
⑹淋透明釉:采用常规透明釉,比重控制为1.75~1.80,恩式粘度控制为30~40S,采用钟罩淋釉器或者直线淋釉器施釉;
⑺烧成:温度1170~1190℃,时间80~90分钟;
⑻抛光磨边。
8.根据权利要求7所述使用类坯体型泥浆化妆土制备陶瓷砖的工艺,其特征在于,步骤⑴中所述的矿物原料按重量份由以下组份组成:
江西瓷石30% 奉新高温砂18% 抚州黑泥15% 丰城水洗泥22%
宜春锂砂10% 镁质泥 3% 膨润土 1%。
9.根据权利要求7所述使用类坯体型泥浆化妆土制备陶瓷砖的工艺,其特征在于,步骤⑸中所述的装饰图案,根据产品明暗度要求不同,选择在喷印装饰图案前,采用胶辊或平板加印一层白色釉料;或者,根据产品图案特点喷印白色墨水,以获得明亮度更好的图案装饰效果。
10.根据权利要求7所述使用类坯体型泥浆化妆土制备陶瓷砖的工艺,其特征在于,制得的陶瓷砖砖面表面平整度在上凸或下凹≤0.5mm,满足后面抛光工序要求。
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