CN110039382A - 一种大尺寸超薄钽酸锂晶圆片的减薄方法 - Google Patents

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Abstract

一种大尺寸超薄钽酸锂晶圆片的减薄方法。本发明提供了一种“大尺寸、超薄”钽酸锂晶圆片的减薄方法,属于半导体材料减薄技术领域。包括下列步骤:提供钽酸锂晶圆片,并用酸性腐蚀液腐蚀晶圆;采用不同型号砂轮对晶圆片进行分段式减薄,加工时调节砂轮转速、工件进给速度进行减薄。本发明可解决大尺寸超薄晶圆片加工过程中的碎片问题,通过采用逐级减薄方式,分阶段去除前一道留下的损伤层,提高了后工序的加工效率和加工质量。

Description

一种大尺寸超薄钽酸锂晶圆片的减薄方法
技术领域
本发明涉及半导体材料减薄技术领域,具体涉及一种半导体材料钽酸锂晶圆减薄方法。
背景技术
钽酸锂是一种重要的功能材料,它具有压电性、介电性、热释电性以及电光效应、非线性光学效应和声光效应等重要特性,在航空航天,通信技术、国防等领域得到广泛应用,如压控滤波器、声表面波(SAW)滤波器、窄带滤波器、光子可调滤波器等重要的新型元器件。
目前,在欧、美、日、韩、俄,制造6英寸及以上钽酸锂单晶已经不是难事。实际上,发展“大尺寸、超薄”钽酸锂晶圆片加工技术,不仅可以显著降低生产成本、提高产量,也是现代企业追求的目标,更重要的是可以向高端应用领域拓展,表面积更大的晶片能够提高材料的利用率。由此不难看出,“大尺寸、超薄”钽酸锂晶圆片加工技术关系着未来。遗憾的是,我国绝大多数企业尚不具备6英寸及以上超薄钽酸锂晶圆晶片的加工技术。
钽酸锂晶圆生产过程中,需要进行减薄工艺处理。目前主流的减薄技术为双面研磨技术,该技术通过上、下研磨盘作相反方向转动,晶圆在载体内作既公转又自转的游星运动,在磨料和研磨盘压力作用下减薄晶圆。但在实际生产过程中,当“大尺寸、超薄”钽酸锂晶圆片厚度减薄到一定值时,往往会出现裂纹、碎片等问题。此外,通过双面研磨减薄技术的晶圆表面损伤层深度大,严重影响抛光效率和质量。
发明内容
为解决“大尺寸、超薄”减薄时碎裂,减薄损伤层深度大等问题,本发明提供了一种“大尺寸、超薄”钽酸锂晶圆片的减薄方法,通过酸性溶液腐蚀晶圆片,并采用砂轮和晶圆的旋转以及砂轮进给进行单面减薄,该方法一方面可解决超薄晶圆加工过程中的碎片问题,另一方面,通过采用逐级减薄方式,分阶段去除前一道留下的损伤层,提高了后工序的加工效率和加工质量。
本发明采用的技术方案,包括以下步骤:
(1)提供待减薄的钽酸锂晶圆;
(2)用粗砂轮进行粗减薄;
(3)用细砂轮进行精减薄;
(4)加工前开启冷却水,加工时选择合适砂轮转速,晶圆转速和砂轮进给速度进行减薄,加工超薄钽酸锂晶片。
上述步骤(1)中,提供的钽酸锂晶圆直径为150mm及以上,厚度为150微米及以上。
上述步骤(1)中,提供的钽酸锂晶圆经过酸性腐蚀液腐蚀和去离子水清洗干净。
上述步骤(2)中,钽酸锂晶圆采用真空吸附方式固定在旋转平台上。
上述步骤(2)中,所述砂轮为树脂结合剂金刚石砂轮,砂轮磨粒2000目,直径200mm以上,砂轮几何形状为矩形的金刚石砂轮。
上述步骤(3)中,所述砂轮为树脂结合剂金刚石砂轮,砂轮磨粒4000目,直径200mm以上,砂轮几何形状为矩形的金刚石砂轮。
上述步骤(4)中,冷却水为去离子水,温度为5~40摄氏度。
砂轮转速800~2000rpm,晶圆转速200~400rpm,粗减薄中砂轮进给速率15-20um/min,精减薄中砂轮进给速率10-15um/min。
本发明具有的优点:(1)采用粗、精减薄方式,避免裂纹的产出和前工序裂纹的扩展,可实现厚度150um及以上,直径150mm及以上“大尺寸、超薄”钽酸锂晶圆片的减薄。(2)本发明减薄效率高,可用于大批量生产,加工后表面损伤层小于3um,表面粗糙度小于20nm,极大降低了下工序的材料去除量。
附图说明
图1是钽酸锂减薄流程示意图
图2是钽酸锂减薄结构示意图
图3是矩形树脂结合剂金刚石砂轮的示意图
图4是减薄后钽酸锂晶圆表面粗糙度示意图
具体实施方式
为使本发明技术方案更加详细,下面结合附图,一种钽酸锂晶圆减薄方法步骤:
(1)提供一待减薄的钽酸锂晶圆,直径150mm,厚度200um;
(2)用酸性腐蚀液腐蚀晶圆5分钟,腐蚀温度为25℃,酸液中硝酸质量百分比20%,氢氟酸质量百分比10%,再用去离子水进行清洗,能够有效去除表面杂质;
(3)进入粗减薄阶段,晶圆利用真空吸盘吸附固定,加工时砂轮转速1500rpm,晶圆转速300rpm,砂轮进给速率20um/min,冷却水温度20摄氏度,减薄量40um,加工时采用冷却水冲洗表面杂质。精减薄阶段,晶圆利用真空吸盘吸附固定,加工时砂轮转速800rpm,晶圆转速300rpm,砂轮进给速率10um/min,冷却水温度20摄氏度,减薄量20um,最终减薄至190um。在减薄终止前,延时进行无火花(Spark out)抛光作用,由于采用了较小的进给速度,磨削力较小,磨削区冷却散热条件好,排屑通畅,使晶片减薄后的表面质量进一步提高,加工后表面无划痕表面粗糙度18nm。

Claims (7)

1.一种大尺寸超薄钽酸锂晶圆片的减薄方法,其特征在于:具体包括如下步骤:
⑴ 提供待减薄的钽酸锂晶圆片;
⑵ 用酸性腐蚀液腐蚀晶圆片,将晶片表面的脏污、颗粒物、有机物、及表面晶粉腐蚀脱落;晶片表面微裂纹的愈合,防止裂纹扩散,再进行去离子水清洗;
⑶ 加工前开启冷却水,加工时选择合适砂轮转速,晶圆转速和砂轮进给速度进行减薄,加工钽酸锂晶片;
⑷ 采用逐级减薄方式,分阶段减薄至目标厚度,获得低损伤表面晶圆。
2.如权利要求1所述提供的钽酸锂晶圆直径为150mm及以上,厚度为150um及以上。
3.如权利要求1所述酸液中硝酸质量百分比为20%以上,氢氟酸质量百分比为10%以上,腐蚀晶圆5分钟以上,腐蚀温度为25℃±5℃,完成后去离子水冲洗。
4.如权利要求1所述的钽酸锂晶圆片采用真空吸附方式固定在旋转平台上。
5.如权利要求1所述的冷却水为去离子水,所述砂轮为树脂结合剂金刚石砂轮,分别为2000目和4000目。
6.如权利要求1所述的冷却水温度范围5~40摄氏度,冷却水流量5l/min以上,砂轮转速800~2000rpm,晶圆转速200~400rpm ,砂轮进给速度10~20um/min。
7.如权利要求1所述,逐级减薄方式分为粗减薄和精减薄,精减薄砂轮进给速度需较慢,在减薄终止前,延时进行无火花抛光作用,进一步提高晶圆片表面质量,加工后表面无划痕、裂纹;表面粗糙度小于20纳米。
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