CN110032011B - 一种狭缝电极的曝光方法 - Google Patents

一种狭缝电极的曝光方法 Download PDF

Info

Publication number
CN110032011B
CN110032011B CN201910462211.XA CN201910462211A CN110032011B CN 110032011 B CN110032011 B CN 110032011B CN 201910462211 A CN201910462211 A CN 201910462211A CN 110032011 B CN110032011 B CN 110032011B
Authority
CN
China
Prior art keywords
scanning
strip
driving
slit electrode
pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201910462211.XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN110032011A (zh
Inventor
黎午升
李付强
姚琪
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201910462211.XA priority Critical patent/CN110032011B/zh
Publication of CN110032011A publication Critical patent/CN110032011A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN110032011B publication Critical patent/CN110032011B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343Electrodes
    • G02F1/134309Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/165Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on translational movement of particles in a fluid under the influence of an applied field
    • G02F1/166Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on translational movement of particles in a fluid under the influence of an applied field characterised by the electro-optical or magneto-optical effect
    • G02F1/167Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on translational movement of particles in a fluid under the influence of an applied field characterised by the electro-optical or magneto-optical effect by electrophoresis
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70358Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

本发明提供一种狭缝电极的曝光方法,属于显示技术领域,其可至少部分解决现有的狭缝电极的曝光方法形成的狭缝电极具有形状偏差的问题。本发明的一种狭缝电极的曝光方法,用于通过数字曝光设备根据驱动图形形成狭缝电极,其中驱动图形用于驱动数字曝光设备以扫描方式对与驱动图形对应的图案进行曝光,方法包括:获取待形成的狭缝电极的目标图形,形成与目标图形相同的第一驱动图形;根据预设方式对第一驱动图形进行修正,得到第二驱动图形;根据第二驱动图形驱动数字曝光设备对覆盖狭缝电极材料层的光刻胶层进行曝光。

Description

一种狭缝电极的曝光方法
技术领域
本发明属于显示技术领域,具体涉及一种狭缝电极的曝光方法。
背景技术
现有技术中,在部分显示面板中可设有狭缝电极,即具有条状部和位于条状部间的狭缝的电极。狭缝电极通常采用形成狭缝电极材料层-涂覆光刻胶层-曝光(对光刻胶层进行曝光)-显影-刻蚀的方法形成。
狭缝电极的一种曝光方法通过数字曝光设备来完成,具体的,首先向数字曝光设备中输入要形成的狭缝电极的图形(目标图形),数字曝光设备再根据该图形对覆盖在狭缝电极材料层上的光刻胶进行扫描曝光,最后以曝光显影之后的光刻胶层为掩膜版形成狭缝电极。在此过程中,数字曝光设备能够在很大程度上降低掩膜版的制作成本、制作周期和复杂度,同时数字曝光设备精确度很高,可能实现亚微米级(0.7um)分辨率。
然而,通过数字曝光设备形成的狭缝电极具有形状偏差的缺陷,从的造成具有该狭缝电极的显示面板具有云纹缺陷。
发明内容
本发明至少部分解决现有的狭缝电极的曝光方法形成的狭缝电极具有形状偏差的问题,提供一种形成无形状偏差的狭缝电极的曝光方法。
解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种狭缝电极的曝光方法,用于通过数字曝光设备根据驱动图形形成狭缝电极,其中所述驱动图形用于驱动所述数字曝光设备以扫描方式对与所述驱动图形对应的图案进行曝光,所述方法包括:
获取待形成的狭缝电极的目标图形,形成与所述目标图形相同的第一驱动图形;
根据预设方式对所述第一驱动图形进行修正,得到第二驱动图形;
根据所述第二驱动图形驱动所述数字曝光设备对覆盖狭缝电极材料层的光刻胶层进行曝光。
进一步优选的是,所述第一驱动图形包括多个间隔的第一条状部和所述第一条状部之间的狭缝,其中所述第一条状部对应第一狭缝的至少部分边缘为平滑的第一边缘;
所述第二驱动图形包括多个对应第一条状部的第二条状部和所述第二条状部之间的狭缝,所述第二条状部具有对应所述第一边缘的、非平滑的第二边缘;沿扫描方向每个所述第二条状部由多个依次排布的平行四边形的扫描块构成,每个所述扫描块在平行于所述扫描方向的尺寸为扫描单次的宽度,每个所述扫描块包括相对的两个第一边和相对的两个第二边,每个所述第二条状部中任意相邻的两个所述扫描块的第一边至少部分相互重合,且所述第一边垂直于所述扫描方向。
进一步优选的是,所述第一边与所述第二边的夹角不为直角,且所述第二边与所述第二条状部的长度方向平行。
进一步优选的是,所述第一边与所述第二边的夹角为直角。
进一步优选的是,每个所述第二条状部的所有奇数扫描块的中心位于第一直线上,所有偶数扫描块的中心位于第二直线上,其中,所述第一直线、所述第二直线、该第二条状部的长度方向相互平行。
进一步优选的是,所述第一直线和所述第二直线之间的距离为0.08~0.12微米。
进一步优选的是,所述扫描方向与所述第二条状部的长度方向的夹角为大于或等于0°且小于30°。
进一步优选的是,每个所述第二条状部的扫描块分为多个第一组和第二组,且同一组中的扫描块依次相邻排布,所述第一组和第二组间隔分布,每个第一组中扫描块的中心的连线为第三直线且所有第三直线相互平行,每个第二组中扫描块的中心的连线为第四直线,所有第四直线相互平行且所述第四直线与所述第三直线有夹角。
进一步优选的是,在每个所述第二组中,相邻所述扫描块在垂直于所述扫描方向的方向上距离为0.08~0.12微米。
进一步优选的是,所述扫描方向与所述第二条状部的长度方向的夹角为大于或等于30°且小于45°。
附图说明
图1为本发明的实施例的一种狭缝电极的曝光方法的流程图;
图2为本发明的实施例的一种狭缝电极的曝光方法中的第一驱动图形的结构示意图;
图3a为本发明的实施例的一种狭缝电极的曝光方法中的第二驱动图形的结构示意图;
图3b为图3a的第二驱动图形的局部放大图;
图4a为本发明的实施例的一种狭缝电极的曝光方法中的第二驱动图形的结构示意图;
图4b为图4a的第二驱动图形的局部放大图;
其中,附图标记为:1第一驱动图形;11第一条状部;2第二驱动图形;21第二条状部;22扫描块;23第一边;24第二边。
具体实施方式
为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案,下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。
以下将参照附图更详细地描述本发明。在各个附图中,相同的元件采用类似的附图标记来表示。为了清楚起见,附图中的各个部分没有按比例绘制。此外,在图中可能未示出某些公知的部分。
在下文中描述了本发明的许多特定的细节,例如部件的结构、材料、尺寸、处理工艺和技术,以便更清楚地理解本发明。但正如本领域的技术人员能够理解的那样,可以不按照这些特定的细节来实现本发明。
实施例1:
如图1至图4b 所示,本实施例提供一种狭缝电极的曝光方法,用于通过数字曝光设备根据驱动图形形成狭缝电极,其中驱动图形用于驱动数字曝光设备以扫描方式对与驱动图形对应的图案进行曝光,方法包括:
S11、获取待形成的狭缝电极的目标图形,形成与目标图形相同的第一驱动图形1。
S12、根据预设方式对第一驱动图形1进行修正,得到第二驱动图形2。
其中,预设方式可以是根据实际操作的经验或者由计算机计算得出的。
S13、根据第二驱动图形2驱动数字曝光设备对覆盖狭缝电极材料层的光刻胶层进行曝光。
本实施例的狭缝电极的曝光方法中,通过对第一驱动图形1 进行修正得到第二驱动图形2,使得最终形成的狭缝电极的形状不会有偏差,与现有技术(形成的狭缝电极具有形状偏差的缺陷) 相比,本实施例的方法可形成形状更加精准的狭缝电极,从而提高狭缝电极的尺寸的精确度,进而可避免具有该狭缝电极的显示面板出现云纹缺陷。
实施例2:
如图1至图4b 所示,本实施例提供一种狭缝电极的曝光方法,用于通过数字曝光设备根据驱动图形形成狭缝电极,其中驱动图形用于驱动数字曝光设备以扫描方式对与驱动图形对应的图案进行曝光,方法包括:
S11、获取待形成的狭缝电极的目标图形,形成与目标图形相同的第一驱动图形1。
优选的,第一驱动图形1包括多个间隔的第一条状部11和第一条状部11之间的狭缝,其中第一条状部11对应第一狭缝的至少部分边缘为平滑的第一边缘(即图2中第一条状部11左右两侧的边)。
S12、根据预设方式对第一驱动图形1进行修正,得到第二驱动图形2。
其中,预设方式可以是根据实际操作的经验或者由计算机计算得出的,从而按照预设方式修正后,可得到不同于第一驱动图形1(也不同于狭缝电极的目标图形)的第二驱动图形2。
经过实践发现,用这样的第二驱动图形2驱动数字曝光设备工作时,反而可以得到与目标图形相同的曝光结果。
优选的,如图3a和图4a所示,第二驱动图形2包括多个对应第一条状部11的第二条状部21和第二条状部21之间的狭缝,第二条状部21具有对应第一边缘的第二边缘;沿扫描方向每个第二条状部21由多个依次排布的平行四边形的扫描块22构成,每个扫描块22在平行于扫描方向的尺寸为扫描单次的宽度,每个扫描块22包括相对的两个第一边23和相对的两个第二边24,每个第二条状部21中任意相邻的两个扫描块22的第一边23至少部分相互重合,且第一边23垂直于扫描方向。
也就是说第二驱动图形2整体上的形状仍然与第一驱动图形 1类似,同样具有条状部和狭缝,且其中第二条状部21具有与对应的第一条状部11相同的长度方向,但第二条状部21的边缘不再是完全平滑的,而由多个扫描块22构成的阶梯状的边缘。
具体的,第二条状部21的宽度W(相当于第一边23的长度) 与狭缝的宽度S之和为0.5~10um,优选的为2~6um;其中,第二条状部21的宽度为0.5~6um,优选为1~4um,狭缝的宽度为 0.5~6um,优先为1~4um。
需要说明的是,多个第二条状部21是平行设置的,数字曝光设备的扫描有多次,例如第一次扫描对应所有第二条状部21的第一个扫描块22,第二次扫描对应所有第二条状部21的第二个扫描块22,第三次扫描对应所有第二条状部21的第三个扫描块22等,这样扫描方向指第一次扫描位置指向第二个扫描块22位置的方向,或者第二次扫描位置指向第三个扫描块22位置的方向等。
优选的,扫描块22的形状的一种情况:第一边23与第二边 24的夹角不为直角,且第二边24与第二条状部21的长度方向平行。
其中,也就是说扫描块22的第二边24仍然平行于第二条状部21的长度方向,但第二条状部21的第二边缘整体为阶梯状。
优选的,扫描块22的形状的另一种情况:第一边23与第二边24的夹角为直角。
其中,也就是说不论第二条状部21的长度方向如何,扫描块 22都是矩形的。
优选的,如图3a和图 3b所示,扫描块22的排布的一种情况:每个第二条状部21的所有奇数扫描块22的中心位于第一直线上,所有偶数扫描块22的中心位于第二直线上,其中,第一直线、第二直线、该第二条状部21的长度方向(图3b中的虚线箭头所示) 相互平行。
其中,也就是说每个第二条状部21的相邻两个扫描块22是错位分部的,且与同一个扫描块22相邻的两个扫描块22的错位方向相反。
进一步的,第一直线和第二直线之间的距离为0.08~0.12微米,优选为0.1微米。
其中,也就是说与同一个扫描块22相邻的两个扫描块22的错位距离为0.1微米。
进一步的,扫描方向与第二条状部21的长度方向(图3b中的虚线箭头所示)的夹角为大于或等于0°且小于30°。
以上的图形,如图3a和图3b所示,特别适用于扫描方向与第二条状部21的长度方向的夹角较小的情况。
优选的,如图4a 和图 4b所示,扫描块22的排布的另一种情况:每个第二条状部21的扫描块22分为多个第一组和第二组,且同一组中的扫描块22依次相邻排布,第一组和第二组间隔分布,每个第一组中扫描块22的中心的连线为第三直线且所有第三直线相互平行,每个第二组中扫描块22的中心的连线为第四直线,所有第四直线相互平行且第四直线与第三直线有夹角。
例如,每个第二条状部21中从第一个扫描块22的一端开始,前n个扫描块22为第一组且非错位排布;第n+1至第2n个扫描块22为第二组,该组中相邻两个扫描块22是错位分部的且与同一个扫描块22相邻的两个扫描块22的错位方向相同;第2n+1至第3n个扫描块22为第一组且非错位排布,以此类推。
进一步的,在每个第二组中,相邻扫描块22在垂直于扫描方向的方向上距离为0.08~0.12微米,优选为微米。
进一步的,扫描方向与第二条状部21的长度(图4b中的虚线箭头所示)方向的夹角为大于或等于30°且小于45°。
需要说明的是,实际操作中,若第二驱动图形2满足上述形状,且第二条状部21的长度方向与扫描方向的夹角为45°至90°之间时,可将第二驱动图形2整体旋转90°(也可理解为改变扫描方向),以实现上述的第二驱动图形2与扫描方向的位置关系;若第二驱动图形2满足上述形状,且第二条状部21的长度方向与扫描方向的夹角大于90°时,可将第二驱动图形2整体旋转180° (也可理解为改变扫描方向),以实现上述的第二驱动图形2与扫描方向的位置关系。
S13、根据第二驱动图形2驱动数字曝光设备对覆盖狭缝电极材料层的光刻胶层进行曝光。
S14、以曝光之后的光刻胶层为掩膜,对狭缝电极材料层进行刻蚀,以形成狭缝电极。
具体的,该狭缝电极形成的显示装置可为液晶显示面板、电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
本实施例的狭缝电极的曝光方法中,通过对第一驱动图形1 进行修正得到第二驱动图形2,使得最终形成的狭缝电极的形状不会有偏差,与现有技术(形成的狭缝电极具有形状偏差的缺陷) 相比,本实施例的方法可形成形状更加精准的狭缝电极,从而保证狭缝电极的尺寸,进而可避免具有该狭缝电极的显示面板不会出现云纹缺陷。
应当说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
依照本发明的实施例如上文所述,这些实施例并没有详尽叙述所有的细节,也不限制该发明仅为所述的具体实施例。显然,根据以上描述,可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例,是为了更好地解释本发明的原理和实际应用,从而使所属技术领域技术人员能很好地利用本发明以及在本发明基础上的修改使用。本发明仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。

Claims (5)

1.一种狭缝电极的曝光方法,其特征在于,用于通过数字曝光设备根据驱动图形形成狭缝电极,其中所述驱动图形用于驱动所述数字曝光设备以扫描方式对与所述驱动图形对应的图案进行曝光,所述方法包括:
获取待形成的狭缝电极的目标图形,形成与所述目标图形相同的第一驱动图形;
根据预设方式对所述第一驱动图形进行修正,得到第二驱动图形;
根据所述第二驱动图形驱动所述数字曝光设备对覆盖狭缝电极材料层的光刻胶层进行曝光;
所述第一驱动图形包括多个间隔的第一条状部和所述第一条状部之间的狭缝,其中所述第一条状部对应第一狭缝的至少部分边缘为平滑的第一边缘;
所述第二驱动图形包括多个对应第一条状部的第二条状部和所述第二条状部之间的狭缝,所述第二条状部具有对应所述第一边缘的、非平滑的第二边缘;沿扫描方向每个所述第二条状部由多个依次排布的平行四边形的扫描块构成,每个所述扫描块在平行于所述扫描方向的尺寸为扫描单次的宽度,每个所述扫描块包括相对的两个第一边和相对的两个第二边,每个所述第二条状部中任意相邻的两个所述扫描块的第一边至少部分相互重合,且所述第一边垂直于所述扫描方向;
多个第二条状部是平行设置的,且所述多个扫描块构成阶梯状的边缘;
其中,每个所述第二条状部的扫描块分为多个第一组和第二组,且同一组中的扫描块依次相邻排布,所述第一组和第二组间隔分布,每个第一组中扫描块的中心的连线为第三直线且所有第三直线相互平行,每个第二组中扫描块的中心的连线为第四直线,所有第四直线相互平行且所述第四直线与所述第三直线有夹角。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述第一边与所述第二边的夹角不为直角,且所述第二边与所述第二条状部的长度方向平行。
3.根据权利要求1所述的方法,所述第一边与所述第二边的夹角为直角。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在每个所述第二组中,相邻所述扫描块在垂直于所述扫描方向的方向上距离为0.08~0.12微米。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述扫描方向与所述第二条状部的长度方向的夹角为大于或等于30°且小于45°。
CN201910462211.XA 2019-05-30 2019-05-30 一种狭缝电极的曝光方法 Active CN110032011B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910462211.XA CN110032011B (zh) 2019-05-30 2019-05-30 一种狭缝电极的曝光方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910462211.XA CN110032011B (zh) 2019-05-30 2019-05-30 一种狭缝电极的曝光方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN110032011A CN110032011A (zh) 2019-07-19
CN110032011B true CN110032011B (zh) 2022-08-19

Family

ID=67243696

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910462211.XA Active CN110032011B (zh) 2019-05-30 2019-05-30 一种狭缝电极的曝光方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN110032011B (zh)

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007310334A (ja) * 2006-05-19 2007-11-29 Mikuni Denshi Kk ハーフトーン露光法を用いた液晶表示装置の製造法
JP2008250072A (ja) * 2007-03-30 2008-10-16 Fujifilm Corp 描画装置及び方法
CN101320222A (zh) * 2008-07-02 2008-12-10 中国科学院光电技术研究所 基于数字微镜阵列的步进式无掩模数字曝光装置
JP2011008201A (ja) * 2009-06-29 2011-01-13 Hitachi Displays Ltd 表示装置の製造方法および液晶表示装置
CN106997156B (zh) * 2017-03-27 2018-11-06 深圳市优盛科技有限公司 在高弧度三维立体上制备高精度线路图形的曝光方法
CN109814328B (zh) * 2019-03-28 2022-06-10 京东方科技集团股份有限公司 虚拟掩膜板、掩膜板及其制作方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN110032011A (zh) 2019-07-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2910997B1 (en) Display device apparatus and manufacturing method thereof
CN101526708B (zh) 阵列基板和液晶显示装置
US20210296392A1 (en) Flat Panel Array with the Alignment Marks in Active Area
JP4959631B2 (ja) グレースケールマスク
CN105789223B (zh) 一种阵列基板及其制作方法、显示面板、显示装置
CN1713044A (zh) 液晶显示设备
US20170148858A1 (en) Array Substrate and Display Device
CN110032011B (zh) 一种狭缝电极的曝光方法
CN104880851A (zh) 一种ahva显示器的液晶面板
US20230418112A1 (en) Liquid crystal phase modulation device having spacer in liquid crystal layer
US10935833B2 (en) Display apparatus and display substrate having a display area and a black matrix area, and method of fabricating display substrate and display apparatus
JP2009251013A (ja) アクティブマトリクス型液晶表示装置および表示装置の製造方法
EP3644119B1 (en) Liquid crystal phase modulation device and method for fabricating the same
JPWO2018016485A1 (ja) フォトマスク、フォトマスク製造方法、及びフォトマスクを用いたカラーフィルタの製造方法
EP3217217A1 (en) Array substrate, display device and manufacturing method for array substrate
CN114924437B (zh) 阵列基板及其制备方法、显示装置
EP3346495B1 (en) Array substrate, and manufacturing method and display device therefor
CN112522667B (zh) 一种掩膜版及其制备方法
US9733569B2 (en) Mask, method of manufacturing the same, and method of manufacturing a display panel using the same
EP0332401B1 (en) Improvements in liquid crystal displays
US11953791B2 (en) Display panel and method for manufacturing the same
US20200341387A1 (en) Photomask
JP2011081204A (ja) 液晶表示パネルの製造方法および液晶表示装置
JP5413872B2 (ja) 表示装置およびその製造方法
CN109507851B (zh) 显示面板和显示装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant