CN110018580B - 一种电动调光元件 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及的是一种电动调光元件。本发明包括基片、结合力涂层、防反射层、第一防扩散层、透明导电层、第一隔离层、第一调光层、离子输送层、第二调光层、第二隔离层、低辐射层、第二防扩散层、颜色调节层。本发明可以提高电动调光元件的膜层结合力，颜色调节性，调光速度和均匀性。
Description
技术领域
本发明涉及调光的技术，特别是涉及一种电动调光的技术，具体涉及一种电动调光元件。
背景技术
电动调光是指在外加电场的作用下，材料的颜色、反射率、透射率以及吸收率等性能够根据电场的大小与极性发生可逆的变化。电动调光元件可以和不同的基材结合起来。把电动调光元件与玻璃结合起来可以形成电动调光玻璃，从而能够通过电压控制实现对玻璃光学性能的控制。电动调光玻璃可选择性地吸收或反射外界热辐射和阻止内部热扩散，节约建筑物夏天的空调费和冬天的采暖费，调节室内采光和温度，同时可以保证对室外的观赏视野。除了建筑行业，随着研发的深入，电动调光器件在无眩光镜、显示器、建筑节能玻璃、航空航天温控装置等技术领域越来越有广泛的应用和发展前景。
当前的电动调光技术应用刚刚起步，还存在很多问题，比如调光速度慢、成本高、光透过率均匀性难以控制、光透过率调节范围窄等，这些都限制了电动调光技术的应用。
发明内容
本发明进一步对电动调光元件的构造和布局进行了创新改进，旨在提供一种调光速度快、光透过率均匀性好以及光透过率调节范围广的电动调光元件。
鉴于此，本发明提供一种电动调光元件，包括基片，其特征在于，所述基片上依次设置有结合力涂层、防反射层、第一防扩散层、透明导电层、第一隔离层、第一调光层、离子输送层、第二调光层、第二隔离层、低辐射层、第二防扩散层、颜色调节层。
可选地，所述结合力涂层的组成包括硅的氧化物、锆的氧化物、铌的氧化物和钒的氧化物中的一种或多种的混合物；
可选地，所述结合力涂层的厚度为1～300纳米，优选为1～200纳米，更优选为1～100纳米。
可选地，所述防反射层的组成包括硅的氧化物、锆的氧化物、铌的氧化物和铜的氧化物中的一种或多种的混合物；
可选地，所述防反射层的厚度为1～300纳米，优选为1～200纳米，更优选为1～100纳米。
可选地，所述第一防扩散层的组成包括钛的氧化物、钽的氧化物和锌的氧化物中的一种或多种的混合物；
可选地，所述第一防扩散层的厚度为1～300纳米，优选为1～200纳米，更优选为1～100纳米。
可选地，所述透明导电层的组成包括氧化铟锡和掺氟的氧化锡中的一种或多种的混合物，可选地，氧化锡中氟的掺杂比例为1～30％；
可选地，所述透明导电层的厚度为100～1000纳米，优选为100～900纳米，更优选为100～700纳米。
可选地，所述第一隔离层的组成包括钛的氧化物、钴的氧化物、锰的氧化物、硅的氧化物、钼的氧化物中的一种或多种的混合物；
可选地，所述第一隔离层的厚度为1～300纳米，优选为1～200纳米,更优选为1～100纳米。
可选地，所述第一调光层的组成包括钨的氧化物、钒的氧化物、镁的氧化物、钼的氧化物、铌的氧化物和镍的氧化物中的一种或多种的混合物；
可选地，所述第一调光层的厚度为60～1000纳米，优选为60～900纳米，更优选为60～800纳米。
可选地，所述第二调光层的组成包括掺锂、氢或氦的锰的氧化物、钛的氧化物、铌的氧化物、锡的氧化物、镍的氧化物、钨的氧化物和铁的氧化物中的一种或多种的混合物；可选地，所述锂、氢或氦各自的掺杂比例为1-50％；
可选地，所述第二调光层的厚度为10～1000纳米，优选为10～900纳米，更优选为10～800纳米。
可选地，所述第二隔离层的组成包括钛的氧化物、钴的氧化物、锰的氧化物、硅的氧化物、钼的氧化物中的一种或多种的混合物；
可选地，所述第二隔离层的厚度为1～300纳米，优选为1～200纳米，更优选为1～100纳米。
可选地，所述低辐射层的组成包括氧化铟锡、掺氟的氧化锡(可选地，氟的掺杂比例为1～40％)和掺铝的氧化锌(可选地，铝的掺杂比例为1～40％)中的一种或多种的混合物；
可选地，所述低辐射层的厚度为100～1000纳米，优选为100～900纳米，更优选为100～700纳米。
可选地，所述第二防扩散层的组成包括钼的氧化物、钨的氧化物和锆的氧化物中的一种或多种的混合物；
可选地，所述第二防扩散层的厚度为1～300纳米，优选为1～200纳米，更优选为1～100纳米。
可选地，所述颜色调节层的组成包括硅的氧化物、钒的氧化物、锌的氧化物和铌的氧化物中的一种或多种的混合物；
可选地，所述颜色调节层的厚度为1～300纳米，优选为1～200纳米，更优选为1～100纳米。
可选地，第一调光层和第二调光层之间还设置有离子输送层；
可选地，所述离子输送层的组成包括掺锂或氢的硅的氧化物、钨的氧化物、钛的氧化物和锰的氧化物中的一种或多种的混合物；可选地，锂或氢的掺杂比例为1～40％；
可选地，所述离子输送层的厚度为1～300纳米，优选为1～200纳米，更优选为1～100纳米。
可选地，所述硅的氧化物为SiOx(x＝1～2)，优选为SiO2(氧化硅)；所述钛的氧化物为TiOx(x＝1～2)，优选为TiO2(氧化钛)；所述锌的氧化物为ZnOx(x＝1～2)，优选为ZnO(氧化锌)；所述锆的氧化物为ZrOx(x＝1～2)，优选为ZrO2(氧化锆)；所述铌的氧化物为NbOx(x＝1～2.5)，优选为NbO2(氧化铌)；所述钒的氧化物为VOx(x＝1～2.5)，优选为氧化钒(O13V6)；所述钨的氧化物为WOx(x＝1～3)，优选为氧化钨(WO2)；所述镁的氧化物为MgOx(x＝1～2)，优选为氧化镁(MgO)；所述钼的氧化物为MoOx(x＝1～3)，优选为氧化钼(MoO3)所述镍的氧化物为NiOx(x＝1～2)，优选为氧化镍(NiO)；所述锡的氧化物为SnOx(x＝1～2)，优选为氧化锡(SnO2)；所述锰的氧化物为MnOx(x＝1～2)，优选为氧化锰(MnO)；所述铁的氧化物为FeOx(x＝1～2)，优选为1.0～1.5；所述钽的氧化物为TaOx(x＝1～3)，优选为氧化钽(Ta2O5)，所述铜的氧化物为CuOx(x＝1～2)，优选为氧化铜(CuO)。
可选地，所述的基片为普通玻璃、白玻璃、超白玻璃、塑料、陶瓷或金属材料；可选地，所述基片的厚度为0.01～12毫米。
本发明另一方面，提供上述的电动调光元件的制造方法，其特征在于，在基片上依次采用溅射法镀制上述结合力涂层、防反射层、透明导电层、第一调光层、第二调光层、低辐射层和颜色调节层；
或者在基片上依次采用溅射法镀制上述结合力涂层、防反射层、透明导电层、第一调光层、离子输送层、第二调光层、低辐射层、颜色调节层。
可选地，所述溅射法采用磁控溅射法；
可选地，所述溅射法采用的靶为平面阴极靶或旋转阴极靶，优先采用旋转阴极靶。
有益效果：
本发明电动调光元件简单合理，膜层结合力好(膜层脱落的概率小于0.01％)，调光速度快，光透过率均匀性好以及光透过率调节范围广。所有的膜层都可以用溅射镀膜机进行镀覆，操作简单流畅。
本发明的电动调光元件的可见光透过率最低可以达到0.5％，最高可以达到70％，光透过率调节范围广。
本发明的电动调光元件可以用于飞机舷窗、轮船的玻璃窗、火车尤其是高铁的窗户、汽车的顶棚和侧窗、建筑物的玻璃窗、家电的玻璃窗口、其他需要改变色彩的材料等。本发明的推广应用可以节约能源，提高人们工作生活的舒适性，改善人们生活质量，提高工作效率。
附图说明
图1是本发明电动调光元件一个具体实施方式的示意图；
图中：基片200；结合力涂层101；防反射层102；第一防扩散层103；透明导电层104；第一隔离层105；第一调光层106；离子输送层107；第二调光层108；第二隔离层109；低辐射层110；第二防扩散层111；颜色调节层112。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的实施例作进一步详细描述，但本实施例并不用于限制本发明，凡是采用本发明的相似元件及其相似变化，均应列入本发明的保护范围。
根据本发明的一个具体实施方式，本发明的电动调光元件如图1所述，包括基片200、结合力涂层101、防反射层102、第一防扩散层103、透明导电层104、第一隔离层105、第一调光层106、离子输送层107、第二调光层108、第二隔离层109、低辐射层110、第二防扩散层111、颜色调节层112。
以下实施例和对比例中，采用Hunter lab在样品完全着色状态下测试最低可见光透过率，或在样品完全漂白状态下测试最高可见光透过率。
本发明的电动调光元件的制备：实施例1-5
实施例1
2毫米白玻璃经过清洗烘干后进入真空镀膜流水线。
中频磁控溅射氧化硅靶，制备结合力涂层：功率7KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚15nm。
中频磁控溅射氧化锆靶，制备防反射层：功率8KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚28nm。
中频磁控溅射氧化钽靶，制备第一防扩散层：功率7KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚5nm。
直流脉冲电源溅射氧化铟锡靶，制备透明导电层：功率9KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚800nm。
直流脉冲电源溅射钛靶，制备第一隔离层：功率9KW，氩气压力：0.2Pa，氧气压力0.2Pa，膜厚5nm。
中频磁控溅射镍靶(掺钼)，制备第一调光层：功率30KW，氩气压力：0.2Pa，氧气压力0.2Pa，膜厚900nm。
中频磁控溅射锂靶和氧化钛靶，制备离子输送层：功率8KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚150nm。
直流脉冲电源溅射锂靶和氧化钛靶，制备第二调光层：功率20KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚950nm。
直流脉冲电源溅射钛靶，制备第二隔离层：功率10KW，氩气压力：0.2Pa，氧气压力0.2Pa，膜厚50nm。
直流脉冲电源溅射掺氟的氧化锡靶，制备低辐射层：功率15KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚400nm。
中频磁控溅射氧化钼靶，制备第二防扩散层：功率7KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚280nm。
中频磁控溅射氧化钒靶，制备颜色调节层：功率10KW，氩气压力：0.1Pa，膜厚20nm。
制得电动调光元件样品1。
经测试：
最低可见光透过率为0.8％，最高可见光透过率为68％。
从完全漂白态调节至完全着色态需要20分钟(电极间距1米)。
透过率均匀性为1％(宽度1米)。
未出现膜层脱落。
实施例2
10毫米白玻璃经过清洗烘干后进入真空镀膜流水线。
中频磁控溅射氧化钒靶，制备结合力涂层：功率7KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚145nm。
中频磁控溅射氧化锆靶，制备防反射层：功率10KW，氩气压力：0.1Pa，膜厚145nm。
中频磁控溅射氧化钽靶，制备第一防扩散层：功率7KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚150nm。
直流脉冲电源溅射氧化铟锡靶，制备透明导电层：功率8KW，氩气压力：0.1Pa，膜厚150nm。
直流脉冲电源溅射钼靶，制备第一隔离层：功率9KW，氩气压力：0.2Pa，氧气压力0.2Pa，膜厚50nm。
中频磁控溅射钨靶(掺钒)，制备第一调光层：功率20KW，氩气压力：0.2Pa，氧气压力0.1Pa，膜厚400nm。
中频磁控溅射锂靶和氧化钛靶，制备离子输送层：功率5KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚40nm。
直流脉冲电源溅射锂靶和氧化锡靶，制备第二调光层：功率25KW，氩气压力：0.1Pa，膜厚500nm。
直流脉冲电源溅射钛靶，制备第二隔离层：功率11KW，氩气压力：0.2Pa，氧气压力0.2Pa，膜厚150nm。
直流脉冲电源溅射掺氟的氧化锡靶，制备低辐射层：功率25KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚500nm。
中频磁控溅射氧化锆靶，制备第二防扩散层：功率7KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚20nm。
中频磁控溅射氧化锌靶，制备颜色调节层：功率8KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚380nm。
制得电动调光元件样品2。
经测试：
最低可见光透过率为0.6％，最高可见光透过率为69％。
从完全漂白态调节至完全着色态需要19分钟(电极间距1米)。
透过率均匀性1.5％(宽度1米)。
未出现膜层脱落。
实施例3
3毫米白玻璃经过清洗烘干后进入真空镀膜流水线。
中频磁控溅射氧化硅靶，制备结合力涂层：功率7KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚145nm。
中频磁控溅射氧化锆靶，制备防反射层：功率8KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚280nm。
中频磁控溅射氧化钽靶，制备第一防扩散层：功率8KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚270nm。
直流脉冲电源溅射氧化铟锡靶，制备透明导电层：功率9KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚490nm。
直流脉冲电源溅射锰靶，制备第一隔离层：功率9KW，氩气压力：0.2Pa，氧气压力0.2Pa，膜厚100nm。
中频磁控溅射镍靶(掺钼)，制备第一调光层：功率30KW，氩气压力：0.2Pa，氧气压力0.2Pa，膜厚100nm。
中频磁控溅射锂靶和氧化锰靶，制备离子输送层：功率8KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚290nm。
直流脉冲电源溅射锂靶和氧化钽靶，制备第二调光层：功率20KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚50nm。
直流脉冲电源溅射钛靶，制备第二隔离层：功率14KW，氩气压力：0.2Pa，氧气压力0.2Pa，膜厚200nm。
直流脉冲电源溅射氧化铟锡靶，制备低辐射层：功率8KW，氩气压力：0.1Pa，膜厚960nm。
中频磁控溅射氧化钨靶，制备第二防扩散层：功率7KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚120nm。
中频磁控溅射氧化钒靶，制备颜色调节层：功率10KW，氩气压力：0.1Pa，膜厚200nm。
制得电动调光元件样品3。
经测试：
最低可见光透过率为0.5％，最高可见光透过率为70％。
从完全漂白态调节至完全着色态需要18分钟(电极间距1米)。
透过率均匀性1.7％(宽度1米)。
未出现膜层脱落。
实施例4
3毫米白玻璃经过清洗烘干后进入真空镀膜流水线。
中频磁控溅射氧化硅靶，制备结合力涂层：功率7KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚55nm。
中频磁控溅射氧化锆靶，制备防反射层：功率10KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚26nm。
中频磁控溅射氧化钛靶，制备第一防扩散层：功率6KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚70nm。
直流脉冲电源溅射掺氟的氧化锡(FTO)，制备透明导电层：功率9KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚870nm。
直流脉冲电源溅射钼靶，制备第一隔离层：功率10KW，氩气压力：0.2Pa，氧气压力0.3Pa，膜厚100nm。
中频磁控溅射钒靶(掺钼)，制备第一调光层：功率30KW，氩气压力：0.1Pa，氧气压力0.3Pa，膜厚800nm。
中频磁控溅射锂靶和氧化锰靶，制备离子输送层：功率10KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚80nm。
直流脉冲电源溅射锂靶和氧化锡靶，制备第二调光层：功率40KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚600nm。
中频磁控溅射硅靶，制备第二隔离层：功率7KW，氩气压力：0.2Pa，氧气压力0.2Pa，膜厚5nm。
直流脉冲电源溅射氧化铟锡靶，制备低辐射层：功率8KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚250nm。
中频磁控溅射氧化钨靶，制备第二防扩散层：功率6KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚20nm。
中频磁控溅射氧化锌靶，制备颜色调节层：功率10KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚100nm。
制得电动调光元件样品4。
经测试：
最低可见光透过率为0.9％，最高可见光透过率为67％。
从完全漂白态调节至完全着色态需要18分钟(电极间距1米)。
透过率均匀性1.2％(宽度1米)。
未出现膜层脱落。
实施例5
3毫米白玻璃经过清洗烘干后进入真空镀膜流水线。
中频磁控溅射氧化铌靶，制备结合力涂层：功率5KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚80nm。
中频磁控溅射氧化硅靶，制备防反射层：功率10KW，氩气压力：0.1Pa，膜厚105nm。
中频磁控溅射氧化钽靶，制备第一防扩散层：功率7KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚130nm。
直流脉冲电源溅射氧化铟锡靶，制备透明导电层：功率8KW，氩气压力：0.1Pa，膜厚120nm。
直流脉冲电源溅射钛靶，制备第一隔离层：功率8.5KW，氩气压力：0.2Pa，氧气压力0.2Pa，膜厚2nm。
中频磁控溅射钨靶(掺钒)，制备第一调光层：功率20KW，氩气压力：0.2Pa，氧气压力0.1Pa，膜厚70nm。
直流脉冲电源溅射锂靶和氧化锡靶，制备第二调光层：功率25KW，氩气压力：0.1Pa，膜厚500nm。
直流脉冲电源溅射钴靶，制备第二隔离层：功率9KW，氩气压力：0.2Pa，氧气压力0.3Pa，膜厚200nm。
直流脉冲电源溅射掺氟的氧化锡靶，制备低辐射层：功率25KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚300nm。
中频磁控溅射氧化钼靶，制备第二防扩散层：功率6KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚50nm。
中频磁控溅射氧化锌靶，制备颜色调节层：功率8KW，氩气压力：0.2Pa，膜厚200nm。
制得电动调光元件样品5。
测其最低可见光透过率为1.0％，最高可见光透过率为68％。
从完全漂白态调节至完全着色态需要20分钟(电极间距1米)。
透过率均匀性1.5％(宽度1米)。
未出现膜层脱落。
以下实施例6-8，各层的制备方法均如实施例1所述，不同的是制备各层所用的材料组成以及制备的膜层厚度(具体参见以下实施例6-8)。
实施例6
3毫米白玻璃经过清洗烘干后进入真空镀膜流水线。
制备结合力涂层：膜厚25nm，组成为氧化钒和氧化锆的混合物。
制备防反射层：膜厚60nm，组成为氧化硅和氧化铌的混合物。
制备第一防扩散层：膜厚50nm，组成为氧化锌。
制备透明导电层：膜厚100nm，组成为氧化铟锡。
制备第一隔离层：膜厚50nm，组成为氧化钴和氧化硅的混合物。
制备第一调光层：膜厚600nm，组成为氧化镁和氧化铌的混合物。
制备离子输送层：膜厚120nm，组成为掺锂的氧化钨和掺锂的氧化硅的混合物。
制备第二调光层：膜厚800nm，组成为掺锂的氧化镁和掺锂的氧化铌的混合物。
制备第二隔离层：膜厚100nm，组成为氧化钛和氧化钼的混合物。
制备低辐射层：膜厚300nm，组成为掺铝的氧化锌。
制备第二防扩散层：膜厚200nm，组成为氧化锆。
制备颜色调节层：膜厚100nm，组成为氧化铌。
制得电动调光元件样品6。
经测试：
最低可见光透过率为0.9％，最高可见光透过率为69％。
从完全漂白态调节至完全着色态需要19分钟(电极间距1米)。
透过率均匀性为1％(宽度1米)。
未出现膜层脱落。
实施例7
8毫米白玻璃经过清洗烘干后进入真空镀膜流水线。
制备结合力涂层：膜厚50nm，组成为氧化钒。
制备防反射层：膜厚60nm,组成为氧化硅和氧化铜的混合物。
制备第一防扩散层：膜厚80nm，组成为氧化钽。
制备透明导电层：膜厚500nm，组成为氧化铟锡。
制备第一隔离层：膜厚80nm，组成为氧化钴和氧化钛的混合物。
制备第一调光层：膜厚800nm，组成为氧化镍和氧化铌的混合物。
制备离子输送层：膜厚250nm，组成为掺氢的氧化锰和掺氢的氧化钛的混合物。
制备第二调光层：膜厚600nm，组成为掺锂的氧化铁和掺锂的氧化钨的混合物。
制备第二隔离层：膜厚200nm，组成为氧化锰和氧化钼的混合物。
制备低辐射层：膜厚300nm，组成为掺铝的氧化锌。
制备第二防扩散层：膜厚200nm，组成为氧化锆。
制备颜色调节层：膜厚100nm，组成为氧化铌。
制得电动调光元件样品7。
经测试：
最低可见光透过率为0.8％，最高可见光透过率为70％。
从完全漂白态调节至完全着色态需要19.5分钟(电极间距1米)。
透过率均匀性为1.5％(宽度1米)。
未出现膜层脱落。
实施例8
3毫米白玻璃经过清洗烘干后进入真空镀膜流水线。
制备结合力涂层：膜厚40nm，组成为氧化钒和氧化硅的混合物。
制备防反射层：膜厚100nm,组成为氧化锆和氧化铌的混合物。
制备第一防扩散层：膜厚90nm，组成为氧化钽和氧化锌的混合物。
制备透明导电层：膜厚750nm，组成为氧化铟锡。
制备第一隔离层：膜厚230nm，组成为氧化钴和氧化锰的混合物。
制备第一调光层：膜厚650nm，组成为氧化钒和氧化镍的混合物。
制备离子输送层：膜厚140nm，组成为掺锂的氧化钨和掺锂的氧化锰的混合物。
制备第二调光层：膜厚750nm，组成为掺氢的氧化铁和掺氢的氧化锡的混合物。
制备第二隔离层：膜厚160nm，组成为氧化钴和氧化锰的混合物。
制备低辐射层：膜厚500nm，组成为掺铝的氧化锌。
制备第二防扩散层：膜厚120nm，组成为氧化钨和氧化钼的混合物。
制备颜色调节层：膜厚80nm，组成为氧化锌。
制得电动调光元件样品8。
经测试：
最低可见光透过率为0.8％，最高可见光透过率为68.5％。
从完全漂白态调节至完全着色态需要18分钟(电极间距1米)。
透过率均匀性为1.2％(宽度1米)。
未出现膜层脱落。
对比例1
采用上述实施例相同的方法制备具有发明专利CN104880884A所述的实施例1相同组成的电致变色智能玻璃。
经测试：
其最低可见光透过率为2.0％，最高可见光透过率为60％。
从完全漂白态调节至完全着色态需要30分钟(电极间距1米)。
透过率均匀性5.5％(宽度1米)。
对比例2
采用上述实施例相同的方法制备具有发明专利CN104880884A所述的实施实例2相同组成的电致变色智能玻璃。
经测试：
其最低可见光透过率为2.5％，最高可见光透过率为58％。
从完全漂白态调节至完全着色态需要32分钟(电极间距1米)。
透过率均匀性5.5％(宽度1米)。
对比例3
采用上述实施例相同的方法制备具有发明专利CN104880884A所述的实施实例3相同组成的电致变色智能玻璃。
经测试：
其最低可见光透过率为3％，最高可见光透过率为58％。
从完全漂白态调节至完全着色态需要31分钟(电极间距1米)。
透过率均匀性6％(宽度1米)。
对比例4
采用上述实施例相同的方法制备具有发明专利CN104880884A所述的实施实例4相同组成的电致变色智能玻璃。
经测试：
其最低可见光透过率为3.9％，最高可见光透过率为59％。
从完全漂白态调节至完全着色态需要32分钟(电极间距1米)。
透过率均匀性6％(宽度1米)。
对比例5
采用上述实施例相同的方法制备具有发明专利CN104880884A所述的实施实例5相同组成的电致变色智能玻璃。
经测试：
其最低可见光透过率为3.5％，最高可见光透过率为58％。
从完全漂白态调节至完全着色态需要33分钟(电极间距1米)。
透过率均匀性6％(宽度1米)。
由此可见，本发明的电动调光元件具有调光速度快、光透过率均匀性好以及光透过率调节范围广等优点。
Claims (12)
1.一种电动调光元件，包括基片，其特征在于，所述基片上依次设置有结合力涂层、防反射层、第一防扩散层、透明导电层、第一隔离层、第一调光层、离子输送层、第二调光层、第二隔离层、低辐射层、第二防扩散层、颜色调节层；
所述结合力涂层的组成为氧化硅，膜厚为15nm；
所述防反射层的组成为氧化锆，膜厚为28nm；
所述第一防扩散层的组成为氧化钽，膜厚为5nm；
所述透明导电层的组成为氧化铟锡，膜厚为800nm；
所述第一隔离层的组成为氧化钛，膜厚为5nm；
所述第一调光层的组成为掺钼的氧化镍，膜厚为900nm；
所述离子输送层的组成为掺锂的氧化钛，膜厚为150nm；
所述第二调光层的组成为掺锂的氧化钛，膜厚为950nm；
所述第二隔离层的组成为氧化钛，膜厚为50nm；
所述低辐射层的组成为掺氟的氧化锡，膜厚为400nm；
所述第二防扩散层的组成为氧化钼，膜厚为280nm；
所述颜色调节层的组成为氧化钒，膜厚为20nm。
2.一种电动调光元件，包括基片，其特征在于，所述基片上依次设置有结合力涂层、防反射层、第一防扩散层、透明导电层、第一隔离层、第一调光层、离子输送层、第二调光层、第二隔离层、低辐射层、第二防扩散层、颜色调节层；
所述结合力涂层的组成为氧化钒，膜厚为145nm；
所述防反射层的组成为氧化锆，膜厚为145nm；
所述第一防扩散层的组成为氧化钽，膜厚为150nm；
所述透明导电层的组成为氧化铟锡，膜厚为150nm；
所述第一隔离层的组成为氧化钼，膜厚为50nm；
所述第一调光层的组成为掺钒的氧化钨，膜厚为400nm；
所述离子输送层的组成为掺锂的氧化钛，膜厚为40nm；
所述第二调光层的组成为掺锂的氧化锡，膜厚为500nm；
所述第二隔离层的组成为氧化钛，膜厚为150nm；
所述低辐射层的组成为掺氟的氧化锡，膜厚为500nm；
所述第二防扩散层的组成为氧化锆，膜厚为20nm；
所述颜色调节层的组成为氧化锌，膜厚为380nm。
3.一种电动调光元件，包括基片，其特征在于，所述基片上依次设置有结合力涂层、防反射层、第一防扩散层、透明导电层、第一隔离层、第一调光层、离子输送层、第二调光层、第二隔离层、低辐射层、第二防扩散层、颜色调节层；
所述结合力涂层的组成为氧化硅，膜厚为145nm；
所述防反射层的组成为氧化锆，膜厚为280nm；
所述第一防扩散层的组成为氧化钽，膜厚为270nm；
所述透明导电层的组成为氧化铟锡，膜厚为490nm；
所述第一隔离层的组成为氧化锰，膜厚为100nm；
所述第一调光层的组成为掺钼的氧化镍，膜厚为100nm；
所述离子输送层的组成为掺锂的氧化锰，膜厚为290nm；
所述第二调光层的组成为掺锂的氧化钽，膜厚为50nm；
所述第二隔离层的组成为氧化钛，膜厚为200nm；
所述低辐射层的组成为氧化铟锡，膜厚为960nm；
所述第二防扩散层的组成为氧化钨，膜厚为120nm；
所述颜色调节层的组成为氧化钒，膜厚为200nm。
4.一种电动调光元件，包括基片，其特征在于，所述基片上依次设置有结合力涂层、防反射层、第一防扩散层、透明导电层、第一隔离层、第一调光层、离子输送层、第二调光层、第二隔离层、低辐射层、第二防扩散层、颜色调节层；
所述结合力涂层的组成为氧化硅，膜厚为55nm；
所述防反射层的组成为氧化锆，膜厚为26nm；
所述第一防扩散层的组成为氧化钛，膜厚为70nm；
所述透明导电层的组成为掺氟的氧化锡，膜厚为870nm；
所述第一隔离层的组成为氧化钼，膜厚为100nm；
所述第一调光层的组成为掺钼的氧化钒，膜厚为800nm；
所述离子输送层的组成为掺锂的氧化锰，膜厚为80nm；
所述第二调光层的组成为掺锂的氧化锡，膜厚为600nm；
所述第二隔离层的组成为氧化硅，膜厚为5nm；
所述低辐射层的组成为氧化铟锡，膜厚为250nm；
所述第二防扩散层的组成为氧化钨，膜厚为20nm；
所述颜色调节层的组成为氧化锌，膜厚为100nm。
5.一种电动调光元件，包括基片，其特征在于，所述基片上依次设置有结合力涂层、防反射层、第一防扩散层、透明导电层、第一隔离层、第一调光层、第二调光层、第二隔离层、低辐射层、第二防扩散层、颜色调节层；
所述结合力涂层的组成为氧化铌，膜厚为80nm；
所述防反射层的组成为氧化硅，膜厚为105nm；
所述第一防扩散层的组成为氧化钽，膜厚为130nm；
所述透明导电层的组成为氧化铟锡，膜厚为120nm；
所述第一隔离层的组成为氧化钛，膜厚为2nm；
所述第一调光层的组成为掺钒的氧化钨，膜厚为70nm；
所述第二调光层的组成为掺锂的氧化锡，膜厚为500nm；
所述第二隔离层的组成为氧化钴，膜厚为200nm；
所述低辐射层的组成为掺氟的氧化锡，膜厚为300nm；
所述第二防扩散层的组成为氧化钼，膜厚为50nm；
所述颜色调节层的组成为氧化锌，膜厚为200nm。
6.一种电动调光元件，包括基片，其特征在于，所述基片上依次设置有结合力涂层、防反射层、第一防扩散层、透明导电层、第一隔离层、第一调光层、离子输送层、第二调光层、第二隔离层、低辐射层、第二防扩散层、颜色调节层；
所述结合力涂层的组成为氧化钒和氧化锆的混合物，膜厚为25nm；
所述防反射层的组成为氧化硅和氧化铌的混合物，膜厚为60nm；
所述第一防扩散层的组成为氧化锌，膜厚为50nm；
所述透明导电层的组成为氧化铟锡，膜厚为100nm；
所述第一隔离层的组成为氧化钴和氧化硅的混合物，膜厚为50nm；
所述第一调光层的组成为氧化镁和氧化铌的混合物，膜厚为600nm；
所述离子输送层的组成为掺锂的氧化钨和掺锂的氧化硅的混合物，膜厚为120nm；
所述第二调光层的组成为掺锂的氧化镁和掺锂的氧化铌的混合物，膜厚为800nm；
所述第二隔离层的组成为氧化钛和氧化钼的混合物，膜厚为100nm；
所述低辐射层的组成为掺铝的氧化锌，膜厚为300nm；
所述第二防扩散层的组成为氧化锆，膜厚为200nm；
所述颜色调节层的组成为氧化铌，膜厚为100nm。
7.一种电动调光元件，包括基片，其特征在于，所述基片上依次设置有结合力涂层、防反射层、第一防扩散层、透明导电层、第一隔离层、第一调光层、离子输送层、第二调光层、第二隔离层、低辐射层、第二防扩散层、颜色调节层；
所述结合力涂层的组成为氧化钒，膜厚为50nm；
所述防反射层组成为氧化硅和氧化铜的混合物，膜厚为60nm；
所述第一防扩散层的组成为氧化钽，膜厚80nm；
所述透明导电层的组成为氧化铟锡，膜厚为500nm；
所述第一隔离层的组成为氧化钴和氧化钛的混合物，膜厚为80nm；
所述第一调光层的组成为氧化镍和氧化铌的混合物，膜厚为800nm；
所述离子输送层的组成为掺氢的氧化锰和掺氢的氧化钛的混合物，膜厚为250nm；
所述第二调光层的组成为掺锂的氧化铁和掺锂的氧化钨的混合物，膜厚为600nm；
所述第二隔离层的组成为氧化锰和氧化钼的混合物，膜厚为200nm；
所述低辐射层的组成为掺铝的氧化锌，膜厚为300nm；
所述第二防扩散层的组成为氧化锆，膜厚为200nm；
所述颜色调节层的组成为氧化铌，膜厚为100nm。
8.一种电动调光元件，包括基片，其特征在于，所述基片上依次设置有结合力涂层、防反射层、第一防扩散层、透明导电层、第一隔离层、第一调光层、离子输送层、第二调光层、第二隔离层、低辐射层、第二防扩散层、颜色调节层；
所述结合力涂层的组成为氧化钒和氧化硅的混合物，膜厚为40nm；
所述防反射层的组成为氧化锆和氧化铌的混合物，膜厚为100nm；
所述第一防扩散层的组成为氧化钽和氧化锌的混合物，膜厚为90nm；
所述透明导电层的组成为氧化铟锡，膜厚为750nm；
所述第一隔离层的组成为氧化钴和氧化锰的混合物，膜厚为230nm；
所述第一调光层的为氧化钒和氧化镍的混合物，膜厚为650nm；
所述离子输送层的组成为掺锂的氧化钨和掺锂的氧化锰的混合物，膜厚为140nm；
所述第二调光层的组成为掺氢的氧化铁和掺氢的氧化锡的混合物，膜厚为750nm；
所述第二隔离层的组成为氧化钴和氧化锰的混合物，膜厚为160nm；
所述低辐射层的组成为掺铝的氧化锌，膜厚为500nm；
所述第二防扩散层的组成为氧化钨和氧化钼的混合物，膜厚为120nm；
所述颜色调节层的组成为氧化锌，膜厚为80nm。
9.权利要求1-8任一项所述的电动调光元件的制造方法，其特征在于，在基片上依次采用溅射法镀制所述结合力涂层、防反射层、第一防扩散层、透明导电层、第一隔离层、第一调光层、离子输送层、第二调光层、第二隔离层、低辐射层、第二防扩散层、颜色调节层；
或者在基片上依次采用溅射法镀制所述结合力涂层、防反射层、第一防扩散层、透明导电层、第一隔离层、第一调光层、第二调光层、第二隔离层、低辐射层、第二防扩散层、颜色调节层。
10.根据权利要求9所述的电动调光元件的制造方法，其特征在于，所述溅射法采用磁控溅射法。
11.根据权利要求9所述的电动调光元件的制造方法，其特征在于，所述溅射法采用的靶为平面阴极靶。
12.根据权利要求9所述的电动调光元件的制造方法，其特征在于，所述溅射法采用的靶为旋转阴极靶。
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