CN110013890B - 工作空间和洁净空间系统 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种用于在工作对象（34）上执行工作过程的工作空间，所述工作空间具有由多个相应在边缘侧上彼此连接的壁区段（4、5、6、7、8；77）限定的工作容积（3；68），其中壁区段（4、5、6、7、8；77）的至少一个内表面（12、17；42、43；74、75、76）被更换膜（18；52；62）遮盖。

Description

工作空间和洁净空间系统

技术领域

本发明涉及一种用于在工作对象上执行工作过程的工作空间，所述工作空间具有由多个相应在边缘侧上彼此连接的壁区段限定的工作容积。此外，本发明涉及一种具有多个这种工作空间的洁净空间系统。

背景技术

在已知的也称为洁净空间箱或安全工作台的工作空间中，连续的、特别是层状的空气流通过由工作空间限定的工作容积引导。为此目的，可以例如在侧部的壁区段或在顶部的壁区段上相应设置用于空气流的流入开口，而设置在用作底部的壁区段中的或在侧部的壁区段的下部的区域中的流出开口实现空气流的流出。由于空气流的流动特性，这样的工作空间始终具有这样的区域，在所述区域中，在工作空间中待执行的工作过程中发生诸如废物（Abfällen）的污垢颗粒的富集。因此，为了持久地维持针对相应的工作空间的所期望的洁净度要求，必须执行高耗费的清洁工作。这些清洁工作尤其由操作者在使用诸如液体清洁剂之类的清洁剂（Putzmitteln）和清洁布的情况下手动进行，由此除了大量的工作耗费之外也会出现额外的废物量，使得必要的清洁工作对用于工作空间的使用成本产生负面的影响。

发明内容

本发明的任务在于提供一种工作空间以及通过并置工作空间而由多个工作空间构成的洁净空间系统，其具有较低的维护成本以维持期望的洁净空间等级。

该目的对于开头所述类型的工作空间通过权利要求1的特征得以实现。

在此规定，壁区段的面向工作容积的至少一个内表面被更换膜遮盖，该更换膜被构造用于容纳或粘附污垢颗粒以及被构造用于沿平行于所述壁区段的内表面的空间方向连续或不连续的相对运动，其中还设置有这样的承载装置，该承载装置包括承载器件和支撑器件，其中布置在所述工作容积内的承载器件被构造用于支撑至少一个工作对象，并且其中，布置在所述工作容积外部的支撑器件被构造为与所述承载器件无接触地相互作用，以便提供用于将所述承载器件悬浮地支承在所述工作容积中的支撑力。

在此更换膜的任务是确保连续或不连续地输出污垢颗粒，所述污垢颗粒在没有更换膜的情况下可能遮盖现在被更换膜遮盖的那些壁区段。由此，通过操作者的手动的清洁过程被针对污垢颗粒的更换膜的粘附作用或容纳作用代替以及被更换膜的相对运动代替，该更换膜由此实现使得污垢颗粒自动地从工作容积中输出。更换膜能够可选地被构造为尤其柔韧的固体或者作为流体膜。示例性地，更换膜要么被设置用于在表面上粘附污垢颗粒，这尤其可以借助于粘接层和/或静电充电和/或其他措施通过激活更换膜的表面来引起。在更换膜作为流体膜的设计方案中规定，除了污垢颗粒粘附在流体膜的表面上以外，有时污垢颗粒也容纳在流体中，由此可以尤其可靠地束缚污垢颗粒。

为了实现通过更换膜尽可能不受阻碍地容纳污物颗粒，额外地规定以下方面：即：配属于工作空间的承载装置被构造用于悬浮地、即无接触地支承承载器件。在此，承载器件用于支撑至少一个工作对象并且必要时也可以用于针对工作对象在工作容积内的输送运动。由此，避免了用于支撑承载器件的支撑结构，所述支撑结构必须安置或固定在壁区段上，由此可能产生不期望的污染区。

为了确保承载器件在工作容积中的所期望的无接触悬浮的支承而将支撑器件布置在工作容积的外部，其被构造用于与承载器件无接触地相互作用，以便提供所需的支撑力。这种相互作用尤其可以是静电的或磁性的相互作用，其中利用承载器件和支撑器件之间的吸引或者碰撞，以便引起用于支撑所述工作对象所必须的支撑力。

本发明的有利的改进方案是从属权利要求的主题。

有利的是，壁区段具有这样的工作开口，该工作开口被构造用于使用者的干涉和/或用于将材料输入和/或输出到工作容积中或者从工作容积输入和/或输出。举例来说，工作开口被构造为槽形并且在水平方向上以最长的棱边延伸，使得优选地穿着相应的防护服、特别戴有手套的操作者可以直接作用于工作空间而无需其他的预防措施（Vorkehrungen），以便在那里执行工作过程或者将材料引入到工作容积中或将其从工作容积中移除（entnehmen）。当工作空间用作安全工作台时、例如在化学或生物实验室的区域中，这样的工作开口是尤其令人感兴趣的，其中工作空间对于不加载有工作空间中使用的材料的操作者而言会具有保护功能。

替代性地可以规定，工作开口利用工作手套闭合（verschliessen），使得在工作空间的环境和工作容积之间不进行交换，并且仍然允许使用者进入到工作容积中。这种布置既可以用于化学或生物目的的实验室装置的区域中，也可以用于微系统技术、半导体技术或类似敏感的产品的生产区域中，因为由此确保周围环境和工作空间环境之间的完全分离。

在一种替代性的实施方式中规定，壁区段设有闸口组件，该闸口组件包括可移动地支承在壁区段上的闭合器件，该闭合器件被构造用于在暂时地释放闸口开口，其中闸口组件被构造用于将材料输入和/或输出到工作容积中或者从工作容积输入和/或输出。当仅偶尔向工作容积或从工作容积输入或输出材料并且在剩余时间内通过闭合器件闭合所述闸口开口时，这种闸口组件是特别令人感兴趣的。在此，闸口组件可以被构造为具有用于直接进入到工作容积中的唯一的闭合器件。替代性地，闸口组件具有两个彼此间隔开的闭合器件，所述闭合器件限定单独的空间容积，其中在正常的运行情况下在给定的时间点仅能够相应打开闭合器件中的一个，以便因此在输入或者输出材料时确保周围环境和工作容积环境之间的尽可能小的交换。

优选规定，承载器件和支撑器件分别设有磁体装置，其中磁体装置中的至少一个磁体装置被构造用于提供在时间上变化的磁场。示例性地，磁体装置是指永磁体或永磁体组件和/或电的线圈或电的线圈组件和/或是指抗磁的材料或组件，其中感应出磁场或者在时间上变化的外部的磁场。磁体装置以这样的方式配属于承载器件和支撑器件，使得支撑器件能够无接触地将支撑力传递到承载器件上，其针对承载器件以及针对容纳在承载器件上的工作对象确保在工作空间中的悬浮状态。示例性地规定，承载器件在下侧上设有磁体装置并且支撑器件在垂直的方向上布置在承载器件下方，以便提供到承载器件和其磁体装置上的碰撞力，其支撑承载器件的以及容纳在其上的工作对象的重力，由此可以确保针对承载器件的所期望的悬浮状态。

替代性地，也可以将支撑器件设置在承载器件的上方，在此在承载器件的磁体装置和支撑器件的磁体装置之间出现一种吸引，通过这种吸引能够补偿承载器件以及容纳在其上的工作对象的重力，从而确保针对承载器件的在工作容积中的所期望的悬浮状态。

在实践中，承载器件和支撑器件之间的支撑力的动态适配是必须的，对此磁体装置中的至少一个磁体装置包括这样的调整可能性，从而能够影响相应的磁体装置的至少一个单个组件的磁性的磁通密度和/或磁场定向。示例性地规定，支撑器件的磁体装置包括至少一个电的线圈，该至少一个电的线圈能够被加载由控制装置提供的电流。此外可以规定，传感器器件配属于所述控制装置，利用所述传感器器件能够获取所述支撑器件在工作容积中的空间上的位置，从而根据所述支撑器件的所获取的空间上的位置而进行对所述电的线圈的相应的操纵。

在本发明的一种替代性的设计方案中规定，承载器件和支撑器件分别设有磁体装置，其中磁体装置中的一个磁体装置包括永磁体，并且磁体装置中的另一个磁体装置包括超导体。为此，超导体被构造为尤其由钇-钡-铜氧化物（YBCO）构成的II型超导体，并且在支撑器件中以冷却至其材料特定的跃变温度之下的方式运行。此外，超导体在其冷却到其跃变温度期间经受这样的磁场，该磁场对应于另一个磁体装置的磁场，由此该超导体包含也被称为Pinning的“编程”，其导致，超导体在改变外部所施加的磁场时建立这样的反向场，该反向场反作用于外部所施加的磁场的变化。这样调制的超导体确保持久地在空间上定向相应的磁体装置，而对此不需要对线圈电流的高耗费的调节或者对承载器件的空间上的定向的检测。确切而言，通过合适的持久的冷却就足以使得超导体的温度保持在其跃变温度之下，使得在冷却时进行的“编程”也持久地不会丢失。

优选规定，承载器件设有永磁体组件、特别是呈海尔贝克组件的形式，而所述支撑器件包括至少一个超导体和相关联的冷却装置。由此，可以确保承载器件的特别紧凑的构型以及特别是容纳在也被称为低温恒温器（Kryostat）的隔绝容器（Isolierbehälter）中的超导体确保不成问题的隔绝和冷却。

在本发明的另外的设计方案中规定，更换膜被构造为薄膜，其中所述壁区段在彼此相反的端部区域上分别被槽形的开口贯穿，其中第一槽形的开口被构造用于将更换膜输入到工作空间中，并且其中第二槽形的开口被构造用于将更换膜从工作空间中输出。示例性地规定，更换膜被构造为薄膜轨道，其宽度至少几乎对应于槽形的开口的最大的延伸范围，而更换膜的长度显著大于壁区段中的两个槽形的开口之间的间隔。

更换膜可以从相邻于第一槽形的开口布置在工作容积外部的储存卷筒卷出，通过工作空间引导并且卷绕到相邻于第二槽形的开口布置在工作空间外部的容纳卷筒上。

替代性地可以规定，更换膜可以构造为由薄膜轨道构成的连续环绕的环并且在工作空间侧通过清洗装置（Wascheinrichtung）输送，该清洗装置被构造用于去除（Entfernung）在工作空间中粘附在更换膜上的污垢颗粒。此外，也可以针对更换膜的调制而如下地构造所述清洗装置，使得更换膜的背向所述壁区段并且面向所述工作容积的表面通过清洗装置中的一个沿环绕方向对于后置于更换薄膜的激活装置针对污垢颗粒的特别有利的粘附而被激活。这样的激活可以例如也通过更换薄膜的静电的充电而实现，所述更换薄膜尤其直接布置在为了输入更换膜而设置的槽形的开口的区域中。

对于构造为环绕的薄膜的更换膜，且对于从储存卷筒中卷出并且被卷绕到容纳卷筒上的更换膜来说，尤其被构造为驱动辊的驱动器件配属于所述更换膜。驱动器件优选布置在工作空间的外部，并且被构造用于更换膜的容纳在工作空间中的区段的连续的或不连续的相对运动。在此优选将拉伸力持久地导入到更换膜上，通过所述拉伸力确保更换膜始终平滑（glatt）地贴靠在内表面上。

在一种替代性的实施方式中规定，更换膜由液体浴形成，该液体浴容纳在配属于壁区段的盆（Becken）中。这样的液体浴尤其考虑用于至少主要水平地定向的壁区段，使得盆的配属于壁区段的盆壁可以容纳所述液体浴，而不需要使得液体持续地流入或持续地流出到盆中或从其中流入或流出。确切来说可以规定，盆以规律的或不规律的时间上的间隔进行排出和重新填充，从而确保始终足够的用于容纳来自工作空间的污垢颗粒的液体量。

在本发明的另外的设计方案中规定，更换膜由这样的液体流形成，该液体流遮挡壁区段的内表面，其中在壁区段的第一端部区域上至少一个流入开口被构造用于液体进入到工作空间中，并且其中在壁区段的与所述第一端部区域相反的第二端部区域上形成有用于从工作空间流出的液体的排出开口。优选如此选择壁区段的内表面的倾斜度，使得在流入开口上进入到工作空间中的液体流至少几乎遮挡并且沾湿壁区段的整个内表面，并且在此可以作为至少在很大程度上层状的流而流动直至排出开口。由此，应当避免不期望的形成精细的液体水滴，所述液体水滴尤其可以作为液体雾而出现。流入开口示例性地被构造为平行于用于液体的输送管的中轴线的槽形的开口，而排出开口能够以相同的方式被构造在壁区段的相反的沿垂直的方向位于更深处的端部区域上。

替代性地规定，流入开口被布置为与壁区段间隔开并且液体流在自由下落下作为流体膜可以流动至同样与壁区段间隔开布置的或者集成在壁区段中的排出开口。通过液体流的高的下落速度可以在工作空间中产生针对污垢颗粒的抽吸作用，这特别是对于具有高的污染作用（Kontaminationswirkung）的污垢颗粒而言可以是令人感兴趣的，以便确保这种污垢颗粒的可靠的束缚。

在本发明的一种有利的改进方案中规定，至少一个壁区段被流入开口贯穿，该流入开口被构造用于工作容积与鼓风装置的流体连通的连接，并且其被构造用于提供到工作容积中的空气流，并且/或者所述壁区段被构造为矩形并且彼此成直角地布置，使得工作容积具有直角六方体的几何形状。流入开口用于提供贯穿工作容积并且通过与流入开口间隔开布置的流出开口而再次从工作容积流出的空气流。这样的流出开口可以与排出开口相同，如其针对从工作空间流出的液体所构造的那样。补充地或替代性地，这样的流出开口也可以对应于槽形的开口，如其针对被构造为薄膜的更换膜的输入或输出所设置的那样。利用由鼓风装置提供的空气流至少在很大程度上避免污垢颗粒的局部的聚集，因为例如在工作对象上出现的污垢颗粒直接被空气流携带并且特别是可以粘附在更换膜上。

本发明的目的针对具有权利要求10的特征的洁净空间系统得到解决。在此，洁净空间系统包括多个根据本发明的工作空间，所述多个根据本发明的工作空间排列成工作空间排，其中相邻布置的工作空间可选地限定共同的工作容积或者通过至少一个壁区段彼此分离地构造，所述至少一个壁区段包括针对两个工作空间之间的材料流的闸口组件。示例性地规定，相邻的工作空间不带分离的壁区段地彼此连接并且限定共同的工作容积。补充地或替代性地可以规定，工作空间利用彼此邻接的壁区段排列并且布置在壁区段、尤其能够自动地移动的闸口组件中，以便可选地形成或阻挡相邻的壁区段之间的连接。

附图说明

本发明的有利的实施方式在附图中示出。在此示出：

图1以剖切视图示出了工作空间的第一种实施方式的示意性的前视图，

图2示出了工作空间的第二种实施方式，

图3示出了工作空间的第三种实施方式，并且

图4示出了工作空间的第四种实施方式。

具体实施方式

图1中所示的工作空间1被设置用于提供与环境2分离的工作容积3，其中在工作容积3中、特别是在偏离环境2的情况下确保能够预先给定的洁净度条件（Reinheitsbedingungen）。这样的工作空间1也被称为安全工作台、隔绝器或洁净空间箱。

为了确保工作容积3和环境2之间的分离，工作空间1纯示例性地包括总共六个、相应地构造为平坦（eben）的矩形板的壁区段4、5、6、7、8，其中前部的壁区段由于图1的剖切图示而未示出，前部的壁区段闭合由所述壁区段4、5、6、7、8限定的工作容积3。纯示例性地规定，壁区段4至8相应地在边缘侧上与相邻的壁区段4至8连接，由此得到至少几乎完全闭合的工作容积3。

纯示例性地规定，空气输送装置9配属于所述上部的壁区段4，所述空气输送装置仅仅示意性地示出并且其纯示例性地包括被构造为鼓风机的泵10以及用作空气分配器的空心体11。在此可以规定，空心体11在壁区段4的至少几乎整个内表面12上延伸并且在上侧通过流体线路15与泵10流体连通地连接。此外可以规定，空心体11在下侧16设有多个未详细示出的流出开口，能够通过所述流出开口使得由泵10输送的空气进入到工作容积3中。

下部的示例性地水平地定向的壁区段8的内表面17至少几乎完全被示例性地构造为薄膜轨道的更换膜18遮盖。更换膜（Wechselfilm）18仅仅基于阐释的原因而在图1中与内表面17脱离地示出，然而在实践中更换膜18面状地放置在内表面17上。示例性地规定，更换膜18从可旋转移动地支承在驱动马达20上的储存卷筒19开始可以通过槽形的开口21输送至工作容积3，从而在那里放置在壁区段8的内表面17上。此外，更换膜18沿着壁区段8延伸直至槽形的开口22，更换膜18通过所述槽形的开口从工作容积3引出，并且可以在能够旋转地支承在驱动马达24上的容纳卷筒23上卷绕（aufwickeln）。

优选地规定，驱动马达20用作制动器，以便使得更换膜从储存卷筒19的卷出得到制动，而驱动马达24用作用于更换膜18的输送装置并且引起更换膜18卷绕到容纳卷筒23上。由此始终确保更换膜18绷紧地贴靠在壁区段8的内表面17上。针对驱动马达20和24的运行而设置有控制装置25，所述控制装置通过控制线路26、27与两个驱动马达20、24连接，并且能够在时间上预先给定的间隔引起更换膜18在维持（einhalten）待由驱动马达20施加到储存卷筒19上制动力矩的情况下卷绕到容纳卷筒23上。

此外，控制装置25通过控制线路28与支撑器件29连接。支撑器件29包括仅仅示意性示出的线圈组件30，该线圈组件由多个磁体线圈31形成，所述磁体线圈栅格状地以分布在壁区段8的外表面32下面的方式得到布置，并且能够以未详细示出的方式由控制装置25被个体地供应电能。

与之相应地，线圈组件30可以提供在工作容积3中的磁场，其引起与承载器件33的磁性的相互作用，该承载器件被构造用于支撑至少一个工作对象34。

纯示例性地，承载器件33由示例性平坦地构造的矩形的承载板35和永磁体组件36形成。永磁体组件36示例性地由栅格状地沿两个彼此垂直的空间方向布置的、相应直角六方体地构造的永磁体37构造而成。示例性地规定，永磁体37形成海尔贝克组件（Halbach-Anordnung），在该海尔贝克组件中永磁体37的磁性的极性如此得到布置，从而得到高的磁通密度。由永磁体组件36提供的磁场与线圈组件30的磁场相互作用，以便确保用于承载器件33的以及容纳在其上的工作对象34的持久的悬浮状态（Schwebezustand）。

在图1中示出的工作空间1的运行期间纯示例性地设置有通过空气输送装置9的持续的空气的流入（Zustrom），其中输入的空气能够以未详细示出的方式得到净化(aufbereitet)、特别是过滤和/或离子化。利用空气输送装置9输送到工作容积3中的空气从空心体11开始沿垂直的方向向下流动并且纯示例性地通过槽形的开口21、22离开工作容积3。补充地，例如可以在壁区段4、5和6中还设置有用于空气的然而未示出的额外的流出开口。

此外规定，更换膜18以能够在时间上预先给定的间隔完成相对于下部的壁区段8的相对运动，其中对此，到容纳卷筒23上的卷绕过程利用驱动马达24实现，同时驱动马达20制动储存卷筒19，使得更换膜18始终平滑面状地贴靠在下部的壁区段8的内表面17上。

此外，在工作空间1的运行期间持久地通过控制装置25进行对线圈组件30的通电，从而维持承载器件33的悬浮状态。对此，特别是可以在控制装置25中连续地重复地实现这样的调节回路（Regelschleife），在该调节回路中能够借助于永磁体组件36到线圈组件30上的反作用来获取承载器件33的悬浮状态，以便能够将与之相应的电流输送至线圈组件30的磁体线圈31。

在图2中示出的工作空间41的第二种实施方式具有与根据图1的工作空间1相同的构造方式，从而针对功能相同的组件使用相同的附图标记。

与工作空间1不同，在根据图2的工作空间41中额外地规定，壁区段5和6的内表面42、43相应地也通过更换膜18遮盖，该更换膜以与内表面17上的更换膜18相同的方式从相应配属的储存卷筒19卷出并且可以卷绕到相应配属的容纳卷筒23上。在此，储存卷筒19或容纳卷筒23的驱动马达20、24以相同的方式与控制装置25连接，如其在图1的图示中所示出的情况那样。

工作空间41为了输入垂直延伸的、遮挡内表面42和43的更换膜18而具有相应额外的槽形的开口44，所述槽形的开口根据图2的图示沿水平的方向在整个图2中不可见的横向于视图平面延伸的两个壁区段5和6的深度上延伸。

图3中示出的工作空间51的第三种实施方式与根据图1的工作空间1的第一种实施方式的区别在于更换膜52的环形地环绕的设计，该更换膜纯示例性地遮挡下部的壁区段8的内表面17。针对更换膜52的环绕运动设置有两个转向卷筒53、54，驱动马达55、56分别配属于所述转向卷筒。此外规定，更换膜52在工作容积3的外部在两个转向卷筒53和54之间通过清洁装置57引导，在更换膜52通过槽形的开口21再次被输送到工作容积3中之前，在该清洁装置中进行对例如该更换膜52的湿式清洁。

在图4中示出的工作空间61的第四种实施方式中，代替被构造为薄膜的更换膜、如其在图1至3中已经示出的那样而设置有液体膜62作为更换膜。液体膜62纯示例性地相应地通过开槽的型材箱（Profilkästen）63、64和槽形的开口65、66而被输送到工作容积中并且可以通过槽形的开口67从工作容积68中流出。捕获容器69布置在槽形的开口67下方，流出的液体首先中间存储在所述捕获容器中，以便接下来借助于连接线路84被输送到清洁装置70中并且在清洁装置70中得到清洁。随后，输送泵71向输送线路72供应经清洁的液体，所述输送泵通过控制线路84以电的方式与控制装置25连接，以便将所述经清洁的液体输送到相应配属的型材箱63、64中。

由于槽形的开口67的纯示例性地设置的单侧的布置在工作空间51的右侧的区域中而额外地引起利用液体膜62对两个内表面74和75的遮盖以及对内表面76的遮盖，从而以简单的方式使得总共六个内表面中的三个在工作空间61中利用液体膜持续地得到清洁。

纯示例性地，在用作后壁的后部的壁区段77上构造有闸口组件（Schleusenanordnung）78，所述闸口组件包括用作闭合器件的闸口门79，该闸口门能够以纯示例性的方式线性地在气密密封地贴靠在壁区段77上的闭合位置和未示出的开口位置之间移动，从而能够实现通过壁区段77中的未标识的虚线示出的凹部而使得材料输入和/或输出到工作容积68中或者从工作容积68中输入和/或输出。

纯示例性地，在根据图4的工作空间61中，支撑器件80配备有冷却装置81和超导体83，其中超导体83布置在隔绝容器82中，并且其中承载器件33纯示例性地以与根据图1的实施方式相同的方式构造。

超导体83在其跃变温度下的冷却期间被加载这样的磁场，该磁场对应于承载器件33和构造在其上的永磁体组件36的磁场。由此，在持久地低于超导体83的材料特定的跃变温度的情况下确保了与承载器件33的永磁体组件36的磁性的相互作用，所述相互作用使得针对承载器件33的示意性示出的悬浮状态得到维持。

也可以在根据图1至3的其他的实施方式中使用如此构造的支撑器件80。以相同的方式，根据图1至3的实施方式的支撑器件29也可以在根据图4的实施方式中使用。

Claims (10)

1.一种用于在工作对象（34）上执行工作过程的工作空间，所述工作空间具有工作容积（3；68），所述工作容积由多个相应在边缘侧上彼此连接的壁区段（4、5、6、7、8；77）限定，其中，所述壁区段（4、5、6、7、8；77）的面向所述工作容积（3；68）的至少一个内表面（12、17；42、43；74、75、76）被更换膜（18；52；62）遮盖，所述更换膜被构造用于容纳或粘附污垢颗粒以及被构造用于沿平行于所述壁区段（4、5、6、7、8；77）的内表面（12、17；42、43；74、75、76）的空间方向连续的或不连续的相对运动，并且所述工作空间具有这样的承载装置，所述承载装置包括承载器件（33）和支撑器件，其中布置在所述工作容积（3；68）内的承载器件（33）构造用于支撑至少一个工作对象（34），并且其中，布置在所述工作容积（3；68）外部的支撑器件被构造用于与所述承载器件（33）无接触地相互作用，以便提供用于将所述承载器件（33）悬浮地支承在所述工作容积（3；68）中的支撑力。

2.根据权利要求1所述的工作空间，其特征在于，壁区段具有工作开口，所述工作开口被构造用于使用者的干涉和/或用于将材料输入到所述工作容积（3；68）中和/或从所述工作容积（3；68）输出。

3.根据权利要求1所述的工作空间，其特征在于，壁区段（77）设有闸口组件（78），所述闸口组件包括能够移动地支承在所述壁区段（77）上的闭合器件，所述闭合器件被构造用于暂时地释放闸口开口，其中，所述闸口组件（78）被构造用于将材料输入到所述工作容积（68）中和/或从所述工作容积（68）输出。

4.根据权利要求1、2或3所述的工作空间，其特征在于，所述承载器件（33）和所述支撑器件分别设有磁体装置，其中所述磁体装置中的至少一个磁体装置被构造用于提供在时间上变化的磁场。

5.根据权利要求1、2或3所述的工作空间，其特征在于，所述承载器件（33）和所述支撑器件分别设有磁体装置，其中所述磁体装置中的一个磁体装置包括永磁体（37）并且所述磁体装置中的另一个磁体装置包括超导体。

6.根据权利要求1、2或3所述的工作空间，其特征在于，所述更换膜（18；52）构造为薄膜，其中所述壁区段（5、6、8）在彼此相反的端部区域上分别被槽形的开口（21、22、44）贯穿，其中第一槽形的开口（21、44）被构造用于将更换膜（18；52）输入到工作空间中，并且其中第二槽形的开口（21、22）被构造用于将所述更换膜（18；52）从所述工作空间中输出。

7.根据权利要求1、2或3所述的工作空间，其特征在于，所述更换膜（62）由液体浴形成，所述液体浴容纳在配属于所述壁区段的盆中。

8.根据权利要求1、2或3所述的工作空间，其特征在于，所述更换膜（62）由液体流形成，所述液体流遮挡所述壁区段（5、6、8）的内表面（74、75、76），其中在所述壁区段（5、6）的第一端部区域上构造有用于使得液体进入到所述工作空间（61）中的进入开口（65、66），并且其中在所述壁区段（6）的与所述第一端部区域相反的第二端部区段上构造有用于使得液体从所述工作空间（61）排出的排出开口。

9.根据权利要求1、2或3所述的工作空间，其特征在于，至少一个壁区段（4）被流入开口贯穿，所述流入开口被构造用于将所述工作容积（3；68）与鼓风装置流体连通地连接，并且所述流入开口被构造用于提供进入到所述工作容积（3；68）中的空气流，并且/或者所述壁区段（4、5、6、7、8；77）被构造为矩形并且彼此成直角定向，使得所述工作容积（3；68）具有直角六方体的几何形状。

10.一种用于在工作对象（34）上执行工作过程的洁净空间系统，所述洁净空间系统具有多个根据前述权利要求中任一项所述的工作空间（1；41；51；61），所述工作空间排列成工作空间排，其中相邻布置的工作空间（1；41；51；61）可选地限定共同的工作容积（3；68）或通过至少一个壁区段（77）彼此分离地构造，所述壁区段包括用于两个工作空间之间的材料流的闸口组件（78）。

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