CN109994511A - 显示设备 - Google Patents

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Abstract

一种显示装置包括第一基板、处于所述第一基板上的像素阵列层、处于所述像素阵列层上的第二基板、以及围绕所述第二基板的侧面的覆盖层。此外，所述显示装置包括有源区域和非有源区域。所述第二基板处于所述有源区域中，并且所述覆盖层处于所述非有源区域中。所述覆盖层具有不同厚度，以限定台阶。

Description

显示设备
相关申请的交叉引用
本申请要求于2017年12月29日提交的韩国专利申请No.10-2017-0184336的权益，通过引用将该韩国专利申请并入本文，就像在本文中完整阐述了该韩国专利申请一样。
技术领域
本公开涉及一种显示设备。
背景技术
随着信息取向型社会的进步，对显示图像的显示设备的各种要求也不断增多。最近，更纤薄的显示设备正被实现。易于携带的柔性显示设备可以适用于各种显示设备。
柔性显示设备均可以包括弯曲部分，所述弯曲部分被弯曲，并使基板能够被折叠。由于通过使用弯曲部分使基板折叠，缩小了边框尺寸，因而可以实施具有窄边框的显示设备。
然而，随着为了实现更窄边框而提高弯曲的程度，随着最外侧应力的提高并且随着屏板的内部应力加强，包含在弯曲区域中的无机层可能由于易受应力而发生断裂。出于该原因，发光器件层可能发生剥离，并且薄膜晶体管可能发生短路。
上文描述的背景技术是本申请的发明人为了得到本公开而掌握的，或者是在得到本公开的过程中已经获取的技术信息。上文描述的背景技术未必是在本公开的申请之前已被披露给公众的已知技术。
发明内容
相应地，本公开涉及一种显示设备，其大体上消除了由于相关技术的限制和缺陷所导致的一个或多个问题。
本公开的目的在于提供一种容易执行弯曲以由此实现零边框的显示设备。
本公开的附加特征和优点将在随后的描述中被阐述，并且其部分根据所述描述将显而易见，或者可以通过实践本公开而习知。通过在书面描述及其权利要求以及附图中具体指出的结构将实现并获得本公开的目的和其它优点。
为了实现这些和其它优点并且根据本公开的目的，如文中所体现和广泛描述的，提供了一种显示装置，其包括：第一基板；处于所述第一基板上的像素阵列层；处于所述像素阵列层上的第二基板；以及围绕所述第二基板的侧面的覆盖层，其中，所述显示装置包括有源区域和非有源区域，所述第二基板处于所述有源区域中，并且所述覆盖层处于所述非有源区域中；并且其中，所述覆盖层具有不同的厚度，以限定台阶。
应当理解，本公开的前述一般描述和下文的具体实施方式都是示例性和解释性的，并且旨在提供对所要求保护的本公开的进一步解释。
附图说明
所包括的用于提供对本公开的进一步理解并且被并入本申请中并构成本申请的部分的附图示出了本公开的实施例，并且与所述描述一起用来解释本公开的原理。在附图中：
图1是根据本公开的实施例的显示设备的平面图；
图2是沿图1所示的线I-I’截取的截面图；
图3是用于描述图2的像素阵列层的截面图；
图4是沿图1所示的线II-II’截取的截面图；并且
图5是沿图1所示的线III-III’截取的截面图。
具体实施方式
现在将详细参考本公开的实施例，在附图中示出了它们的示例。
参考附图通过所描述的下述实施例将使本公开的优点和特征及其实施方法变得清晰。然而，本公开可以通过不同的形式体现，并且不应被理解为限于文中所阐述的实施例。相反，提供这些实施例是为了使得本公开将是透彻并且完整的，并且将向本领域技术人员充分传达本公开的范围。此外，本公开仅由权利要求的范围限定。
附图中为了描绘本公开的实施例而公开的形状、尺寸、比例、角度和数量只是示例，因而本公开不限于所示的细节。通篇以类似的附图标记指代类似的要素。在下文的描述中，在确定相关已知功能或配置的详细描述会不必要地使本公开的要点难以理解时，将省略所述详细描述。
在使用本说明书中描述的“包括”、“具有”和“包含”的情况下，可以增加另一部分，除非使用“仅……”。单数形式的术语可以包括复数形式，除非做出了相反的指示。
在解释要素时，该要素将被解释为包括一定的误差范围，尽管可能没有明确的描述。
在描述位置关系时，例如，在将两个部分之间的位置关系描述为“在……上”、“在……之上”、“在……之下”以及“紧邻……”时，一个或多个其它部分可以被设置在所述两个部分之间，除非使用了“刚好”或者“直接”。
在描述时间关系时，例如，在将时间顺序描述为“在……之后”、“紧接着……”、“接下来”以及“在……之前”时，可以包括不连续的情况，除非使用了“刚好”或者“直接”。
还将理解，尽管在文中可以使用术语“第一”、“第二”等来描述各种要素，但是这些要素不应当受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个要素与另一要素区分开。例如，第一要素可以被称为第二要素，并且类似地，第二要素可以被称为第一要素，而不脱离本公开的范围。
第一水平轴方向、第二水平轴方向和竖直轴方向不应被解释为仅仅是其间的关系为竖直关系的几何关系，而是可以表示在本公开的要素正常运转的范围内具有更宽泛的方向性。
术语“至少其中之一”应当被理解为包括相关联的列举项中的一者或多者中的任何和所有组合。例如，“第一项、第二项和第三项的至少其中之一”的含义表示由第一项、第二项和第三项中的两者或更多者提出的所有项的组合以及第一项、第二项或者第三项。
本公开的各种实施例的特征可以部分或者完全相互耦合或结合，并且可以相互进行各种互操作并且受到技术驱动，这是本领域技术人员能够充分理解的。本公开的实施例可以是相互独立实施的，或者可以是按照相互依赖的关系一起实施的。
图1是根据本公开的实施例的显示设备的平面图。图2是沿图1所示的线I-I’截取的截面图。图3是用于描述图2的像素阵列层的截面图。
参考图1到图3，根据本实施例的显示设备可以包括第一基板110、像素阵列层130、第二基板150和覆盖层160。
第一基板110(基础基板)可以是柔性基板。例如，第一基板110可以包括透明聚酰亚胺材料。包括透明聚酰亚胺材料的第一基板110可以是通过使涂覆到在载体玻璃基板上提供的释放层的前表面上的具有某一厚度的聚酰亚胺树脂固化而形成的。在该情况下，可以通过借助于激光释放工艺释放所述释放层而将载体玻璃基板与第一基板110分开。
第一基板110可以包括有源区域AA、非有源区域NA和弯曲区域BA。
有源区域AA可以是显示图像的显示区域，并且可以被限定在第一基板110的中央部分中。
非有源区域NA可以是不显示图像的非显示区域，并且可以被限定在第一基板110的边缘中以围绕有源区域AA。
弯曲区域BA可以被限定为被弯曲成曲面形状的部分。
根据实施例的弯曲区域BA可以包括与有源区域AA和非有源区域NA重叠的区域。弯曲区域BA与有源区域AA重叠的区域可以是有源弯曲区域ABA，并且弯曲区域BA和非有源区域NA相互重叠的区域例如可以被称为非有源弯曲区域NBA。
因此，有源区域AA可以包括有源弯曲区域ABA和对应于除了有源弯曲区域ABA以外的区域的有源非弯曲区域ANA。非有源区域NA可以包括非有源弯曲区域NBA和对应于除了非有源弯曲区域NBA以外的区域的非有源非弯曲区域NNA。
这里，有源弯曲区域ABA可以是在显示设备的侧表面上显示图像的边缘显示区域，并且有源非弯曲区域ANA可以是在显示设备的前表面上显示图像的前显示区域。
可以在第一基板110上提供缓冲层120。缓冲层120可以被提供在第一基板110的顶上，从而防止水经由第一基板110渗透到有源区域AA中。根据实施例的缓冲层120可以是由交替堆叠的多个无机层形成的。例如，缓冲层120可以是其中交替堆叠了由氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)和氮氧化硅(SiON)构成的一个或多个无机层的多层。
像素阵列层130可以被提供在缓冲层120上。根据实施例的像素阵列层130可以包括多条栅极线、多条数据线、多条驱动功率线、薄膜晶体管(TFT)T、堤部134、有机发光层135、分隔壁136和包封层137。
栅极线可以被提供在栅极绝缘层131上，沿第一方向X平行布置，并且沿第二方向Y相互间隔开。栅极线可以被层间绝缘层132覆盖。
数据线可以被提供在层间绝缘层132上，沿第二方向Y平行布置，并且沿第一方向X相互间隔开。
驱动功率线可以被提供在层间绝缘层132上、与数据线平行。
TFT T可以被提供在缓冲层120上。例如，TFT T可以被提供在缓冲层120上、处于与有源区域AA重叠的区域中。TFT T可以包括提供在缓冲层120上的有源层ACT、提供在有源层ACT上的栅极绝缘层131、提供在栅极绝缘层131上的栅极电极GE、提供在栅极电极GE上的层间绝缘层132以及提供在层间绝缘层132上并连接至有源层ACT的源极电极SE和漏极电极DE。源极电极SE和漏极电极DE可以被钝化层133覆盖。在图3中示出了TFT T被提供作为顶栅型，但是本实施例不限于此。在其它实施例中，TFT T可以被提供作为底栅型，其中，栅极电极GE被设置在有源层ACT之下。TFT T可以允许有机发光层135根据经由相邻栅极线供应的栅极信号、经由相邻驱动功率线供应的驱动功率、以及经由相邻数据线供应的数据信号来发光。
堤部134可以限定发射区域并且可以被称为像素限定层。堤部134可以被提供在钝化层133和第一电极E1的边缘上，以限定发射区域。例如，堤部134可以包括丙烯酸树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、苯并环丁烯树脂和含氟树脂中的一种有机材料。作为另一个示例，堤部134可以由包括黑色颜料的光敏材料形成，并且在该实施例中，堤部134可以充当光遮挡图案。
有机发光层135可以被提供在TFT T上。有机发光层135可以包括第一电极E1、发光层EL和第二电极E2。
第一电极E1可以被提供在TFT T上，并且可以被称为阳极电极。第一电极E1可以通过提供在钝化层133中的接触孔而电连接至TFT T。
发光层EL可以被提供在第一电极E1上。发光层EL可以包括两个或更多用于发射白光的发光部分。例如，发光层EL可以包括用于基于第一光和第二光的组合来发射白光的第一发光部分和第二发光部分。这里，第一发光部分可以发射第一光，并且可以包括蓝发光层、绿发光层、红发光层、黄发光层和黄绿发光层之一。第二发光部分可以包括蓝发光层、绿发光层、红发光层、黄发光层和黄绿发光层之中的发射与第一光具有互补颜色关系的光的发光层。
第二电极E2可以被提供为覆盖发光层EL，并且可以被称为阴极电极。
分隔壁136可以被提供在堤部134上。分隔壁140可以隔离被提供在与发射区域重叠的区域中的发光层EL。例如，分隔壁136可以包括丙烯酸树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、苯并环丁烯树脂和含氟树脂中的一种有机材料。
包封层137可以被提供为覆盖第二电极E2。根据实施例的包封层137防止水或氧气渗透到发光层EL中。根据实施例的钝化层150可以包括氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiON)、氧化钛(TiOx)和氧化铝(AlOx)中的至少一种无机材料。
任选地，包封层137可以进一步包括至少一个有机层。有机层可以被形成为具有足以防止颗粒经由包封层137渗透到发光器件层中的厚度。根据实施例的有机层可以包括丙烯酸树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、苯并环丁烯树脂和含氟树脂中的一种有机材料。
根据实施例的像素阵列层130可以包括多个无机层。例如，像素阵列层130可以包括多个无机层，所述多个无机层包括栅极绝缘层131、层间绝缘层132和钝化层133。栅极绝缘层131、层间绝缘层132和钝化层133中的每者可以由无机材料形成，并且可以被提供为在第一基板的整个区域(除了非有源弯曲区域NBA)中纵向延伸。类似地，缓冲层120可以被提供为在与多个无机层相同的区域中纵向延伸。
如上文所述，缓冲层120、栅极绝缘层131、层间绝缘层132和钝化层133可以不被提供在非有源弯曲区域NBA中，由此解决了因屏板的内部应力在弯曲过程中增强而导致发光器件层被剥离、以及TFT短路的问题。
如图2所示，像素阵列层130可以被提供为在有源区域AA和非有源区域NA中具有不同的厚度。例如，像素阵列层130可以在有源区域AA中具有第二厚度d2，并且可以在非有源区域NA中具有第一厚度d1，其中，d2大于d1。该厚度差的出现可能是因为像素阵列层130的TFT T和有机发光层135仅被提供在有源区域AA中，并且只有多个无机层被提供在非有源区域NA中。
第二基板150可以被设置在像素阵列层130上，并且可以包括与像素阵列层130相邻的第一表面和与第一表面相对的第二表面。第二基板150的第一表面可以被附接在像素阵列层130上。第二基板150可以主要防止氧气或水渗透到发光器件层中。
根据实施例的第二基板150可以是由不透明金属材料形成的金属箔、金属片或金属板。例如，第二基板150可以由具有低热膨胀系数的铁(Fe)和镍(Ni)的合金形成，但不限于此。
第二基板150的第一表面可以通过粘合剂层140附接在像素阵列层130上。粘合剂层140可以是可热固化的粘合剂或者可自然固化的粘合剂等。例如，粘合剂层140可以由诸如压敏粘合剂或者具有吸湿功能的阻挡压敏粘合剂的材料形成。
覆盖层160可以被提供在第一基板110的非有源区域NA中，以覆盖第二基板150的侧表面。覆盖层160可以包括聚合物材料，并且例如可以由氨基甲酸乙酯、丙烯酸和/或类似材料形成。根据实施例的覆盖层160可以被提供为在与第一基板110的有源区域AA接触的非有源区域NA中在高度上高于粘合剂层140，并且可以防止水渗透通过粘合剂层140。
根据实施例的覆盖层160可以被提供为在有源区域AA的外侧部分处接触第二基板150，以便使发光器件层的侧表面不会通过粘合剂层140被暴露。
根据实施例的覆盖层160可以被提供为在通过经由激光释放工艺将释放层释放而将载体玻璃基板与第一基板110分开时防止第一基板110被卷起。具体而言，第二基板150可以不被提供在第一基板110的非有源区域NA中，并且出于该原因，柔性并且具有薄厚度的第一基板110可能被卷起。覆盖层160被提供在第一基板110的非有源区域NA中，以防止第一基板110被卷起，并且可以容易地执行形成用于支撑第一基板110的光透射膜190的层压工艺。
覆盖层160可以被提供为具有台阶高度。下文将描述覆盖层160的详细结构。
此外，根据本公开的显示设备可以进一步包括显示驱动电路单元180。
显示驱动电路单元180可以连接至被提供在第一基板110的上方非有源区域NA中的焊盘部分，并且可以显示对应于从显示驱动系统供应的视频数据的图像。根据实施例的显示驱动电路单元180可以包括多个柔性电路膜181、多个数据驱动集成电路(IC)183、印刷电路板(PCB)185和定时控制器187。
被提供在多个柔性电路膜181中的每者的一侧上的输入端子可以通过膜附接工艺而附接在PCB 185上，并且被提供在多个柔性电路膜181中的每者的另一侧上的输出端子可以通过膜附接工艺而附接在被提供在第一基板110上的焊盘部分上。
多个数据驱动IC 183中的每者可以单独安装在多个柔性电路膜181中的对应柔性电路膜上。多个数据驱动IC 183中的每者可以接收像素数据和从定时控制器187供应的数据控制信号，并且可以根据数据控制信号将像素数据转换成基于像素的模拟数据信号，以将模拟数据信号供应到对应数据线。
PCB 185可以支撑定时控制器187，并且可以在显示驱动电路单元180的元件之间传递信号和功率。
定时控制器187可以安装在PCB 185上，并且可以通过提供在PCB 185上的用户连接器而接收从显示驱动系统供应的视频数据和定时同步信号。定时控制器187可以基于定时同步信号来对准视频数据，以生成适合于像素阵列层130的像素布置结构的像素数据，并且可以将所生成的像素数据供应到对应的数据驱动IC 183。而且，定时控制器187可以根据定时同步信号来生成数据控制信号和扫描控制信号，通过使用数据控制信号来控制多个数据驱动IC 183中的每者的驱动定时，以及通过使用扫描控制信号来控制扫描驱动电路140的驱动定时。这里，扫描控制信号可以被供应到多个柔性电路膜181中的第一个或最后一个柔性电路膜，并且可以被通过第一基板110的非有源区域NA而供应到扫描驱动电路140。
此外，根据本公开的显示设备可以进一步包括被附接在第一基板110上以与第一基板110重叠的光透射膜190。
可以通过使用透明粘合剂层将光透射膜190附接在与缓冲层120被提供在第一基板110上的第一表面相对的第二表面上，并且因而使除了弯曲区域BA之外的区域保持在平面状态。根据实施例的光透射膜190可以由柔性膜形成，并且例如，所述光透射膜190可以是聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、抗反射膜、偏振膜和透射率可控膜之一。光透射膜190可以附接在第一基板110的与载体玻璃基板分开的第二表面上。透明粘合剂层可以是光学透明树脂(OCR)或者光学透明粘合剂(OCA)等。
图4是沿图1所示的线II-II’截取的截面图。在下文中省略了对相同元件的重复描述。
参考图4，覆盖层160可以被提供在非有源弯曲区域NBA中，从而与第一基板110直接接触。也就是说，由于像素阵列层130和缓冲层120中包含的多个无机层未被提供在非有源弯曲区域NBA中，因而覆盖层160可以直接接触第一基板110。
如上文所述，由于缓冲层120和多个无机层未被提供在非有源弯曲区域NBA中，因而在弯曲过程中防止了有机发光层135的剥离缺陷或者TFTT的短路缺陷。例如，由于覆盖层160被提供在作为最外部分的非有源区域NA中，因而与提供在有源区域AA中的第二基板150的下部部分相比，在弯曲过程中大的应力可以被施加到覆盖层160的下部部分。在示例中，由于有源区域AA中的最大应变为0.35％，并且提供覆盖层160的区域中的最大应变为7.38％，因而可以认为在提供覆盖层160的区域中发生损坏的概率比在有源区域AA中发生损坏的概率高21倍。而且，由于未在覆盖层160的下部部分中提供单独的粘合剂层，因而消除了粘合剂层吸收应力的效应，并且出于该原因，施加至覆盖层160的下部部分的应力可以非常大。而且，缓冲层120和多个无机层中的每者可以由易于断裂的无机材料形成，并且出于该原因，在缓冲层120和多个无机层被设置在覆盖层160之下时，施加了非常大的应力，由此缓冲层120和多个无机层可能断裂。
在因施加至缓冲层120和多个无机层的应力而出现裂纹时，裂纹可以通过缓冲层120和多个无机层被转移至有源区域AA中的TFT T和有机发光层135，从而引起TFT的短路缺陷和发光层EL的剥离缺陷。
在根据本公开的实施例的显示设备中，由于缓冲120和多个无机层未被提供在非有源弯曲区域NBA中，因而可以避免出现上文描述的缺陷。这里，可以通过蚀刻工艺将缓冲层120和多个无机层从非有源弯曲区域NBA中去除。在该情况下，可以将蚀刻工艺连同在层间绝缘层132和钝化层133的每者中形成接触孔的蚀刻工艺一起执行，并且因此可以在无需单独掩模的情况下执行图案化并且不需要额外的工艺。在根据本公开的显示设备中，解决了在弯曲过程中出现并传播裂纹的问题，并且因此增强了显示设备的质量和可靠性。
图5是沿图1所示的线III-III’截取的截面图。在下文中省略了对相同元件的重复描述。
参考图5，覆盖层160可以被提供为具有台阶高度。也就是说，如上文所述，覆盖层160可以在非有源弯曲区域NBA中直接接触第一基板110，并且可以在非有源非弯曲区域NNA中直接接触多个无机层。这里，覆盖层160可以直接接触设置在非有源非弯曲区域NNA中的多个无机层的最上部分中的钝化层133。
根据实施例的覆盖层160可以被提供为在非有源弯曲区域NBA和非有源非弯曲区域NNA中具有不同厚度。例如，覆盖层160的厚度可以被设置为在非有源弯曲区域NBA中比在非有源非弯曲区域NNA中更厚。出现这种厚度差(例如，台阶高度)可能是因为覆盖层160在非有源弯曲区域NBA中直接接触第一基板110，并且在非有源非弯曲区域NNA中直接接触钝化层133。
如图5所示，像素阵列层130可以具有第一厚度d1。另一方面，图4所示的像素阵列层130可以具有第二厚度d2。如上文所述，由于像素阵列层130的厚度被设置为在有源区域AA中比在非有源非弯曲区域NNA中更厚，因而在图4和图5中示出了像素阵列层130具有不同厚度的示例。
如上文所述，由于缓冲层120和多个无机层未被提供在非有源弯曲区域NBA中，因而在弯曲过程中防止了有机发光层135的剥离缺陷或者TFTT的短路缺陷。而且，由于缓冲层120和多个无机层未被提供在非有源弯曲区域NBA中，因而覆盖层160可以被提供为具有台阶高度。覆盖层160可以被提供为在非有源弯曲区域NBA中直接接触第一基板110。而且，被提供在覆盖层160之下的第一基板110可以对应于不易出现裂纹的材料，并且因此即使在大的应力被施加至覆盖层160的下部部分时，也不会出现裂纹，由此避免了由裂纹引起的缺陷。
此外，在根据本公开的实施例的显示设备中，由于缓冲层120和多个无机层未被提供在非有源弯曲区域NBA中，因而解决了在弯曲过程中出现和传播裂纹的问题，并且增强了显示设备的质量和可靠性。
如上文所述，在根据本公开的实施例的显示设备中，可以避免在执行弯曲时出现并传播裂纹，并且因此增强了显示设备的质量和可靠性。
对本领域技术人员而言将显而易见的是，可以对本公开做出各种修改和变化而不脱离本公开的精神或范围。因此，本公开旨在涵盖对本公开所做的修改和变化，只要其落在所附权利要求及其等价方案的范围内。

Claims (14)

1.一种显示装置，包括：
第一基板；
所述第一基板上的像素阵列层；
所述像素阵列层上的第二基板；以及
围绕所述第二基板的侧面的覆盖层，
其中，所述显示装置含有有源区域和非有源区域，所述第二基板处于所述有源区域中，并且所述覆盖层处于所述非有源区域中；并且
其中，所述覆盖层具有不同厚度，以限定台阶。
2.根据权利要求1所述的显示装置，其中：
所述像素阵列层在所述有源区域中的厚度比在所述非有源区域中的厚度大。
3.根据权利要求2所述的显示装置，其中：
处于所述有源区域中的像素阵列层含有有机发光层，并且处于所述非有源区域中的像素阵列层不含有所述有机发光层。
4.根据权利要求1所述的显示装置，其中：
在所述覆盖层的具有最大厚度并且直接接触所述第一基板的部分处不含有所述像素阵列层。
5.根据权利要求1所述的显示装置，其中：
所述覆盖层接触所述第二基板的侧表面。
6.根据权利要求1所述的显示装置，其中：
所述覆盖层含有聚合物材料。
7.根据权利要求1所述的显示装置，其中：
所述第一基板是柔性基板，并且含有透明聚酰亚胺材料。
8.根据权利要求1所述的显示装置，其中：
所述显示装置含有弯曲区域，所述弯曲区域与所述有源区域和所述非有源区域重叠，以限定相应的有源弯曲区域和非有源弯曲区域；并且
所述覆盖层在所述非有源弯曲区域中直接接触所述第一基板。
9.根据权利要求8所述的显示装置，其中：
处于所述非有源弯曲区域中的所述覆盖层的厚度大于处于非有源非弯曲区域中的所述覆盖层的厚度，以限定所述台阶。
10.根据权利要求1所述的显示装置，进一步包括：
处于所述像素阵列层和所述第一基板之间的缓冲层。
11.根据权利要求8所述的显示装置，其中：
所述像素阵列层含有多个无机层；并且
所述覆盖层在非有源非弯曲区域中直接接触所述多个无机层。
12.根据权利要求8所述的显示装置，进一步包括：
处于所述像素阵列层和所述第一基板之间的缓冲层，其中，
所述像素阵列层含有多个无机层；并且
所述缓冲层和所述多个无机层被提供在除了所述非有源弯曲区域以外的整个所述第一基板上。
13.根据权利要求11所述的显示装置，其中：
所述多个无机层含有栅极绝缘层、层间绝缘层和钝化层，所述栅极绝缘层、所述层间绝缘层和所述钝化层均处于除了所述非有源弯曲区域之外的整个所述第一基板上。
14.根据权利要求13所述的显示装置，其中，所述覆盖层在所述非有源非弯曲区域中直接接触所述多个无机层中的所述钝化层。
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