JP2019120934A - ディスプレイ装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】 曲げを容易にしてゼロベゼルを有することができるディスプレイ装置を提供する。【解決手段】 本出願によるディスプレイ装置は、アクティブ領域および非アクティブ領域を含むディスプレイ装置に関するもので、第１基板、前記第１基板上に設けられた画素アレイ層、前記画素アレイ層上に設けられた第２基板、及び前記第２基板の側面を覆うカバー膜含み、前記第２基板はアクティブ領域に設けられ、前記カバー膜は非アクティブ領域に設けられ、前記カバー膜は段差を形成するとともに異なる厚さを有する。【選択図】図１

Description

本出願は、ディスプレイ装置に関するものである。
情報化社会が発展するにつれて、映像を表示するための表示装置への要求が様々な形で高まっている。最近になって、よりスリム化された有機発光表示装置が発売されていて、そのうちフレキシブルな有機発光表示装置は、携帯が容易であり、様々な形状の装置に適用することができるなど、多くの利点を有している。
フレキシブルな有機発光表示装置は、基板を折り曲げることができる曲げ領域を含み、曲げ領域で基板を折り曲げてベゼルのサイズを小さくすることができるので、狭いベゼルを有する有機発光表示装置を具現することができる。
ただし、より狭いベゼルを有するために曲げの程度を増加させた場合、曲げ領域に含まれている無機膜層がストレスに脆弱で破損し、最外殻のストレスが増えてパネル内部の応力が強くなる。この結果、発光素子層が剥離して薄膜トランジスタが断線するなどの問題が発生する。
なお、上述の背景技術は、本出願の発明者が本出願の導出のために保有していたか、または本出願の導出過程で習得した技術情報であって、必ずしも本出願の出願前に一般公衆に公開された公知技術ではない。
特開２０１８−９２１５０号公報
本出願は、曲げを容易にしてゼロベゼルを実現可能なディスプレイ装置を提供することを技術的課題とする。
本出願によるディスプレイ装置は、アクティブ領域および非アクティブ領域を含むディスプレイ装置に関するもので、第１基板、前記第１基板上に設けられた画素アレイ層、前記画素アレイ層の上に設けられた第２基板、及び前記第２基板の側面を覆うカバー膜を含み、前記第２基板はアクティブ領域に設けられ、前記カバー膜は非アクティブ領域に設けられ、前記カバー膜は段差を定義する異なる厚さを有している。
本出願によるディスプレイ装置は、曲げ時にクラックが発生して伝播することを防止することができ、これにより、ディスプレイ装置の品質および信頼性を向上させることができる。
上述した本出願の効果以外にも、本出願の異なる特徴および利点は、以下の記述や、そのような記述および説明から、本出願が属する技術分野で通常の知識を有する者に明確に理解されるだろう。
本出願の一例によるディスプレイ装置の平面図である。 図１に示した線Ｉ−Ｉ’の断面図である。 図２の画素アレイ層を説明するための断面図である。 図１に示した線ＩＩ−ＩＩ’の断面図である。 図１に示した線ＩＩＩ−ＩＩＩ’の断面図である。
本発明の利点および特徴、そしてそれらを達成する方法は、添付の図と共に詳細に後述する実施例を参照すると明確になるだろう。しかし、本発明は、以下で開示する実施例に限定されるものではなく、互いに異なる多様な形態で具現されるものであり、単に本実施例は、本発明の開示を完全にし、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供されるものであり、本発明は、請求項の範疇によってのみ定義される。
本発明の実施例を説明するために図で開示した形状、大きさ、比率、角度、数などは例示的なものなので、本発明は、図に示した事項に限定されるものではない。明細書全体にわたって同一参照符号は同一の構成要素を指すことができる。また、本発明を説明するにおいて、関連する公知技術に対する詳細な説明が本発明の要旨を不必要に曖昧にすると判断される場合、その詳細な説明は省略する。
本明細書で言及した「含む」、「有する」、「からなる」などが使用されている場合は、「〜だけ」が使用されていない限り、他の部分が追加され得る。構成要素を単数で表現する場合に特に明示的な記載事項がない限り、複数が含まれる場合を含む。
構成要素を解釈するに当たり、別途の明示的な記載がなくても誤差の範囲を含むものと解釈する。
位置関係の説明である場合には、例えば、「〜上に」、「〜の上部に」、「〜の下部に」、「〜の隣に」など２つの部分の位置関係が説明されている場合は、「すぐに」または「直接」が使用されていない以上、二つの部分の間に１つ以上の他の部分が位置することもできる。
時間の関係に対する説明である場合には、例えば、「〜の後」、「〜に続いて」、「〜次に」、「〜前に」などで時間的前後関係が説明されている場合は、「すぐに」または「直接」が使用されていない以上、連続していない場合も含み得る。
第１、第２などが多様な構成要素を記述するために使用されるが、これらの構成要素はこれらの用語によって制限されない。これらの用語は、ただ一つの構成要素を他の構成要素と区別するために使用されるものである。したがって、以下に記載されている第１構成要素は、本発明の技術的思想内で第２構成要素であることもある。
「第１水平軸方向」、「第２水平軸方向」および「垂直軸方向」は、互いの関係が垂直方向に成り立った幾何学的な関係だけに解釈されてはならず、本発明の構成は、機能的に作用することができる範囲内より広い方向性を有することを意味し得る。
「少なくとも一つ」の用語は、一つ以上の関連項目から提示可能なすべての組み合わせを含むものと理解されなければならない。たとえば、「第１項目、第２項目及び第３項目のうち少なくとも一つ」の意味は、第１項目、第２項目または第３項目のそれぞれのみならず、第１項目、第２項目及び第３項目の中で２つ以上から提示することができるすべての項目の組み合わせを意味する。
本発明のいくつかの例のそれぞれの特徴は、部分的または全体的に互いに結合または組み合わせ可能で、技術的に様々な連動と駆動が可能であり、各実施例が互いに独立して実施可能であり、関連して一緒に実施され得る。
以下では、本出願によるディスプレイ装置の好ましい例を添付の図を参照して詳細に説明する。各図の構成要素に参照符号を付加するにおいて、同一の構成要素に対して、たとえ他の図面上に表示されていても、可能な限り同一の符号を有することができる。
図１は、本出願の一例によるディスプレイ装置の平面図であり、図２は、図１に示した線Ｉ−Ｉ’の断面図であり、図３は、図２の画素アレイ層を説明するための断面図ある。
図１〜図３を参照すると、本例に係るディスプレイ装置は、第１基板１１０、画素アレイ層１３０、第２基板１５０およびカバー膜１６０を含む。
第１基板１１０は、ベース基板であってフレキシブル基板である。例えば、第１基板１１０は、透明ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）材質を含むことができる。ポリイミド材質の第１基板１１０は、キャリアガラス基板に設けられているリリース層の前面に一定の厚さでコーティングされたポリイミド樹脂が硬化したものであり得る。キャリアガラス基板は、レーザーリリース工程を用いたリリース層のリリースによって第１基板１１０から分離される。
第１基板１１０は、アクティブ領域（ＡＡ）、非アクティブ領域（ＮＡ）および曲げ領域（ＢＡ）を含むことができる。
アクティブ領域（ＡＡ）は、映像が表示される表示領域であって、第１基板１１０の中央部分に定義することができる。
非アクティブ領域（ＮＡ）は、映像が表示されない非表示領域であり、アクティブ領域（ＡＡ）を取り囲むように、第１基板１１０の端部に定義することができる。
曲げ領域（ＢＡ）は、曲面形態に曲げる部分として定義することができる。
一例による曲げ領域（ＢＡ）は、アクティブ領域（ＡＡ）および非アクティブ領域（ＮＡ）と重畳する領域を有することができる。ここで、曲げ領域（ＢＡ）とアクティブ領域（ＡＡ）が重畳する領域はアクティブ曲げ領域（ＡＢＡ）、曲げ領域（ＢＡ）と非アクティブ領域（ＮＡ）が重畳する領域は非アクティブ曲げ領域（ＮＢＡ）とみなすことができる。
これにより、アクティブ領域（ＡＡ）は、アクティブ曲げ領域（ＡＢＡ）およびこれを除いた残りの領域に該当するアクティブ非曲げ領域（ＡＮＡ）を含み、非アクティブ領域（ＮＡ）は、非アクティブ曲げ領域（ＮＢＡ）およびこれを除いた残りの領域に該当する非アクティブ非曲げ領域（ＮＮＡ）を含む。
ここで、アクティブ曲げ領域（ＡＢＡ）は側面に映像を表示するエッジ表示領域と見ることができ、アクティブ非曲げ領域（ＡＮＡ）は正面に映像を表示する正面表示領域と見ることができる。
このような第１基板１１０の上にバッファ層１２０が形成され得る。バッファ層１２０は、第１基板１１０を介して、アクティブ領域（ＡＡ）に浸透する水分を遮断するために、第１基板１１０の上面に形成される。一例によるバッファ層１２０は、交互い積層された複数の無機膜からなり得る。例えば、バッファ層１２０は、シリコン酸化膜（ＳｉＯｘ）、シリコン窒化膜（ＳｉＮｘ）およびシリコン酸窒化膜（ＳｉＯＮ）の中の一つ以上の無機膜が交互に積層した多重膜で形成することができる。
画素アレイ層１３０は、バッファ層１２０上に設けられる。一例による画素アレイ層１３０は、ゲートライン、データライン、駆動電源ライン、薄膜トランジスタ（Ｔ）、バンク１３４、有機発光層１３５、隔壁１３６および封止層１３７を含むことができる。
ゲートラインは、ゲート絶縁層１３１上に設けられ、第１方向（Ｘ）と平行かつ、第２方向（Ｙ）に沿って互いに離隔し得る。このようなゲートラインは、層間絶縁層１３２によって覆われる。
データラインは、層間絶縁層１３２上に設けられ、第２方向（Ｙ）と平行かつ、第１方向（Ｘ）に沿って互いに離隔し得る。
駆動電源ラインは、データラインと平行に層間絶縁層１３２上に設けることができる。
薄膜トランジスタ（Ｔ）は、バッファ層１２０上に設けられる。詳細には、薄膜トランジスタ（Ｔ）は、アクティブ領域（ＡＡ）と重畳するバッファ層１２０上の領域に形成される。薄膜トランジスタ（Ｔ）は、バッファ層１２０上に設けられたアクティブ層（ＡＣＴ）、アクティブ層（ＡＣＴ）上に設けられたゲート絶縁層１３１、ゲート絶縁層１３１上に設けられたゲート電極（ＧＥ）、ゲート電極（ＧＥ）上に設けられた層間絶縁層１３２、層間絶縁層１３２上に設けられアクティブ層（ＡＣＴ）に接続するソース電極（ＳＥ）とドレイン電極（ＤＥ）を含む。このようなソース電極（ＳＥ）およびドレイン電極（ＤＥ）は、パッシベーション層１３３によって覆うことができる。図３では薄膜トランジスタ（Ｔ）がトップゲート方式で形成された例を示したが、これに限定されず、ゲート電極（ＧＥ）がアクティブ層（ＡＣＴ）の下に配置されるボトムゲート方式で形成することもできる。このような薄膜トランジスタ（Ｔ）は、隣接するゲートラインから供給されるゲート信号、隣接した駆動電源ラインから供給される駆動電源、およびデータラインから供給されるデータ信号によって、有機発光層１３５を発光させる。
バンク１３４は、発光領域を定義するもので、画素定義膜と表現することもできる。バンク１３４は、第１電極（Ｅ１）の端とパッシベーション層１３３上に設けられ、発光領域を定義する。一例として、バンク１３４は、アクリル樹脂（ａｃｒｙｌ ｒｅｓｉｎ）、エポキシ樹脂（ｅｐｏｘｙ ｒｅｓｉｎ）、フェノール樹脂（ｐｈｅｎｏｌｉｃ ｒｅｓｉｎ）、ポリアミド樹脂（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ ｒｅｓｉｎ）、ポリイミド樹脂（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ ｒｅｓｉｎ）、ベンゾシクロブテン（ｂｅｎｚｏｃｙｃｌｏｂｕｔｅｎｅ）樹脂、およびフッ素樹脂のいずれか一つの有機物質からなり得る。別の例として、バンク１３４は、黒色顔料を含む感光物質からなり得、この場合には、バンク１３４は、遮光パターンの役割をすることができる。
有機発光層１３５は、薄膜トランジスタ（Ｔ）上に設けられる。このような有機発光層１３５は、第１電極（Ｅ１）、発光層（ＥＬ）、第２電極（Ｅ２）を含む。
第１電極（Ｅ１）は、薄膜トランジスタ（Ｔ）上に設けられるもので、アノード電極と表現することもできる。第１電極（Ｅ１）は、パッシベーション層１３３に設けられたコンタクトホールを介して薄膜トランジスタ（Ｔ）に電気的に接続する。
発光層（ＥＬ）は、第１電極（Ｅ１）上に設けられる。一例による発光層（ＥＬ）は、白色光を放出するための２以上の発光部を含む。例えば、発光層（ＥＬ）は、第１光と第２光の混合によって白色光を放出するための第１発光部と第２発光部を含むことができる。ここで、第１発光部は、第１光を放出するもので、青色発光層、緑色発光層、赤色発光層、黄色発光層および黄緑色発光層の中のいずれか一つを含むことができる。第２発光部は、青色発光層、緑色発光層、赤色発光層、黄色発光層および黄緑色発光層の中で、第１光と補色関係を有する光を放出する発光層を含むことができる。
第２電極（Ｅ２）は、発光層（ＥＬ）を覆うように形成されるもので、カソード電極と表現することもできる。
隔壁１３６は、バンク１３４上に設けられる。このような隔壁１３６は、発光領域と重畳する領域に設けられる発光層（ＥＬ）を隔離することができる。一例として、隔壁１３６は、アクリル樹脂（ａｃｒｙｌ ｒｅｓｉｎ）、エポキシ樹脂（ｅｐｏｘｙ ｒｅｓｉｎ）、フェノール樹脂（ｐｈｅｎｏｌｉｃ ｒｅｓｉｎ）、ポリアミド樹脂（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ ｒｅｓｉｎ）、ポリイミド樹脂（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ ｒｅｓｉｎ）、ベンゾシクロブテン（ｂｅｎｚｏｃｙｃｌｏｂｕｔｅｎｅ）樹脂、およびフッ素樹脂中のいずれか一つの有機物質からなり得る。
封止層１３７は、第２電極（Ｅ２）を覆うように設けられる。一例による封止層１３７は、発光層（ＥＬ）に酸素または水分が浸透することを防止する役割をする。一例による封止層１３７は、シリコン酸化膜（ＳｉＯｘ）、シリコン窒化膜（ＳｉＮｘ）、シリコン酸窒化膜（ＳｉＯＮ）、チタン酸化膜（ＴｉＯｘ）、およびアルミニウム酸化膜（ＡｌＯｘ）中のいずれか一つの無機物質を含むことができる。
選択的に、封止層１３７は、少なくとも一つの有機膜をさらに含むことができる。有機膜は、異物（ｐａｒｔｉｃｌｅｓ）が封止層１３７を突き抜けて発光素子層に浸透することを防止するために十分な厚さで形成することができる。一例による有機膜は、アクリル樹脂（ａｃｒｙｌ ｒｅｓｉｎ）、エポキシ樹脂（ｅｐｏｘｙ ｒｅｓｉｎ）、フェノール樹脂（ｐｈｅｎｏｌｉｃ ｒｅｓｉｎ）、ポリアミド樹脂（ｐｏｌｙａｍｉｄｅ ｒｅｓｉｎ）、ポリイミド樹脂（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ ｒｅｓｉｎ）、ベンゾシクロブテン（ｂｅｎｚｏｃｙｃｌｏｂｕｔｅｎｅ）樹脂、およびフッ素樹脂中のいずれか一つの有機物質からなり得る。
一例による画素アレイ層１３０は、複数の無機層を含む。例えば、前述したゲート絶縁層１３１、層間絶縁層１３２、およびパッシベーション層１３３で構成された複数の無機層を含むことができる。ゲート絶縁層１３１、層間絶縁層１３２、およびパッシベーション層１３３のそれぞれは、無機物質で形成され、第１基板１１０の非アクティブ曲げ領域（ＮＢＡ）を除いた残りの領域の前面に設けられるように長く延長することができる。同様にバッファ層１２０も前記複数の無機層と同じ領域に長く延長して形成することができる。
このように、バッファ層１２０、ゲート絶縁層１３１、層間絶縁層１３２、およびパッシベーション層１３３のそれぞれは、非アクティブ曲げ領域（ＮＢＡ）に形成されないため、曲げ時にパネル内部の応力が強くなって発生する発光素子層の剥離、および薄膜トランジスタの断線などの問題を防止することができる。これに対する詳細な原理は、後述することにする。
図２に示すように、画素アレイ層１３０は、アクティブ領域（ＡＡ）と非アクティブ領域（ＮＡ）で、異なる厚さを有するように形成することができる。例えば、画素アレイ層１３０は、アクティブ領域（ＡＡ）で第２厚さ（ｄ２）を有し、非アクティブ領域（ＮＡ）で第１厚さ（ｄ１）を有するように形成することができる。これは画素アレイ層１３０の薄膜トランジスタ（Ｔ）、および有機発光層１３５がアクティブ領域（ＡＡ）のみに形成され、非アクティブ領域（ＮＡ）には、複数の無機層のみが形成されることによって生じる厚さの差と見ることができる。
第２基板１５０は、画素アレイ層１３０上に配置されるもので、画素アレイ層１３０に隣接した第１面、及び第１面とは反対の第２面を有する。第２基板１５０の第１面は、画素アレイ層１３０に付着する。このような第２基板１５０は、酸素または水分が発光素子層に浸透することを一次的に遮断する役割をする。
一例による第２基板１５０は、不透明なメタル材質からなるメタル箔、メタルシート、またはメタルプレートであり得る。例えば、第２基板１５０は、熱膨張係数が低い鉄（Ｆｅ）とニッケル（Ｎｉ）の合金材質からなり得るが、これに限定されない。
このような第２基板１５０の第１面は、接着層１４０を介して画素アレイ層１３０に付着する。このような接着層１４０は、熱硬化型または自然硬化型の接着剤であり得る。例えば、接着層１４０は、減圧接着剤または吸湿機能を有するバリア減圧接着剤のような物質からなり得る。
カバー膜１６０は、第２基板１５０の側面を覆うように、第１基板１１０の非アクティブ領域（ＮＡ）上に設けられる。このようなカバー膜１６０は、ポリマー材質を含むものでウレタンまたはアクリルからなり得る。一例によるカバー膜１６０は、第１基板１１０のアクティブ領域（ＡＡ）と接する非アクティブ領域（ＮＡ）で接着層１４０よりも高く設けて接着層１４０を通じた透湿を防止することができる。
一例によるカバー膜１６０は、発光素子層の側面が接着層１４０を介して露出しないように、第２基板１５０とアクティブ領域（ＡＡ）の外郭で互いに接するように備えることができる。
一例によるカバー膜１６０は、キャリアガラス基板がレーザーリリース工程を用いたリリース層のリリースにより、第１基板１１０から分離される過程で、第１基板１１０が丸まる現象を防止するために設けられる。詳細には、第１基板１１０の非アクティブ領域（ＮＡ）には、第２基板１５０が設けられず、フレキシブルで薄い厚さを有する第１基板１１０が巻き込まれる現象が発生する。このようなカバー膜１６０は、第１基板１１０の非アクティブ領域（ＮＡ）に設けられ、第１基板１１０が湾曲する現象を防止することができ、後に第１基板１１０を支持するための透光性フィルム１９０を形成するラミネート工程を容易にすることができる。
このようなカバー膜１６０は、段差を有するように設けることができる。これに対する詳細な構造は、後述することにする。
追加的に、本出願によるディスプレイ装置は、ディスプレイ駆動回路部１８０をさらに含む。
ディスプレイ駆動回路部１８０は、第１基板１１０の上側非アクティブ領域（ＮＡ）に設けられたパッド部に接続して、ディスプレイ駆動システムから供給される映像データに対応する映像を各画素に表示する。一例によるディスプレイ駆動回路部１８０は、複数のフレキシブル回路フィルム１８１、複数のデータ駆動集積回路１８３、プリント回路基板１８５、およびタイミング制御部１８７を含む。
複数のフレキシブル回路フィルム１８１それぞれの一方の側に設けられた入力端子は、フィルム付着工程によってプリント回路基板１８５に付着し、複数のフレキシブル回路フィルム１８１それぞれの他方の側に設けられた出力端子は、フィルム付着工程によって第１基板１１０に設けられたパッド部に付着する。
複数のデータ駆動集積回路１８３のそれぞれは、複数のフレキシブル回路フィルム１８１それぞれに個別に実装される。このような複数のデータ駆動集積回路１８３のそれぞれは、タイミング制御部１８７から提供される画素データとデータ制御信号を受信し、データ制御信号によって画素データをアナログの画素別のデータ信号に変換して、該当するデータラインに供給する。
プリント回路基板１８５は、タイミング制御部１８７を支持し、ディスプレイ駆動回路部１８０の構成間の信号および電源を提供する役割をする。
タイミング制御部１８７は、プリント回路基板１８５に実装され、プリント回路基板１８５に設けられたユーザコネクタを介してディスプレイ駆動システムから提供される映像データとタイミング同期信号を受信する。タイミング制御部１８７は、タイミング同期信号に基づいて映像データを画素アレイ層１３０の画素配置構造に適合するように整列して画素データを生成し、生成した画素データを該当するデータ駆動集積回路１８３に提供する。また、タイミング制御部１８７は、タイミング同期信号に基づいて、データ制御信号とスキャン制御信号のそれぞれを生成し、データ制御信号を介して複数のデータ駆動集積回路１８３それぞれの駆動タイミングを制御し、スキャン制御信号を介してスキャン駆動回路の駆動タイミングを制御する。ここで、スキャン制御信号は、複数のフレキシブル回路フィルム１８１のうちの最初のまたは／および最後のフレキシブル回路フィルムと、第１基板１１０の非アクティブ領域（ＮＡ）を介して該当するスキャン駆動回路に供給することができる。
さらに、本出願による表示装置は、第１基板１１０に重畳するように、第１基板１１０に付着した透光性フィルム１９０をさらに含む。
透光性フィルム１９０は、透明接着層を媒介にして、第１基板１１０にバッファ層１２０が形成される第１面とは反対の第２面に貼り付けられることによって、曲げ領域（ＢＡ）を除く残りの領域を平滑な状態に維持する。一例による透光性フィルム１９０は、フレキシブルフィルムからなり得、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）フィルム、反射防止フィルム、偏光フィルム、および透過度制御フィルム（ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ ｃｏｎｔｒｏｌｌａｂｌｅ ｆｉｌｍ）中の少なくとも一つのフィルムであり得る。このような透光性フィルム１９０は、キャリアガラス基板から分離された第１基板１１０の第２面に付着することができる。透明接着層は、ＯＣＲ（ｏｐｔｉｃａｌｌｙ ｃｌｅａｒ ｒｅｓｉｎ）またはＯＣＡ（ｏｐｔｉｃａｌｌｙ ｃｌｅａｒ ａｄｈｅｓｉｖｅ）であり得る。
図４は、図１に示した線ＩＩ−ＩＩ’の断面図である。以下、重複する構成についての重複説明は省略することにする。
図４を参照すると、前記カバー膜１６０は、非アクティブ曲げ領域（ＮＢＡ）で第１基板１１０と直接に接触するように形成される。つまり、非アクティブ曲げ領域（ＮＢＡ）には、バッファ層１２０、および画素アレイ層１３０に含まれた複数の無機層が設けられないので、カバー膜１６０が第１基板１１０と直接に接触することができる。
このように、非アクティブ曲げ領域（ＮＢＡ）には、バッファ層１２０および複数の無機層が設けられないため、曲げ時に発生する有機発光層１３５の剥離不良または薄膜トランジスタ（Ｔ）の断線不良を防止することができる。例えば、カバー膜１６０は、第１基板１１０の最外殻である非アクティブ領域（ＮＡ）に形成されるので、曲げ時にカバー膜１６０の下部は、アクティブ領域（ＡＡ）に形成された第２基板１５０の下部と対比して、大きな応力が加えられ得る。例えば、アクティブ領域（ＡＡ）の場合、最大応力が０．３５％である一方、カバー膜１６０形成領域は、最大応力が７．３８％に達し、ダメージが発生する確率が２１倍も高くなる。また、カバー膜１６０の下部には、別個の接着層が形成されず、接着層内で応力を吸収する効果が消失し、カバー膜１６０の下部に加わる応力が非常に大きくなり得る。そして、バッファ層１２０および複数の無機層は壊れやすい無機物質で形成されるので、このようなバッファ層１２０および複数の無機層がカバー膜１６０の下部に配置されると、非常に大きな応力が作用してバッファ層１２０および複数の無機層にクラックが生じ得る。
このようなバッファ層１２０および複数の無機層に応力が作用し、クラックが発生すると、クラックがバッファ層１２０および複数の無機層を介して、アクティブ領域（ＡＡ）の薄膜トランジスタ（Ｔ）および有機発光層１３５に伝達される。この結果、薄膜トランジスタの断線不良または発光層（ＥＬ）の剥離不良が生じ得る。
ただし、本出願の一例によるディスプレイ装置は、非アクティブ曲げ領域（ＮＢＡ）にバッファ層１２０および複数の無機層を設けないことによって、上述したような不良が起こることを防止することができる。ここで、バッファ層１２０および複数の無機層は、エッチング工程によって非アクティブ曲げ領域（ＮＢＡ）から除去され得る。ここで、エッチング工程は、従来の層間絶縁層１３２、パッシベーション層１３３にコンタクトホールを形成するためのエッチング工程を実行する際に、一緒に行なうことができるので、別個のマスクを用いることなくパターニングが可能で、追加工程を必要としない。このようなディスプレイ装置は、曲げ時にクラックが発生して伝播することを防止することができ、これにより、ディスプレイ装置の品質および信頼性を向上させることができる。
図５は、図１に示した線ＩＩＩ−ＩＩＩ’の断面図である。以下、重複する構成についての重複説明は省略することにする。
図５を参照すると、前記カバー膜１６０は、段差を有するように形成する。つまり、カバー膜１６０は、前述したように、非アクティブ曲げ領域（ＮＢＡ）で第１基板１１０と直接に接触して、非アクティブ非曲げ領域（ＮＮＡ）で複数の無機層と直接に接触する。ここで、カバー膜１６０は、非アクティブ非曲げ領域（ＮＮＡ）で複数の無機層、その中でも最も上側に位置するパッシベーション層１３３と直接に接触することができる。
一例によるカバー膜１６０は、非アクティブ曲げ領域（ＮＢＡ）と非アクティブ非曲げ領域（ＮＮＡ）で互いに異なる厚さを有するように形成される。例えば、カバー膜１６０は、非アクティブ非曲げ領域（ＮＮＡ）より非アクティブ曲げ領域（ＮＢＡ）で厚い厚さを有するように形成することができる。これは、前述したように、カバー膜１６０が非アクティブ曲げ領域（ＮＢＡ）で第１基板１１０と直接に接触して、非アクティブ非曲げ領域（ＮＮＡ）でパッシベーション層１３３と直接に接触するように形成されるので、厚さの差、すなわち段差を有することができる。
図５に示すように画素アレイ層１３０は、第１厚さ（ｄ１）を有する。これは、図４に示した画素アレイ層１３０が第２厚さ（ｄ２）を有することと対比することができる。このような画素アレイ層１３０は、前述したように、非アクティブ非曲げ領域（ＮＮＡ）よりアクティブ領域（ＡＡ）で厚い厚さを有するので、図４及び図５に示されている。
このように、非アクティブ曲げ領域（ＮＢＡ）には、バッファ層１２０および複数の無機層が設けられないため、曲げ時に発生する有機発光層１３５の剥離不良または薄膜トランジスタ（Ｔ）の断線不良を防止することができる。また、カバー膜１６０は、非アクティブ曲げ領域（ＮＢＡ）にバッファ層１２０および複数の無機層を設けないことによって段差を有するように形成することができる。カバー膜１６０は、非アクティブ曲げ領域（ＮＢＡ）で第１基板１１０と直接に接触することができるように形成する。そして、カバー膜１６０の下部に設けられた第１基板１１０は、クラックが容易に生じない物質に該当するので、カバー膜１６０の下部に大きな応力が作用しても、クラック発生の問題が発生せず、クラック発生による不良を防止することができる。
このように、本出願の一例によるディスプレイ装置は、非アクティブ曲げ領域（ＮＢＡ）にバッファ層１２０および複数の無機層を設けないことによって、曲げ時にクラックが発生して伝播することを防止することができ、ディスプレイ装置の品質および信頼性を向上させることができる。
以上で説明した本出願は、前述した実施例及び添付の図に限定されるものではなく、本出願の技術的事項を逸脱しない範囲内で、複数の置換、変形及び変更が可能であることが、本出願が属する技術分野で通常の知識を有する者にとって明らかであろう。したがって、本出願の範囲は、後述する特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲の意味及び範囲そしてその等価概念から導出されるすべての変更または変形された形態が本出願の範囲に含まれるものと解釈されなければならない。
１１０：第１基板
１２０：バッファ層
１３０：画素アレイ層
１４０：接着層
１５０：第２基板
１６０：カバー膜
１８０：ディスプレイ駆動回路部
１９０：透光性フィルム

Claims (14)

  1. アクティブ領域および非アクティブ領域を含むディスプレイ装置において、
    第１基板と、
    前記第１基板上に設けられた画素アレイ層と、
    画素アレイ層上に設けられた第２基板と、
    前記第２基板の側面を覆うカバー膜とを含み、
    前記第２基板はアクティブ領域に設けられ、前記カバー膜は非アクティブ領域に設けられ、前記カバー膜は段差を形成するとともに異なる厚さを有するディスプレイ装置。
  2. 前記画素アレイ層は、前記非アクティブ領域より前記アクティブ領域で厚い厚さを有する、請求項１に記載のディスプレイ装置。
  3. 前記アクティブ領域の画素アレイ層は有機発光層を含み、
    前記非アクティブ領域の画素アレイ層は有機発光層を含まない、請求項２に記載のディスプレイ装置。
  4. 前記画素アレイ層は、前記カバー膜が設けられない部分においては厚い厚さを有し、前記第１基板と直接に接触する、請求項１に記載のディスプレイ装置。
  5. 前記カバー膜は前記第２基板の側面と接触する、請求項１に記載のディスプレイ装置。
  6. 前記カバー膜はポリマー材質を含む、請求項１に記載のディスプレイ装置。
  7. 前記第１基板は、フレキシブル基板であり、透明なポリイミド材質を含む、請求項１に記載のディスプレイ装置。
  8. 前記ディスプレイ装置は前記アクティブ領域および非アクティブ領域と重畳する曲げ領域を含み、
    前記曲げ領域はアクティブ曲げ領域および非アクティブ曲げ領域を含み、
    前記カバー膜は非アクティブ曲げ領域の第１基板と直接に接触する、請求項１に記載のディスプレイ装置。
  9. 前記非アクティブ曲げ領域のカバー膜の厚さは、前記非アクティブ非曲げ領域のカバー膜の厚さよりも厚く、段差を有する、請求項１に記載のディスプレイ装置。
  10. 前記画素アレイ層及び第１基板との間に設けられたバッファ層をさらに含む、請求項１に記載のディスプレイ装置。
  11. 前記画素アレイ層は複数の無機層を含み、
    前記カバー膜は前記非アクティブ非曲げ領域で前記複数の無機層と直接に接触する、請求項８に記載のディスプレイ装置。
  12. 前記画素アレイ層及び第１基板との間に設けられたバッファ層をさらに含み、
    前記画素アレイ層は複数の無機層を含み、
    前記バッファ層および複数の無機層は、前記非アクティブ曲げ領域を除いた前記第１基板の前面上に設けられる、請求項８に記載のディスプレイ装置。
  13. 前記複数の無機層は、それぞれ前記非アクティブ曲げ領域を除いた前記第１基板の前面上に設けられる、ゲート絶縁層、層間絶縁層およびパッシベーション層を含む、請求項１１に記載のディスプレイ装置。
  14. 前記カバー膜は、前記非アクティブ非曲げ領域で前記複数の無機層のパッシベーション層と直接に接触する、請求項１３に記載のディスプレイ装置。
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