CN109983376A - 带涂覆层的偏振片的制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种防止涂覆层的耐候性的降低、涂覆层与偏振片的保护膜的密合性优异的带涂覆层的偏振片的制造方法。本发明的带涂覆层的偏振片的制造方法是如下带涂覆层的偏振片的制造方法，该带涂覆层的偏振片包含偏振片和涂覆层，该偏振片具备起偏器和配置在该起偏器的至少一个面上的保护膜，该涂覆层形成于至少1片该保护膜的与该起偏器相反一侧的面；该制造方法包括：将该起偏器与该保护膜进行层叠而形成偏振片后，形成该涂覆层。

Description

带涂覆层的偏振片的制造方法

技术领域

本发明涉及一种带涂覆层的偏振片的制造方法。

背景技术

用于图像显示装置的偏振片有时为了对该偏振片赋予规定的功能而设置涂覆层。例如设置用于防止因与外部的接触而引起的损伤的硬涂层、用于提高防眩性的防眩层。以往，这样的涂覆层是通过在偏振片上层叠由涂覆层和基材构成的表面膜(例如硬涂膜、防眩膜)而设置的。

一般而言，偏振片由起偏器和为了保护该起偏器而层叠的保护膜构成。以往，通过在该保护膜上贴附设置有涂覆层的表面膜而形成带涂覆层的偏振片。另外，图像显示装置在室外使用的场景也不断增多，要求确立制造耐候性优异的带涂覆层的偏振片的技术。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2016-68497号公报

发明内容

发明所要解决的课题

一般而言，偏振片由起偏器和为了保护该起偏器而层叠的保护膜构成。另外，有时通过将在该保护膜上涂装涂覆层而形成的带涂覆层的保护膜贴合至起偏器上而形成偏振片。然而，此时会因贴合工序中对膜施加的热、因贴合而由起偏器等施加的应力而对带涂覆层的保护膜产生负荷，因此可能导致涂覆层与膜的密合性降低。

另外，以往，有时为了提高耐候性而使偏振片所具备的保护膜中含有紫外线吸收剂，随着保护膜的薄型化而紫外线吸收剂的添加浓度增大。在这样的保护膜上直接形成涂覆层的情况下，向涂覆层溶出的紫外线吸收剂的影响变大，上述密合性降低的问题变得更显著。更详细而言，在将带涂覆层的保护膜与起偏器贴合时，导致在形成于涂覆层与保护膜之间的渗透层中存在大量的紫外线吸收剂，在耐候性试验中容易受到损伤，上述贴合时的负荷的影响显现。其结果是，涂覆层的耐候性(耐候密合性)显著降低。

本发明是为了解决上述以往的课题而进行的，其目的在于提供一种防止涂覆层的耐候性的降低、涂覆层与偏振片的保护膜的密合性优异的带涂覆层的偏振片的制造方法。

用于解决课题的手段

本发明的带涂覆层的偏振片的制造方法是如下带涂覆层的偏振片的制造方法，该带涂覆层的偏振片包含偏振片和涂覆层，该偏振片具备起偏器和配置在该起偏器的至少一个面上的保护膜，该涂覆层形成于至少1片该保护膜的与该起偏器相反一侧的面上，上述带涂覆层的偏振片的制造方法包括：将该起偏器与该保护膜进行层叠而形成偏振片后，形成该涂覆层。

在一实施方式中，包括：通过在上述保护膜上涂装涂覆层形成用组合物而形成上述涂覆层。

在一实施方式中，上述保护膜的厚度为30μm以下。

在一实施方式中，上述保护膜包含紫外线吸收剂。

在一实施方式中，上述保护膜的紫外线吸收能力为10％以下。

在一实施方式中，包括：使上述涂覆层形成用组合物的一部分渗透至上述保护膜内而形成渗透层。

在一实施方式中，上述涂覆层由固化性树脂构成。

在一实施方式中，上述固化性树脂为光固化性。

在一实施方式中，上述固化性树脂为热固化性。

发明效果

根据本发明，通过将起偏器与保护膜进行层叠而形成偏振片后形成涂覆层，能够制造防止耐候性的降低、涂覆层与保护膜的密合性优异的带涂覆层的偏振片。

附图说明

图1是通过基于本发明的一实施方式的本发明的制造方法所制造的带涂覆层的偏振片的概略截面图。

具体实施方式

以下，对本发明的优选的实施方式进行说明，但本发明并不限定于这些实施方式。

A.带涂覆层的偏振片的制造方法的概要

图1是通过基于本发明的一实施方式的本发明的制造方法所制造的带涂覆层的偏振片的概略截面图。根据本发明的制造方法，获得具备偏振片10和配置在偏振片10的至少一侧的涂覆层20的带涂覆层的偏振片100。偏振片10具备起偏器11和配置在起偏器11的至少一个面上的保护膜12。涂覆层20形成于至少1片保护膜12的与起偏器11相反一侧的面上。在带涂覆层的偏振片100中，在保护膜12上直接(即，不介由其他层)设置涂覆层20。

本发明的带涂覆层的偏振片的制造方法包括在偏振片10上形成涂覆层20。将起偏器11与保护膜12进行层叠而形成偏振片10后，形成涂覆层20。在一实施方式中，涂覆层20通过在保护膜12上涂装涂覆层形成用组合物而形成。

根据本发明，形成偏振片后，通过在该偏振片的保护膜上形成涂覆层，能够防止在带涂覆层的偏振片的制造过程中涂覆层与保护膜的密合性降低。例如即便在保护膜包含紫外线吸收剂等添加剂的情况下，也可防止因该添加剂向涂覆层转移而导致偏振片制造工艺中的负荷显现从而产生的涂覆层的密合性降低。其结果是，可获得耐候性优异的带涂覆层的偏振片。

B.偏振片

偏振片如上所述具有起偏器和配置在起偏器的至少一个面上的保护膜。起偏器代表性地为吸收型起偏器。在一实施方式中，偏振片可通过将起偏器与保护膜介由任意适宜的粘接剂而贴合后进行加热(例如65℃～85℃)来制造。

上述起偏器的波长为589nm的透射率(也称为单体透射率)优选为41％以上，更优选为42％以上。需要说明的是，单体透射率的理论上限为50％。另外，偏振度优选为99.5％～100％，更优选为99.9％～100％。

上述起偏器的厚度例如为0.5μm～80μm。在一实施方式中，上述起偏器的厚度优选为8μm以下，更优选为7μm以下，进一步优选为6μm以下。

优选上述起偏器为碘系起偏器。更详细而言，上述起偏器可由含碘的聚乙烯醇系树脂(以下称为“PVA系树脂”)膜构成。

作为上述形成PVA系树脂膜的PVA系树脂，可采用任意适宜的树脂。例如可列举出聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物。聚乙烯醇通过将聚乙酸乙烯酯进行皂化而获得。乙烯-乙烯醇共聚物通过将乙烯-乙酸乙烯酯共聚物进行皂化而获得。PVA系树脂的皂化度通常为85摩尔％～100摩尔％，优选为95.0摩尔％～99.95摩尔％，进一步优选为99.0摩尔％～99.93摩尔％。皂化度可依据JIS K 6726-1994而求出。通过使用这样的皂化度的PVA系树脂，可获得耐久性优异的起偏器。在皂化度过高的情况下有可能凝胶化。

PVA系树脂的平均聚合度可根据目的而适当选择。平均聚合度通常为1000～10000，优选为1200～5000，进一步优选为1500～4500。需要说明的是，平均聚合度可依据JIS K 6726-1994而求出。

作为上述起偏器的制造方法，例如可列举出将PVA系树脂膜单体进行拉伸、染色的方法(I)；将具有树脂基材和聚乙烯醇系树脂层的层叠体(i)进行拉伸、染色的方法(II)等。方法(I)为业界周知惯用的方法，因此省略详细说明。上述制造方法(II)优选包括如下工序：将具有树脂基材和形成于该树脂基材的单侧的聚乙烯醇系树脂层的层叠体(i)进行拉伸、染色，在该树脂基材上制作偏光膜。层叠体(i)可通过在树脂基材上涂布包含聚乙烯醇系树脂的涂布液后进行干燥而形成。另外，层叠体(i)也可通过在树脂基材上转印聚乙烯醇系树脂膜而形成。上述制造方法(II)的详细内容例如记载于日本特开2012-73580号公报中，该公报作为参考援引于本说明书中。

上述保护膜由任意适宜的材料形成。作为形成保护膜的材料，例如可列举出三乙酰纤维素(TAC)等纤维素系树脂、或(甲基)丙烯酸系、聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚酰胺系、聚酰亚胺系、聚醚砜系、聚砜系、聚苯乙烯系、聚降冰片烯系、聚烯烃系、乙酸酯系等透明树脂等。另外，还可列举出丙烯酸系、氨基甲酸酯系、丙烯酸氨基甲酸酯系、环氧系、有机硅系等热固化型树脂或紫外线固化型树脂等。此外，也可列举出例如硅氧烷系聚合物等玻璃质系聚合物。另外，也可使用日本特开2001-343529号公报(WO01/37007)中记载的聚合物膜。作为该膜的材料，例如可使用含有在侧链具有取代或未取代的酰亚胺基的热塑性树脂和在侧链具有取代或未取代的苯基及腈基的热塑性树脂的树脂组合物，例如可列举出具有由异丁烯与N-甲基马来酰亚胺形成的交替共聚物和丙烯腈-苯乙烯共聚物的树脂组合物。上述聚合物膜可为例如上述树脂组合物的挤出成型物。

在一实施方式中，使用聚碳酸酯系膜作为保护膜。若使用聚碳酸酯系膜，则可良好地形成渗透层(下述)。例如若使用丙烯酸系树脂作为形成硬涂层的树脂，并使用聚碳酸酯系膜作为保护膜，则可获得形成有厚度适宜的渗透层而保护膜与涂覆层的密合性特别优异的带涂覆层的偏振片。

在一实施方式中，上述保护膜包含紫外线吸收剂。作为紫外线吸收剂，例如可列举出苯并三唑系、二苯甲酮系、水杨酸苯酯系、三嗪系的紫外线吸收剂。作为苯并三唑系紫外线吸收剂，例如可列举出2-(5-甲基-2-羟基苯基)苯并三唑、2-(2H-苯并三唑-2-基)对甲酚、2-(2H-苯并三唑-2-基)-4,6-二叔戊基苯酚、2-(2'-羟基-5'-甲基丙烯酰氧基乙基苯基)-2H-苯并三唑等。作为二苯甲酮系紫外线吸收剂，例如可列举出2-羟基-4-辛氧基二苯甲酮、2,4-二羟基二苯甲酮、2-羟基-4-甲氧基-4'-氯二苯甲酮、2,2-二羟基-4-甲氧基二苯甲酮、2,2-二羟基-4,4'-二甲氧基二苯甲酮等。作为水杨酸苯酯系紫外线吸收剂，例如可列举出水杨酸对叔丁基苯酯等。作为三嗪系紫外线吸收剂，例如可列举出2,4-二苯基-6-(2-羟基-4-甲氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-二苯基-6-(2-羟基-4-乙氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-二苯基-(2-羟基-4-丙氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-二苯基-(2-羟基-4-丁氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-二苯基-6-(2-羟基-4-丁氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-二苯基-6-(2-羟基-4-己氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-二苯基-6-(2-羟基-4-辛氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-二苯基-6-(2-羟基-4-十二烷氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-二苯基-6-(2-羟基-4-苄氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-二苯基-6-(2-羟基-4-丁氧基乙氧基苯基)-1,3,5-三嗪等。

上述保护膜的紫外线吸收能力优选为10％以下，更优选为6％以下。本说明书中，所谓紫外线吸收能力是指波长为380nm的光的透射率。根据本发明，即便使用紫外线吸收剂的含量多、紫外线吸收能力高(即，波长为380nm的光的透射率的透射率较低)的保护膜，也能够防止在制造过程中涂覆层与保护膜的密合性降低。

上述保护膜的厚度优选为30μm以下，更优选为5μm～30μm。在一实施方式中，使用厚度为30μm以下的较薄且包含紫外线吸收剂的保护膜。在对厚度较薄的保护膜赋予紫外线吸收能力、使其功能得到有效地发挥的情况下，需要增多紫外线吸收剂的含量，根据本发明，即便在这样的情况下，也能够防止在制造过程中涂覆层与保护膜的密合性降低。

在一实施方式中，上述保护膜也可作为相位差膜发挥功能。

上述起偏器与保护膜可使用任意适宜的粘接剂进行贴合。作为粘接剂，可为水系粘接剂，也可为溶剂系粘接剂，还可为活性能量射线固化型粘接剂。

作为上述活性能量射线固化型粘接剂，只要是可通过活性能量射线的照射而固化的粘接剂，则可使用任意适宜的粘接剂。作为活性能量射线固化型粘接剂，例如可列举出紫外线固化型粘接剂、电子射线固化型粘接剂等。作为活性能量射线固化型粘接剂的固化型的具体例子，可列举出自由基固化型、阳离子固化型、阴离子固化型、它们的组合(例如自由基固化型与阳离子固化型的混合型)。

作为上述活性能量射线固化型粘接剂，例如可列举出含有具有(甲基)丙烯酸酯基或(甲基)丙烯酰胺基等自由基聚合性基团的化合物(例如单体和/或低聚物)作为固化成分的粘接剂。

上述活性能量射线固化型粘接剂及其固化方法的具体例子例如在日本特开2012-144690号公报中有记载。该记载作为参考援引于本说明书中。

作为上述水系粘接剂，可采用任意适宜的水系粘接剂。优选使用包含PVA系树脂的水系粘接剂。水系粘接剂所含的PVA系树脂的平均聚合度从粘接性的方面出发，优选为100～5500左右，进一步优选为1000～4500。平均皂化度从粘接性的方面出发，优选为85摩尔％～100摩尔％左右，进一步优选为90摩尔％～100摩尔％。

上述水系粘接剂所含的PVA系树脂优选含有乙酰乙酰基。由此能够使PVA系树脂层与保护膜的密合性优异、耐久性优异。含乙酰乙酰基的PVA系树脂例如可通过利用任意方法使PVA系树脂与双烯酮反应而获得。含乙酰乙酰基的PVA系树脂的乙酰乙酰基改性度代表性而言为0.1摩尔％以上，优选为0.1摩尔％～40摩尔％左右，进一步优选为1摩尔％～20摩尔％，更优选为1摩尔％～7摩尔％。需要说明的是，乙酰乙酰基改性度是通过NMR(Nuclearmagnetic Resonance，核磁共振)所测定的值。

上述水系粘接剂的树脂浓度优选为0.1重量％～15重量％，进一步优选为0.5重量％～10重量％。

上述粘接剂的涂布时的厚度可设定为任意适宜的值。例如以固化后或加热(干燥)后获得具有所期望的厚度的粘接剂层的方式设定。粘接剂层的厚度优选为0.01μm～7μm，更优选为0.01μm～5μm，进一步优选为0.01μm～2μm，最优选为0.01μm～1μm。

C.涂覆层的形成

如上所述，将起偏器与保护膜进行层叠而形成偏振片后，在保护膜上形成涂覆层。在一实施方式中，通过在保护膜上涂装涂覆层形成用组合物而形成涂覆层。该涂覆层形成工序代表性而言包括涂覆层形成用组合物的涂布、涂布层的加热等。在一实施方式中，涂覆层由固化性树脂构成。该情况下，可在涂覆层形成工序中进一步进行涂布层的固化处理(例如紫外线照射或加热)。本发明的制造方法对于需要进行固化处理的涂覆层的形成特别有用。以往，由固化处理引起的固化性树脂的固化收缩大于通过干燥形成涂覆层时的收缩，成为阻碍涂覆层与保护膜的密合性的重要原因，根据本发明，即便在固化性树脂产生固化收缩的情况下，也可防止涂覆层与保护膜的密合性降低而获得带涂覆层的膜。作为固化性树脂，可使用光固化性树脂(例如紫外线固化性树脂)或热固化性树脂。其中，优选为光固化性树脂。由于使光固化性树脂固化时的固化收缩较大，因此本申请发明作为形成由光固化性树脂构成的涂覆层的方法是特别有用的。另外，形成涂覆层后，也可对该涂覆层实施电晕处理、等离子体处理等表面处理。

作为上述涂覆层的具体例子，可列举出硬涂层、防眩层、抗粘连层、抗反射层、导电层等。其中，本申请发明的制造方法在形成硬涂层或防眩层的情况下是特别有用的。

涂覆层形成用组合物包含树脂材料(单体、低聚物、预聚物和/或聚合物)。在一实施方式中，涂覆层形成用组合物包含热固化型或光固化型的固化性化合物作为树脂材料。若使用包含固化性化合物的涂覆层形成用组合物，则可形成硬涂层或防眩层。固化性化合物可为单体、低聚物及预聚物中的任一者。作为固化性化合物，可使用多官能单体或低聚物，例如可列举出具有2个以上的(甲基)丙烯酰基的单体或低聚物、(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯或(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯的低聚物、环氧系单体或低聚物、有机硅系单体或低聚物等。

涂覆层形成用组合物可进一步包含任意适宜的添加剂。作为添加剂，例如可列举出聚合引发剂、流平剂、抗粘连剂、分散稳定剂、触变剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、消泡剂、增稠剂、分散剂、表面活性剂、催化剂、填料、润滑剂、抗静电剂等。所含有的添加剂的种类、组合、含量等可根据目的或所期望的特性而适当设定。

在一实施方式中，涂覆层形成用组合物包含微粒作为添加剂。若使用包含微粒的涂覆层形成用组合物，则可形成防眩层。微粒可为无机微粒，也可为有机微粒。作为无机微粒，例如可列举出氧化硅微粒、氧化钛微粒、氧化铝微粒、氧化锌微粒、氧化锡微粒、碳酸钙微粒、硫酸钡微粒、滑石微粒、高岭土微粒、硫酸钙微粒等。作为有机微粒，例如可列举出聚甲基丙烯酸甲酯树脂粉末(PMMA微粒)、有机硅树脂粉末、聚苯乙烯树脂粉末、聚碳酸酯树脂粉末、丙烯酸苯乙烯树脂粉末、苯并胍胺树脂粉末、三聚氰胺树脂粉末、聚烯烃树脂粉末、聚酯树脂粉末、聚酰胺树脂粉末、聚酰亚胺树脂粉末、聚氟乙烯树脂粉末等。这些微粒可单独使用，也可将多种组合使用。

上述涂覆层形成用组合物可包含也可不含溶剂。作为溶剂，例如可列举出二丁醚、二甲氧基甲烷、二甲氧基乙烷、二乙氧基乙烷、环氧丙烷、1,4-二噁烷、1,3-二氧杂环戊烷、1,3,5-三噁烷、四氢呋喃、丙酮、甲基乙基酮(MEK)、二乙基酮、二丙基酮、二异丁基酮、环戊酮(CPN)、环己酮、甲基环己酮、甲酸乙酯、甲酸丙酯、甲酸正戊酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯、乙酸正戊酯、乙酰丙酮、二丙酮醇、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇、2-丁醇、1-戊醇2-甲基-2-丁醇、环己醇、异丙醇(IPA)、乙酸异丁酯、甲基异丁基酮(MIBK)、2-辛酮、2-戊酮、2-己酮、2-庚酮、3-庚酮、乙二醇单乙醚乙酸酯、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、乙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单甲醚等。它们可单独使用，也可将多种组合使用。

作为涂覆层形成用组合物的涂布方法，可采用任意适宜的方法。例如可列举出棒涂法、凹版辊涂布法、模涂法、杆式涂布法、槽孔涂布法、帘式涂布法、喷注式涂布法、刮刀式涂布法。

涂覆层形成用组合物的涂布层的加热温度可根据涂覆层形成用组合物的组成而设定为适宜温度，优选设定为上述膜所含的树脂的玻璃化转变温度以下。若在上述膜所含的树脂的玻璃化转变温度以下的温度下进行加热，则可获得因加热而引起的变形得到抑制的带涂覆层的膜。加热温度例如为60℃～140℃，优选为60℃～100℃。通过在这样的范围内进行加热，可形成与膜的密合性优异的涂覆层。

作为上述固化处理，可采用任意适宜的固化处理。代表性而言，固化处理通过紫外线照射而进行。紫外线照射的累计光量优选为200mJ～400mJ。

上述涂覆层的厚度优选为10μm以下，更优选为2μm～6μm。若为这样的范围，则可获得能够充分发挥作为涂覆层的功能、且外观优异的带涂覆层的膜。

在一实施方式中，上述涂覆层的铅笔硬度优选为H以上，更优选为3H以上。若为这样的范围，则涂覆层能够有效地发挥作为硬涂层的功能。铅笔硬度可依据JIS K 5400的铅笔硬度试验而测定。

(渗透层的形成)

在一实施方式中，本发明的带涂覆层的偏振片的制造方法包括：在保护膜上涂装上述涂覆层形成用组合物，使该涂覆层形成用组合物的一部分渗透至保护膜内而形成渗透层。所谓渗透层是保护膜中存在涂覆层成分的部分，是包含保护膜成分和涂覆层成分这两者的层。

上述渗透层例如可通过提高构成保护膜的树脂与涂覆层形成用组合物所含的树脂材料的亲和性而形成。例如，通过在作为保护膜的聚碳酸酯系膜上涂装包含丙烯酸系单体或低聚物的涂覆层形成用组合物而形成。作为形成渗透层的方法的其它例子，可列举出在作为保护膜的(甲基)丙烯酸系膜上涂装包含丙烯酸系单体或低聚物(例如具有2个以上的(甲基)丙烯酰基的单体或低聚物、(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯或(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯的低聚物)的涂覆层形成用组合物。另外，渗透层的厚度可通过调整涂覆层形成用组合物中的单体或低聚物的分子量、或者调整涂覆层形成时的加热温度等而控制。

渗透层的厚度优选为0.1μm～5μm，更优选为0.5μm～2μm。

本发明中，通过如上所述那样形成渗透层，可获得涂覆层与保护膜的密合性优异的带涂覆层的偏振片。以往，在形成渗透层的情况下存在如下情况：保护膜中的添加剂大量向涂覆层转移，其结果是，在制造过程中，涂覆层与保护膜的密合性降低，而无法获得形成渗透层的效果。另一方面，根据本发明，能够形成渗透层且无制造过程中的不良情况地制造带涂覆层的偏振片，所获得的带涂覆层的偏振片由于形成有渗透层，因此涂覆层与保护膜的密合性优异。

实施例

以下，通过实施例对本发明进行具体说明，但本发明并不限定于这些实施例。实施例中的评价方法如下所述。另外，在实施例中，只要无特别记载，则“份”及“％”为重量基准。

(1)密合性衰退试验

密合性衰退试验是评价紫外线照射下的密合耐久性(耐候性)的试验。

本说明书中，向紫外线Long Life Fade Meter(Suga Test Instruments公司制造，型号：U48HB)中投入实施例或比较例所获得的带涂覆层(硬涂层)的偏振片，对该带涂覆层的偏振片照射规定时间的紫外线。将刚照射紫外线后、及自开始照射紫外线起经过48小时后、96小时后、144小时后、192小时后及240小时后的带涂覆层的偏振片供于下述棋盘格剥离试验，评价涂覆层相对于偏振片的密合性。

(棋盘格试验)

使用切割刀，在带涂覆层的偏振片的涂覆层表面以棋盘格状形成100个(10×10)1mm见方的栅格。接着，在涂覆层表面贴附粘接胶带(积水化学工业公司制造，商品名“Sellotape(注册商标)No.252”)，其后剥离。将该操作重复2次，计数所剥离的栅格的个数。将剥离的栅格的个数为0的情况设定为合格。

(2)紫外线吸收能力

对于偏振片所具备的保护膜，使用日立制作所公司制造的U-4100测定波长为380nm的光的透射率，将该透射率作为保护膜的紫外线吸收能力。

(3)渗透层厚度的测定

在涂覆层的表面介由厚度为20μm的丙烯酸系粘合剂而贴附黑色亚克力板(Mitsubishi Rayon公司制造，厚度为2mm)。接着，使用Intensified multichannelPhotodetector(大塚电子公司制造，商品名：MCPD3700)，在下述条件下测定涂覆层的反射光谱，在形成有渗透层的情况下，由于在涂覆层与渗透层的界面处、渗透层与保护膜的界面处分别获得FFT光谱的峰，因此，将FFT光谱的峰位置之间的厚度作为渗透层的厚度来进行评价。

·反射光谱测定条件

参考：反射镜

算法：FFT(Fast Fourier Transform，快速傅立叶变换)法

计算波长：450nm～850nm

·检测条件

曝光时间：20ms

灯增效(lamp gain)：常规

累计次数：10次

·FFT法

膜厚值的范围：2～15μm

膜厚分辨率：24nm

＜制造例1＞硬涂层形成用组合物的制备

将丙烯酸氨基甲酸酯树脂(DIC公司制造，制品名“UNIDIC 17-806”)100份、流平剂(DIC公司制造，制品名“GRANDIC PC4100”)1份、及光聚合引发剂(Ciba Japan公司制造，商品名：Irgacure 907)3份进行混合，以固体成分浓度成为40％的方式利用环戊酮进行稀释，制备硬涂层形成用组合物。

＜制造例2＞起偏器的制作

将平均聚合度2400、皂化度99.9摩尔％的厚度为75μm的聚乙烯醇膜在30℃的温水中浸渍60秒钟使其溶胀。接着，将膜浸渍在碘/碘化钾(重量比＝0.5/8)的浓度0.3％的水溶液中，一边拉伸至3.5倍一边进行染色。其后，在65℃的硼酸酯水溶液中，以总拉伸倍率成为6倍的方式进行拉伸。拉伸后，在40℃的烘箱内进行3分钟干燥，获得起偏器。所获得的起偏器的厚度为23μm。所获得的起偏器的光学特性如下：透射率为42.8％、偏振度为99.99％。

＜实施例1＞

(偏振片的制作)

在制造例2中制作的起偏器的一个面贴合作为保护膜的聚碳酸酯系膜(厚度：20μm)，在另一个面贴合作为保护膜的三乙酰纤维素膜，其后，在70℃下加热，制作偏振片。作为聚碳酸酯系膜，使用包含紫外线吸收剂且紫外线吸收能力为6％的膜。另外，在保护膜与起偏器的贴合中使用了聚乙烯醇系粘接剂。

在聚碳酸酯膜(厚度：20μm)的与起偏器相反一侧的面涂布制造例1所制备的硬涂层形成用组合物，在75℃下加热。利用高压汞灯对加热后的涂布层照射累计光量300mJ/cm²的紫外线使涂布层固化，形成硬涂层(厚度：2μm)。

如此获得带硬涂层的偏振片。将所获得的带硬涂层的偏振片供于上述评价(1)。将结果示于表1中。需要说明的是，通过上述(3)的方法对所获得的带硬涂层的偏振片的截面进行评价，结果形成有1.0μm的渗透层。

＜实施例2＞

使用聚碳酸酯系膜(厚度：25μm，紫外线吸收能力：5％)来代替作为保护膜的聚碳酸酯系膜(厚度：20μm，紫外线吸收能力：6％)，并将硬涂层的厚度设定为5μm，除此以外，与实施例1同样地操作而获得带硬涂层的偏振片。

将所获得的带硬涂层的偏振片供于上述评价(1)。将结果示于表1中。需要说明的是，通过上述(3)的方法对所获得的带硬涂层的偏振片的截面进行评价，结果形成有2.0μm的渗透层。

＜实施例3＞

在起偏器与保护膜的贴合中使用了紫外线固化型粘接剂，除此以外，与实施例2同样地操作而获得带硬涂层的偏振片。

＜比较例1＞

在实施例1所使用的聚碳酸酯系膜的一个面涂布制造例1所制备的硬涂层形成用组合物，在75℃下加热。利用高压汞灯对加热后的涂布层照射累计光量300mJ/cm²的紫外线使涂布层固化，形成硬涂层(厚度：2μm)，获得带硬涂层的保护膜。

在实施例1所使用的起偏器的一个面介由聚乙烯醇系粘接剂而贴合上述带硬涂层的保护膜，在该起偏器的另一个面贴合三乙酰纤维素膜，其后，在70℃下加热，制作带硬涂层的偏振片。

将所获得的带硬涂层的偏振片供于上述评价(1)。将结果示于表1中。需要说明的是，通过上述(3)的方法对所获得的带硬涂层的偏振片的截面进行评价，结果形成有1.0μm的渗透层。

＜比较例2＞

使用实施例2所使用的聚碳酸酯系膜来代替实施例1所使用的聚碳酸酯系膜，并将硬涂层的厚度设定为5μm，除此以外，与比较例1同样地操作而获得带硬涂层的偏振片。

将所获得的带硬涂层的偏振片供于上述评价(1)。将结果示于表1中。需要说明的是，通过上述(3)的方法对所获得的带硬涂层的偏振片的截面进行评价，结果形成有2.0μm的渗透层。

＜比较例3＞

在起偏器与保护膜的贴合中使用了紫外线固化型粘接剂，除此以外，与比较例2同样地操作而获得带硬涂层的偏振片。

[表1]

如由比较例1～3表明的那样，通过直接涂装硬涂层形成用组合物而在包含紫外线吸收剂且紫外线吸收能力高的保护膜上设置硬涂层，其后，将带硬涂层的保护膜与起偏器进行贴合而形成偏振片的情况下，所获得的带硬涂层的偏振片的耐候性显著低。认为这是由于：紫外线吸收剂从保护膜向硬涂层转移，在密合性衰退试验中所受到的损伤加重，因此在偏振片制作时对带硬涂层的保护膜施加的应力的影响显现，表现为硬涂层与保护膜的密合性降低。

另一方面，如由实施例1～3表明的那样，根据本申请发明，通过将保护膜与起偏器进行贴合而形成偏振片后设置硬涂层，能够减轻偏振片制造工艺中对密合性产生的影响，即便使用紫外线吸收能力较高的薄型保护膜，也能够获得耐候性优异的带硬涂层的偏振片。

产业上的可利用性

通过本发明的制造方法所获得的带涂覆层的膜可适宜地用于图像显示装置。

符号说明

10 偏振片

20 涂覆层

100 带涂覆层的偏振片

Claims (9)

1.一种带涂覆层的偏振片的制造方法，该带涂覆层的偏振片包含：

偏振片，该偏振片具备起偏器和配置在该起偏器的至少一个面上的保护膜；及

涂覆层，该涂覆层形成于至少1片该保护膜的与该起偏器相反一侧的面上；

该带涂覆层的偏振片的制造方法包括：

将该起偏器与该保护膜进行层叠而形成偏振片后，形成该涂覆层。

2.根据权利要求1所述的带涂覆层的偏振片的制造方法，其包括：

通过在所述保护膜上将涂覆层形成用组合物进行涂装而形成所述涂覆层。

3.根据权利要求1或2所述的带涂覆层的偏振片的制造方法，其中，所述保护膜的厚度为30μm以下。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的带涂覆层的偏振片的制造方法，其中，所述保护膜包含紫外线吸收剂。

5.根据权利要求4所述的带涂覆层的偏振片的制造方法，其中，所述保护膜的紫外线吸收能力为10％以下。

6.根据权利要求2至5中任一项所述的带涂覆层的偏振片的制造方法，其包括：使所述涂覆层形成用组合物的一部分渗透至所述保护膜内而形成渗透层。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的带涂覆层的膜的制造方法，其中，所述涂覆层由固化性树脂构成。

8.根据权利要求7所述的带涂覆层的膜的制造方法，其中，所述固化性树脂为光固化性。

9.根据权利要求7所述的带涂覆层的膜的制造方法，其中，所述固化性树脂为热固化性。