CN109976099A - 一种测量点的配置选择方法及装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提出一种测量点的配置选择方法及装置，所述方法包括以下步骤：确定多个曝光单元中测量点的数量和分布位置；根据所述测量点的分布位置将所述测量点划分为多种测量点群组；以及为所述曝光单元分配一种测量点群组，并根据所述测量点群组为每个曝光单元设置对应的测量点，其中，相邻位置的两个所述曝光单元的测量点位置不相邻。通过群组划分的方式，对曝光单元分配不同的测量点群组，相邻两个曝光单元中间不存在紧挨的测量点，从而实现整个晶圆上的测量点分布更加均匀。

Description

一种测量点的配置选择方法及装置
技术领域
本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种测量点的配置选择方法及装置。
背景技术
光刻工艺应用于半导体制造过程中，光刻过程是将掩膜(Mask)上的图形形式的电路结构通过对准、曝光、显影等步骤转印到涂有光刻胶的晶圆表面，从而在晶圆表面形成一层光刻胶掩蔽图形。
半导体器件由很多层电路重叠而成，因此需要数十次的光刻步骤，必须保证每一层与前层以及后层相对准，即叠对(Overlay)，叠对误差大将直接影响半导体器件的性能，甚至导致短路而使器件失效。
因此需要针对晶圆上的多层电路进行叠对测量，并需要确定测量点的数量及其位置分布。如图1所示，其为现有的曝光单元的测量点的数量和位置的示意图。在每个曝光单元110上分别设置固定数量和位置的测量点111。目前在对准测量点的数量和位置的配置采用统一点数和位置的方式，也即是对晶圆上的所有曝光单元全部采用相同的测量点分布方式。如图2所示，其为现有的晶圆的测量点的分布示意图。当对每个曝光单元都采用相同固定的测量点数量和位置分布方式，则会导致最终的晶圆100上的测量点111的分布过于密集且缺乏特定用途的测量点分布。
以上的说明仅仅是为了帮助本领域技术人员理解本发明的背景，不代表以上内容为本领域技术人员所公知或知悉。
发明内容
本发明实施例提供一种测量点的配置选择方法及装置，以至少解决现有技术中的以上技术问题。
第一方面，本发明实施例提供了一种测量点的配置选择方法，包括以下步骤：
确定多个曝光单元中测量点的数量和分布位置；
根据所述测量点的分布位置将所述测量点划分为多种测量点群组；以及
为每一所述曝光单元分配多种测量点群组的其中一种，并根据所述测量点群组为每个曝光单元设置对应的测量点，其中，相邻位置的两个所述曝光单元的最接近测量点位置不相邻靠。
结合第一方面，本发明实施例在第一方面的第一种实现方式中，每种所述测量点群组包括至少三个测量点，并且同一测量点群组内的三个所述测量点不在同一直线。
结合第一方面，本发明实施例在第一方面的第二种实现方式中，每个所述测量点群组内的测量点数量相同但测量点的分布位置不相同。
结合第一方面，本发明实施例在第一方面的第三种实现方式中，所述测量点群组的划分步骤包括：
将所述测量点的总值平均分配至所述测量点群组；以及
当所述测量点的总值不能平均分配于所述测量点群组时，将多余测量点分散地添加至部份的所述测量点群组中，其中所述多余测量点包括不位于对应曝光单元边缘位置的测量点。
结合第一方面上述的任意一种实现方式，本发明实施例在第一方面的第四种实现方式中，所述划分多个测量点群组的划分步骤中，每一种所述测量点群组内的所述测量点包含位于所述曝光单元边角的边角点、位于所述曝光单元侧边的侧边点及有间隔远离所述曝光单元侧边的非侧边点，每一种所述测量点群组内的所述测量点的围绕面积区涵盖所述曝光单元的中心点。
第二方面，本发明实施例还提供一种测量点的配置装置，包括：
设置单元，用于多个确定曝光单元中测量点的数量和分布位置；
划分单元，用于根据所述测量点的分布位置将所述测量点划分为多种测量点群组；以及，
分配单元，用于为每一所述曝光单元分配多种测量点群组的其中一种，并根据所述测量点群组为每个曝光单元设置对应的测量点，其中，相邻位置的两个所述曝光单元的最接近测量点位置不相邻靠。
结合第二方面，本发明实施例在第二方面的第一种实现方式中，每种所述测量点群组包括至少三个测量点，并且同一测量点群组内的三个所述测量点不在同一直线。
结合第二方面，本发明实施例在第二方面的第二种实现方式中，每种所述测量点群组内的测量点数量相同但测量点的分布位置不相同。
结合第二方面，本发明实施例在第二方面的第三种实现方式中，所述划分单元用于将所述测量点的总值平均分配至所述测量点群组，以及
所述划分单元用于当所述所有测量点的总值不能平均分配于一晶圆中的所述曝光单元内的测量点群组时，将多余的测量点分散地添加至部分的所述测量点群组中，其中所述多余测量点包括不位于对应曝光单元的边缘位置的测量点。
结合第二方面的上述的任意一种实现方式，本发明实施例在第二方面的第四种实现方式中，每一种所述测量点群组内的所述测量点包含位于所述曝光单元边角的边角点、位于所述曝光单元侧边的侧边点及有间隔远离所述曝光单元侧边的非侧边点，每一种所述测量点群组内的所述测量点的围绕面积区涵盖所述曝光单元的中心点。
本发明实施例采用上述技术方案，具备如下有益效果：通过群组划分的方式，对曝光单元分配不同的测量点群组，相邻两个曝光单元中间不存在紧挨的测量点，从而实现整个晶圆上的测量点分布更加均匀。
上述概述仅仅是为了说明书的目的，并不意图以任何方式进行限制。除上述描述的示意性的方面、实施方式和特征之外，通过参考附图和以下的详细描述，本发明进一步的方面、实施方式和特征将会是容易明白的。
附图说明
在附图中，除非另外规定，否则贯穿多个附图相同的附图标记表示相同或相似的部件或元素。这些附图不一定是按照比例绘制的。应该理解，这些附图仅描绘了根据本发明公开的一些实施方式，而不应将其视为是对本发明范围的限制。
图1为现有的曝光单元的测量点的数量和位置的示意图。
图2为现有的晶圆的测量点的分布示意图。
图3为实施例一的测量点的配置选择方法的步骤流程图。
图4为实施例一的测量点的分布示意图。
图5为实施例一的曝光单元的区域划分的示意图。
图6为实施例一的测量点群组A划分示意图。
图7为实施例一的测量点群组B划分示意图。
图8为实施例一的测量点群组C划分示意图。
图9为实施例一的测量点群组D划分示意图。
图10为实施例一的剩余点E的示意图。
图11为实施例一的晶圆上的曝光单元的测量点群组的分布图。
图12为实施例一的晶圆上测量点的分布示意图。
图13为实施例二的测量点配置的装置示意图。
附图标记说明：
现有技术：
100：晶圆、 110：曝光单元、 111：测量点
本发明：
200：晶圆、 210：曝光单元、 211：测量点、
220：区域、
A：群组A、 A1～A3：群组A的测量点、
B：群组B、 B1～B3：群组B的测量点、
C：群组C、 C1～C3：群组C的测量点、
D：群组D、 D1～D3：群组D的测量点、
E：多余测量点；
310：设置单元、 320：划分单元、 330：分配单元
具体实施方式
在下文中，仅简单地描述了某些示例性实施例。正如本领域技术人员可认识到的那样，在不脱离本发明的精神或范围的情况下，可通过各种不同方式修改所描述的实施例。因此，附图和描述被认为本质上是示例性的而非限制性的。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接，还可以是通信；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
在本发明中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本发明的不同结构。为了简化本发明的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本发明。此外，本发明可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设置之间的关系。此外，本发明提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
本发明实施例为了解决现有技术中晶圆上测量点的配置方式单一，而导致测量点的分布过于密集的缺陷，提供了一种测量点的配置选择方法，通过群组划分的方式，对曝光单元分配不同的测量点群组，相邻两个曝光单元中间不存在紧挨的测量点，从而实现整个晶圆上的测量点分布更加均匀。具体通过以下的实施例对本发明实施例的技术方案进行介绍。
实施例一
请参阅图3，其为本发明实施例一的测量点的配置选择方法的步骤流程图。本实施例一提供了一种测量点的配置选择方法，包括以下步骤：
S110：确定多个曝光单元中测量点的数量和分布位置。
在本步骤S110中，先对测量点的数量和分布位置进行设置。例如，将测量点的数量设置为13个，分布位置如图4所示，在矩形的外边缘设置8个测量点，在矩形内部设置5个测量点。需要说明的是，在本步骤S110中，可以对测量点的数量和分布位置进行调整。
S120：根据所述测量点的分布位置将所述测量点划分为多种测量点群组。
在本步骤S120中，需要对测量点进行分组。而为了保证对准的准确性，因此每个所述测量点群组包括至少三个测量点，三个所述测量点不在同一直线。
为了使每个群组的测量点数尽量平均，因此每个所述测量点群组的测量点数量相同，但测量点的分布不相同。
若当前的测量点的数量为13个，每个群组3个。如图5所示，曝光单元210可以划分出多个可辨识区域220，每个可辨识区域220内包含三个测试点211。为了使每一群组的测量点距离之间不至于过度狭小，每个区域220内的三个测试点211分别属于不同测量点群组。如图6-图10所示，其分别为群组A、B、C、D和多余测量点E的示意图。当曝光单元210内的测量点211的总值不能平均分配于所述测量点群组A、侧脸点群组B、侧脸点群组C和侧脸点群组D时，将多余的测量点分散地添加至部分所述测量点群组中，所述多余测量点E包括不位于对应曝光单元210边缘位置的测量点211。其中，所述群组A包括测量点A1、A2和A3。所述群组B包括测量点B1、B2和B3。所述群组C包括测量点C1、C2和C3。所述群组D包括测量点D1、D2和D3。所述多余测量点E可以任意添加至上述的群组的其中一个或多个之中。
结合图11，其为本实施例的晶圆上的曝光单元的测量点群组的分布图。
S130：为每一所述曝光单元210分配多种测量点群组的其中一种，并根据所述测量点群组为每个曝光单元210设置对应的测量点211，相邻位置的两个所述曝光单元210的测量点211位置不相邻靠。
当完成测量点群组的分组后，对每个曝光单元分配一个测量点群组。其中因为在晶圆上面的曝光单元都是整齐排列的，为了防止测量点分布不均匀的情况，相邻两个曝光单元的测量点不能紧挨的情况。本实施例中所述不相邻包括：在相邻边角及相邻侧边的测量点不正向对准相邻，具体来说测量点群组A具有左下角测量点和右侧中间测量点，测量点群组C具有右上角测量点和左侧中间测量点，在测量点群组A左下角和右侧就不能分配测量点群组C。例如，群组A和群组B可以左右排列，比如AB或BA进行排列，因为两种排列方式都不会产生紧挨的点。但是，当群组A和群组B上下排列，且A在B上面时，此时群组A的测量点A3与群组B的测量点B3会形成紧挨的现象，因此群组A不能设置在群组B的上方。同理，当群组D与群组A的以“DA”方式排列时，所述群组D中的测量点D3与群组A中的测量点A3也会形成紧挨的现象。结合图12，其为晶圆200上测量点的分布示意图。在本实施例中，在对每个曝光单元210分配群组时，需要按照上述方式进行，以实现测量点211的均匀分布。
实施例二
在本实施例二提供了一种用于实现上述实施例一的测量点配置方法的装置。请结合图13，其为实施例二的测量点配置的装置示意图。本发明实施例还提供一种测量点的配置装置，包括：
设置单元310，用于确定曝光单元210中测量点的数量和分布位置。
划分单元320，用于根据所述测量点的分布位置将所述测量点划分为多种测量点群组。
具体的，每种所述测量点群组包括至少三个测量点，并且同一测量点群组内的三个所述测量点不在同一直线。
其中，每种所述测量点群组内的测量点数量相同但测量点的分布位置不相同。当所述测量点的总值不能平均分配于一晶圆中的所述曝光单元内的所述测量点群组时，将多余测量点分散地添加至部份的所述测量点群组中，其中所述多余测量点包括不位于对应曝光单元边缘位置的测量点。
进一步，每一种所述测量点群组内的所述测量点包含位于所述曝光单元边角的边角点、位于所述曝光单元侧边的侧边点及有间隔远离所述曝光单元侧边的非侧边点，每一种所述测量点群组内的所述测量点的围绕面积区涵盖所述曝光单元的中心点。
分配单元330，用于为每一所述曝光单元210分配一种测量点群组，并根据所述测量点群组为每个曝光单元设置对应的测量点，相邻位置的两个所述曝光单元的测量点位置不相邻。
本实施例二与实施例一的工作过程和原理相同，故不再赘述。
本发明实施例通过群组划分的方式，对曝光单元分配不同的测量点群组，相邻两个曝光单元中间不存在紧挨的测量点，从而实现整个晶圆上的测量点分布更加均匀。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到其各种变化或替换，这些都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种测量点的配置选择方法，其特征在于，包括以下步骤：
确定多个曝光单元中测量点的数量和分布位置；
根据所述测量点的分布位置将所述测量点划分为多种测量点群组；以及
为每一所述曝光单元分配多种测量点群组的其中一种，并根据所述测量点群组为每个曝光单元设置对应的测量点，其中，相邻位置的两个所述曝光单元的最接近测量点位置不相邻靠。
2.根据权利要求1所述测量点的配置选择方法，其特征在于，每种所述测量点群组包括至少三个测量点，并且同一测量点群组内的三个所述测量点不在同一直线。
3.根据权利要求1所述测量点的配置选择方法，其特征在于，每个所述测量点群组内的测量点数量相同但测量点的分布位置不相同。
4.根据权利要求1所述测量点的配置选择方法，其特征在于，所述测量点群组的划分步骤包括：
将所述测量点的总值平均分配至所述测量点群组；以及
当所述测量点的总值不能平均分配于所述测量点群组时，将多余测量点分散地添加至部份的所述测量点群组中，其中所述多余测量点包括不位于对应曝光单元边缘位置的测量点。
5.根据权利要求1至4中任一项所述测量点的配置选择方法，其特征在于，所述测量点群组的划分步骤中，每一种所述测量点群组内的所述测量点包含位于所述曝光单元边角的边角点、位于所述曝光单元侧边的侧边点及有间隔远离所述曝光单元侧边的非侧边点，每一种所述测量点群组内的所述测量点的围绕面积区涵盖所述曝光单元的中心点。
6.一种测量点的配置装置，其特征在于，包括：
设置单元，用于确定多个曝光单元中测量点的数量和分布位置；
划分单元，用于根据所述测量点的分布位置将所述测量点划分为多种测量点群组；以及，
分配单元，用于为每一所述曝光单元分配多种测量点群组的其中一种，并根据所述测量点群组为每个曝光单元设置对应的测量点，其中，相邻位置的两个所述曝光单元的最接近测量点位置不相邻靠。
7.根据权利要求6所述测量点的配置装置，其特征在于，每种所述测量点群组包括至少三个测量点，并且同一测量点群组内的三个所述测量点不在同一直线。
8.根据权利要求6所述测量点的配置装置，其特征在于，每种所述测量点群组内的测量点数量相同但测量点的分布位置不相同。
9.根据权利要求6所述测量点的配置装置，其特征在于，所述划分单元用于将所述测量点的总值平均分配至所述测量点群组，以及
所述划分单元用于当所述测量点的总值不能平均分配于一晶圆中的所述曝光单元内的所述测量点群组时，将多余测量点分散地添加至部份的所述测量点群组中，其中所述多余测量点包括不位于对应曝光单元边缘位置的测量点。
10.根据权利要求6至9中任一项所述测量点的配置装置，其特征在于，每一种所述测量点群组内的所述测量点包含位于所述曝光单元边角的边角点、位于所述曝光单元侧边的侧边点及有间隔远离所述曝光单元侧边的非侧边点，每一种所述测量点群组内的所述测量点的围绕面积区涵盖所述曝光单元的中心点。
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