CN107748479A - 一种判断挡板走位精度的掩膜版及其方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种判断挡板走位精度的掩膜版,包括主曝光区、设置于主曝光区相对的两侧的第一曝光区、第二曝光区、第一曝光区包括第一标尺,第一标尺包括第一尺身、第一分界线、第一刻度,分布在第一分界线两侧的第一刻度分别设置于第一尺身的两侧,第二曝光区包括第二标尺,第二标尺包括第二尺身、第二分界线、第二刻度,分布在第二分界线两侧的第二刻度分别设置于第二尺身的两侧,第一分界线与第二分界线与主曝光区相对的两个边缘重合,第一尺身和第二尺身共线,位于主曝光区的第一刻度与第二刻度位于第一尺身和第二尺身所在直线的同侧。利用本发明提供的掩膜版,通过反映曝光在基板上的图案来判断挡板走位是否正常,以便于及时调整挡板的位置。
Description
技术领域
本发明属于平板显示制造领域,具体涉及一种判断挡板走位精度的掩膜版及其方法。
背景技术
在LTPS/OLED制造业中,Array工艺是重要的工艺步骤之一,包括沉积、清洗、PR涂附、曝光、显影、刻蚀、PR剥离、检查。而曝光工艺是利用曝光机对涂好光刻胶的玻璃基板进行曝光,利用光刻胶的光敏性将掩膜版的图像投影到玻璃基板上。曝光工艺在整个Array工艺中占据着重要的作用。挡板是曝光机中一个重要的组件,其作用是遮挡掩膜版上不需要的区域,防止基板上的图案过大或过小。但遮光挡板是通过机械驱动的,其驱动位置受机械因素影响,在生产中可能会出现偏差。当挡板走位出现偏差时,会导致基板上的图案受到影响,使最终的产品质量下降。
发明内容
鉴于此,本发明提供了一种判断挡板走位精度的掩膜版,包括了具有第一标尺的的第一曝光区和第二标尺的第二曝光区。在实际曝光工艺中,可以通过通过曝光到基板上的图案来判断第一挡板和第二挡板的走位情况。
具体地,本发明第一方面提供了一种判断挡板走位精度的掩膜版,包括主曝光区、设置于所述主曝光区相对的两侧的第一曝光区、第二曝光区、所述第一曝光区包括第一标尺,所述第一标尺包括第一尺身、第一分界线、第一刻度,分布在所述第一分界线两侧的所述第一刻度分别设置于所述第一尺身的两侧,所述第二曝光区包括第二标尺,所述第二标尺包括第二尺身、第二分界线、第二刻度,分布在所述第二分界线两侧的所述第二刻度分别设置于所述第二尺身的两侧,所述第一分界线与所述第二分界线与所述主曝光区相对的两个边缘重合,所述第一尺身和所述第二尺身共线,位于所述主曝光区的所述第一刻度与所述第二刻度位于所述第一尺身和所述第二尺身所在直线的同侧。
其中,所述第一标尺还包括第一刻度数字,所述第一刻度数字设置于所述第一刻度处,所述第一刻度数字从所述第一尺身的一侧开始依次呈等差数列递增或递减,所述第二标尺还包括第二刻度数字,所述第二刻度数字设置于所述第二刻度处,所述第二刻度数字从所述第二尺身的一侧开始依次呈等差数列递减或递增。
其中,所述第一刻度数字还可以从所述第一分界线处的刻度数字开始依次向第一分界线两侧呈等差数列递增或递减,所述第二刻度数字还可以从所述第二分界线处的刻度数字开始依次向第二分界线两侧呈等差数列递增或递减。
其中,所述第一标尺还包括一对字母标注,所述一对字母标注设置于所述尺身的相对的两端。
其中,所述第一标尺和所述第二标尺的数量均为至少两个,所述至少两个第一标尺彼此间隔分布在所述主曝光共的一侧,所述至少两个第二标尺与分别与所述至少两个第一标尺一一对应设置在所述主曝光区的另一侧。
本发明第二方面提供了一种判断挡板走位精度的方法,包括以下步骤:
提供一掩膜版,第一挡板、第二挡板和基板,相对设置在所述掩膜版相对的两侧的所述第一挡板和所述第二挡板设置于所述掩膜版和所述基板之间;
所述掩膜版包括主曝光区、设置于所述主曝光区相对的两侧的第一曝光区、第二曝光区、所述第一曝光区包括第一标尺,所述第一标尺包括第一尺身、第一分界线、第一刻度,分布在所述第一分界线两侧的所述第一刻度分别设置于所述第一尺身的两侧,所述第二曝光区包括第二标尺,所述第二标尺包括第二尺身、第二分界线、第二刻度,分布在所述第二分界线两侧的所述第二刻度分别设置于所述第二尺身的两侧,所述第一分界线与所述第二分界线与所述主曝光区相对的两个边缘重合,所述第一尺身和所述第二尺身共线,位于所述主曝光区的所述第一刻度与所述第二刻度位于所述第一尺身和所述第二尺身所在直线的同侧。当扫描曝光时,通过曝光到基板上的图案来判断第一挡板和第二挡板的走位情况。
其中,走位正常时所述第一挡板和所述第二挡板分别位于所述第一分界线与所述第二分界线处,若所述基板上图案中的主曝光区内的所述第一标尺和/或所述第二标尺出现缺失,则所述第一挡板和/或所述第二挡板走位溢出。
其中,走位正常时所述第一挡板和所述第二挡板分别位于所述第一分界线与所述第二分界线处,若所述基板上图案中出现主曝光区之外的所述第一标尺和/或所述第二标尺,则所述第一挡板和/或所述第二挡板走位不足。
其中,所述扫描曝光包括4扫描曝光或6扫描曝光。
本发明第三方面提供了一种曝光机,包括本发明第一方面所提供的掩膜版。
本发明提供的判断挡板走位精度的掩膜版,第一标尺和第二标尺的第一分界线与第二分界线与所述主曝光区相对的两个边缘重合,并且第一刻度与第二刻度是分开设置的。因此,当第一挡板和第二挡板走位异常时,曝光到基板中第一标尺和第二标尺的图案也会发生异常。而且,当扫描曝光为4扫描曝光或6扫描曝光时,可以在相邻两个图案重合的区域上使第一标尺和第二标尺配合使用来判断第一挡板和第二挡板的走位情况。
在实际曝光工艺中,掩膜版中没有被第一挡板和第二挡板遮住的第一标尺和第二标尺会被曝光到基板上的图案中。在基板上形成与掩膜版上相同的图案。当掩膜版中主曝光区内的第一标尺和第二标尺完整地被曝光到图案中,则说明第一挡板和第二挡板走位正常;当掩膜版中主曝光区内的第一标尺和第二标尺过多或过少地被曝光到图案中,则说明第一挡板和第二挡板走位异常。并且可以根据第一刻度和第二刻度来判断第一挡板和第二挡板走位异常的数值。所以可以通过曝光到基板上第一标尺和第二标尺的图案来判断第一挡板和第二挡板的走位情况。进而来及时地调整挡板的位置,使最终的产品质量达标,大大地减少了生产的成本。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对本发明实施例中所需要使用的附图进行说明。
图1为本发明一实施例中掩膜版的结构示意图;
图2为本发明一实施例中曝光机的结构示意图;
图3为本发明一实施例中挡板走位正常时基板上的图案示意图;
图4为本发明一实施例中挡板走位异常时基板上的图案示意图。
具体实施方式
以下所述是本发明的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也视为本发明的保护范围。
在LTPS/OLED制造业中,Array工艺是重要的工艺步骤之一,包括沉积、清洗、PR涂附、曝光、显影、刻蚀、PR剥离、检查。而曝光工艺是利用曝光机对涂好光刻胶的玻璃基板进行曝光,利用光刻胶的光敏性将掩膜版的图像投影到玻璃基板上。曝光工艺在整个Array工艺中占据着重要的作用。挡板是曝光机中一个重要的组件,其作用是遮挡掩膜版上不需要的区域,防止基板上的图案过大或过小。但遮光挡板是通过机械驱动的,其驱动位置受机械因素影响,在生产中可能会出现偏差。当挡板走位出现偏差时,会导致基板上的图案受到影响,使最终的产品质量下降。对于上述问题,本发明提供了一种判断挡板走位精度的掩膜版。
具体地,请一并参阅图1-图4,本发明第一方面提供了一种判断挡板走位精度的掩膜版,包括主曝光区1、所述主曝光区1内设置着需要曝光的图案。设置于所述主曝光区1相对的两侧的第一曝光区2、第二曝光区3、主曝光区之外的所述第一曝光区2和所述第二曝光区3为挡板挡住的不需要曝光的区域。所述第一曝光区2包括第一标尺21,所述第一标尺21包括第一尺身211、第一分界线212、第一刻度213,所述第一分界线212把所述第一尺身211分成了两部分。分布在所述第一分界线212两侧的所述第一刻度213分别设置于所述第一尺身211的两侧,所述第二曝光区3包括第二标尺31,所述第二标尺31包括第二尺身311、第二分界线312、第二刻度313,所述第二分界线312把所述第二尺身311分成了两部分。分布在所述第二分界线312两侧的所述第二刻度313分别设置于所述第二尺身311的两侧,所述第一分界线212与所述第二分界线312与主曝光区1相对的两个边缘重合,因此会有部分第一标尺21和第二标尺31位于主曝光区1中,而另一部分的第一标尺21和第二标尺31位于主曝光区1之外。所述第一尺身211和所述第二尺身311共线,位于所述主曝光1区的所述第一刻度213与所述第二刻度313位于所述第一尺身211和所述第二尺身311所在直线的同侧。
利用上述带有第一标尺21和第二标尺31结构的掩膜板,规定第一挡板和第二挡板在正常走位时位于第一分界线212和第二分界线312处,而曝光到基板上时只会把主曝光区内的第一标尺21和第二标尺31完整地地曝光出来,如果主曝光区1内的部分第一标尺21和第二标尺31过多或过少,就可以知道第一挡板和第二挡板的走位发生了异常。如果主曝光区1内的部分第一标尺21和第二标尺31过多,就可以知道挡板走位不足;如果主曝光区1内的部分第一标尺21和第二标尺31过少,就可以知道挡板走位溢出。而挡板走位溢出或走位不足的量可以通过多出的刻度或不足的刻度来进行计算。这样就可以在发现曝光工艺在基板上形成异常图案时,哪一个挡板走位出现了异常,并且可以及时、便捷、准确地发现并调整挡板的位置。
所述第一标尺21和所述第二标尺31的数量均为至少两个,所述至少两个第一标尺21彼此间隔分布在所述主曝光区1的一侧,所述至少两个第二标尺31与分别与所述至少两个第一标尺21一一对应设置在所述主曝光区1的另一侧。当挡板发生部分走位异常时,如所述第一挡板200和/或所述第二挡板300在第一对的所述第一标尺21和所述第二标尺31处走位正常,而在第二对的所述第一标尺21和所述第二标尺31处走位出现了异常。这样两对以上的所述第一标尺21和所述第二标尺31的设计可以使判断挡板走位情况更加精准,使误差尽可能地减小。
所述第一标尺21还包括第一刻度数字214,所述第一刻度数字214设置于所述第一刻度213处,所述第一刻度数字214从第一个刻度数字开始依次呈等差数列递增或递减,所述第二标尺31还包括第二刻度数字314,所述第二刻度数314字设置于所述第二刻度处313,所述第二刻度数字314从第一个刻度数字开始依次呈等差数列递减或递增。
所述第一刻度数字214还可以从所述第一分界线212处的刻度数字开始依次向第一分界线212两侧呈等差数列递增或递减,所述第二刻度数字314还可以从所述第二分界线312处的刻度数字开始依次向第二分界线312两侧呈等差数列递增或递减。
不管是从第一标尺21和第二标尺31的一侧到另一侧设置等差数列的第一刻度数字214,还是从第一标尺21和第二标尺31的第一分界线212和第二分界线312开始向两侧设置等差数列的第二刻度数字314。这样都可以使第一刻度213和第二刻度313的每个刻度赋予了长度。因此可以根据曝光在基板上的图案中第一刻度213和/或第二刻度313多出或缺少的量,从而计算出第一挡板200和/或第二挡板300走位溢出或不足的量。
所述等差数列包括公差,所述公差为-1mm-1mm。
优选地,所述公差为0.1mm、0.2mm、0.3mm、-0.1mm、-0.2mm、-0.3mm等等。具体地,本申请中,第一标尺21和第二标尺31的第一刻度213和第二刻度313为-0.5-+0.5mm,其中公差为0.1mm。
所述第一刻度213和所述第二刻度313的形状为三角形、四边形或圆形。优选地,所述第一刻度213和所述第二刻度313的形状为矩形。
其中,所述掩膜版的厚度为5-20mm。
其中,所述第一标尺21还包括一对第一字母标注215,所述一对第一字母标注215设置于所述第一尺身211的相对的两端。所述第二标尺31还包括一对第二字母标注315,所述一对第二字母标注315设置于所述第一尺身211的相对的两端。所述第一字母标注214和所述第二字母标注315用于区分所述第一标尺21和所述第二标尺31,如用字母L和R来标注第一标尺21和第二标尺31。
本发明第一方面提供的一种判断挡板走位精度的掩膜版,通过第一标尺21和第二标尺31的曝光到基板上的图案,来判断挡板的走位情况。进而来及时地调整挡板的位置,使最终的产品质量达标,大大地减少了生产的成本。
本发明第二方面提供了一种判断挡板走位精度的方法,包括以下步骤:
提供掩膜版100,第一挡板200、第二挡板300和基板400,相对设置在所述掩膜版100相对的两侧的所述第一挡板200和所述第二挡板300设置于所述掩膜版100和所述基板400之间;
所述掩膜版100包括主曝光区1、设置于所述主曝光区1相对的两侧的第一曝光区2、第二曝光区3。所述第一曝光区2包括第一标尺21,所述第一标尺21包括第一尺身211、第一分界线212、第一刻度213。分布在所述第一分界线212两侧的所述第一刻度213分别设置于所述第一尺身211的两侧,所述第二曝光区3包括第二标尺31,所述第二标尺31包括第二尺身311、第二分界线312、第二刻度313。分布在所述第二分界线312两侧的所述第二刻度313分别设置于所述第二尺身311的两侧,所述第一分界线212与所述第二分界线312与主曝光区1相对的两个边缘重合。所述第一尺身211和所述第二尺身311共线,位于所述主曝光1区的所述第一刻度213与所述第二刻度313位于所述第一尺身211和所述第二尺身311所在直线的同侧。
当扫描曝光时,通过曝光到基板400上的图案来判断第一挡板200和第二挡板300的走位情况。
其中,走位正常时所述第一挡板200和所述第二挡板300分别位于所述第一分界线212与所述第二分界线312处,若图案上的主曝光区1中的所述第一标尺21和/或所述第二标尺31缺失,则所述第一挡板200和/或所述第二挡板300走位溢出。若图案中出现主曝光区1之外的所述第一标尺21和/或所述第二标尺31,则所述第一挡板200和/或所述第二挡板300走位不足。
举例说明,若图案上的主曝光区1中的所述第一标尺21和/或所述第二标尺31缺失,则说明原本在曝光工艺时应处于第一分界线212与所述第二分界线312处的所述第一挡板200和/或所述第二挡板300向主曝光区1的方向额外前进了一部分,因此造成了图案上的主曝光区1中的所述第一标尺21和/或所述第二标尺31缺失。所以可以得出所述第一挡板200和/或所述第二挡板300走位溢出。而具体溢出的量可以根据第一标尺21和/或所述第二标尺31缺失的量来判断。通过这种方法可以快速、准确地得出第一挡板200和/或所述第二挡板300走位异常的量,以便于用户及时调整挡板的位置。
其中,所述扫描曝光包括4扫描曝光或6扫描曝光,扫描曝光时每两次扫描曝光为一组,每组中的两个扫描曝光相邻连接。因此,在同一张基板上可以形成数量更多的图案,大大节省了成本,并且节约了时间。
本发明第二方面提供的判断挡板走位精度的方法,可以有效地判断挡板的走位是否溢出或不足,以及走位溢出或不足的量,使用户及时调整挡板的位置。
本发明第三方面提供了一种曝光机,包括本发明第一方面所提供的掩膜版100。利用本发明所提供的带有第一标尺21和第二标尺31结构的掩膜板100曝光到基板400上的图案来确定第一挡板200和第二挡板300的走位情况,进而来及时地调整第一挡板200和/或所述第二挡板300的位置,使最终的产品质量达标,大大地减少了生产的成本,提高了生产的效率。
请参阅图1可知,本发明一实施方式中,一种判断挡板走位精度的掩膜版,包括主曝光区1、所述主曝光区1内设置着需要曝光的图案。设置于所述主曝光区1相对的两侧的第一曝光区2、第二曝光区3。所述第一曝光区2包括第一标尺21,所述第一标尺21包括第一尺身211、第一分界线212、第一刻度213。分布在所述第一分界线212两侧的所述第一刻度213分别设置于所述第一尺身211的两侧,所述第二曝光区3包括第二标尺31,所述第二标尺31包括第二尺身311、第二分界线312、第二刻度313。分布在所述第二分界线312两侧的所述第二刻度313分别设置于所述第二尺身311的两侧,所述第一分界线212与所述第二分界线312与主曝光区1相对的两个边缘重合。所述第一尺身211和所述第二尺身311共线,位于所述主曝光1区的所述第一刻度213与所述第二刻度313位于所述第一尺身211和所述第二尺身311所在直线的同侧。
所述第一标尺21的第一刻214度为-0.5,-0.4,-0.3,-0.2,-0.1,0,+0.1,+0.2,+0.3,+0.4,+0.5,单位为毫米。位于第一分界线212一侧的第一刻度包括-0.5,-0.4,-0.3,-0.2,-0,位于主曝光区1内的第一刻度214包括0,+0.1,+0.2,+0.3,+0.4,+0.5。所述第二标尺31的第二刻度314为+0.5,+0.4,+0.3,+0.2,+0.1,0,-0.1,-0.2,-0.3,-0.4,-0.5,单位为毫米。位于主曝光区1内的第二刻度314为+0.5,+0.4,+0.3,+0.2,+0.1,0。并且所述第一刻度213和所述第二刻度313的形状为长方形,所述第一标尺21还包括一对第一字母标注215“L”,所述一对第一字母标注215“L”设置于所述第一尺身211的相对的两端。所述第二标尺31还包括一对第二字母标注315“R”,所述一对第二字母标注315“R”设置于所述第一尺身211的相对的两端。
请参阅图2可知,一种判断挡板走位精度的方法,包括以下步骤:提供一上述的掩膜版100,第一挡板200、第二挡板300和基板400,相对设置在所述掩膜版100相对的两侧的所述第一挡板200和所述第二挡板300设置于所述掩膜版100和所述基板400之间。采用4扫描曝光,当扫描曝光时,通过曝光到基板400上的图案来判断第一挡板200和第二挡板300的走位情况。
当第一挡板200和第二挡板300走位正常时,所述第一挡板200和所述第二挡板300分别位于所述第一分界线212与所述第二分界线312处,曝光到基板上的图案如图3所示。从标尺的局部放大图中(如图3中的(a),(b),(c))可以看到,在第一扫描图案和第二扫描团中,掩膜版100中的主曝光区1内的第一标尺21全部曝光到基板上,且刻度为0-+0.5,掩膜版100中的主曝光区1内的第二标尺31全部曝光到基板400上,且刻度为0-+0.5。
当第一挡板200走位不足0.1mm,而第二挡板300走位正常时,曝光到基板上的图案如图4所示。从标尺的局部放大图中(如图4中的(a),(b),(c))可以看到,在第一扫描的图案中第一标尺21的第一刻度214为-0.1-+0.5。不仅主曝光区1中的第一标尺21被曝光到基板400上,而且还多出了-0.1mm刻度。这是因为第一挡板200原来应在第一分界线212处,但是由于机械驱动的影响,第一挡板200走位不足,且不足0.1mm。而第二扫描的图案中第二标尺31的第二刻度314为0-+0.5。因此可以判断出第二挡板的走位正常。而第一扫描和第二扫描结合的图案中可以看到第一扫描的图案中的第二标尺31缺少了+0.1mm刻度。这也是由于第一挡板200走位不足,且走位不足0.1mm造成的。
以上对本发明实施例所提供的判断挡板走位精度的掩膜版及其方法进行了详细介绍,本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想;同时,对于本领域的一般技术人员,依据本发明的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,综上所述,本说明书内容不应理解为对本发明的限制。
Claims (10)
1.一种判断挡板走位精度的掩膜版,其特征在于,包括主曝光区、设置于所述主曝光区相对的两侧的第一曝光区、第二曝光区、所述第一曝光区包括第一标尺,所述第一标尺包括第一尺身、第一分界线、第一刻度,分布在所述第一分界线两侧的所述第一刻度分别设置于所述第一尺身的两侧,所述第二曝光区包括第二标尺,所述第二标尺包括第二尺身、第二分界线、第二刻度,分布在所述第二分界线两侧的所述第二刻度分别设置于所述第二尺身的两侧,所述第一分界线与所述第二分界线与所述主曝光区相对的两个边缘重合,所述第一尺身和所述第二尺身共线,位于所述主曝光区的所述第一刻度与所述第二刻度位于所述第一尺身和所述第二尺身所在直线的同侧。
2.如权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述第一标尺还包括第一刻度数字,所述第一刻度数字设置于所述第一刻度处,所述第一刻度数字从所述第一尺身的一侧开始依次呈等差数列递增或递减,所述第二标尺还包括第二刻度数字,所述第二刻度数字设置于所述第二刻度处,所述第二刻度数字从所述第二尺身的一侧开始依次呈等差数列递减或递增。
3.如权利要求2所述的掩膜版,其特征在于,所述第一刻度数字还可以从所述第一分界线处的刻度数字开始依次向第一分界线两侧呈等差数列递增或递减,所述第二刻度数字还可以从所述第二分界线处的刻度数字开始依次向第二分界线两侧呈等差数列递增或递减。
4.如权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述第一标尺还包括一对字母标注,所述一对字母标注设置于所述尺身的相对的两端。
5.如权利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述第一标尺和所述第二标尺的数量均为至少两个,所述至少两个第一标尺彼此间隔分布在所述主曝光区的一侧,所述至少两个第二标尺与分别与所述至少两个第一标尺一一对应设置在所述主曝光区的另一侧。
6.一种判断挡板走位精度的方法,其特征在于,包括以下步骤:
提供一掩膜版,第一挡板、第二挡板和基板,相对设置在所述掩膜版相对的两侧的所述第一挡板和所述第二挡板设置于所述掩膜版和所述基板之间;
所述掩膜版包括主曝光区、设置于所述主曝光区相对的两侧的第一曝光区、第二曝光区、所述第一曝光区包括第一标尺,所述第一标尺包括第一尺身、第一分界线、第一刻度,分布在所述第一分界线两侧的所述第一刻度分别设置于所述第一尺身的两侧,所述第二曝光区包括第二标尺,所述第二标尺包括第二尺身、第二分界线、第二刻度,分布在所述第二分界线两侧的所述第二刻度分别设置于所述第二尺身的两侧,所述第一分界线与所述第二分界线与所述主曝光区相对的两个边缘重合,所述第一尺身和所述第二尺身共线,位于所述主曝光区的所述第一刻度与所述第二刻度位于所述第一尺身和所述第二尺身所在直线的同侧;
当扫描曝光时,通过曝光到基板上的图案来判断第一挡板和第二挡板的走位情况。
7.如权利要求6所述的方法,其特征在于,走位正常时所述第一挡板和所述第二挡板分别位于所述第一分界线与所述第二分界线处,若所述基板上图案中的主曝光区内的所述第一标尺和/或所述第二标尺出现缺失,则所述第一挡板和/或所述第二挡板走位溢出。
8.如权利要求6所述的方法,其特征在于,走位正常时所述第一挡板和所述第二挡板分别位于所述第一分界线与所述第二分界线处,若所述基板上图案中出现主曝光区之外的所述第一标尺和/或所述第二标尺,则所述第一挡板和/或所述第二挡板走位不足。
9.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述扫描曝光包括4扫描曝光或6扫描曝光。
10.一种曝光机,其特征在于,包括如权利要求1-5任一项所述的掩膜版。
Priority Applications (1)
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Cited By (2)
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CN111983889A (zh) * | 2020-08-12 | 2020-11-24 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 掩膜板装置、显示器、曝光机 |
CN113900351A (zh) * | 2021-10-25 | 2022-01-07 | 无锡职业技术学院 | 光刻机挡板精度的检测方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102866599A (zh) * | 2012-10-12 | 2013-01-09 | 上海华力微电子有限公司 | 检测光刻机对图形模糊成像控制能力的方法 |
CN102902167A (zh) * | 2012-11-12 | 2013-01-30 | 上海华力微电子有限公司 | 一种检测光刻机的掩模板遮光板精度的方法 |
CN103345117A (zh) * | 2013-06-24 | 2013-10-09 | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 | 一种掩膜版及液晶显示器制造方法 |
-
2017
- 2017-11-03 CN CN201711081070.4A patent/CN107748479A/zh not_active Withdrawn
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102866599A (zh) * | 2012-10-12 | 2013-01-09 | 上海华力微电子有限公司 | 检测光刻机对图形模糊成像控制能力的方法 |
CN102902167A (zh) * | 2012-11-12 | 2013-01-30 | 上海华力微电子有限公司 | 一种检测光刻机的掩模板遮光板精度的方法 |
CN103345117A (zh) * | 2013-06-24 | 2013-10-09 | 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 | 一种掩膜版及液晶显示器制造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111983889A (zh) * | 2020-08-12 | 2020-11-24 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 掩膜板装置、显示器、曝光机 |
CN111983889B (zh) * | 2020-08-12 | 2023-02-03 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 掩膜板装置、显示器、曝光机 |
CN113900351A (zh) * | 2021-10-25 | 2022-01-07 | 无锡职业技术学院 | 光刻机挡板精度的检测方法 |
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