CN109942205B - 一种玻璃表面减反射自清洁涂层的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明属于光伏玻璃领域,具体涉及一种玻璃表面减反射自清洁涂层的制备方法,用于提高玻璃的减反射性能,该方法首先对玻璃基片进行氧等离子体处理,使其表面带有负电荷;接着将玻璃基片浸入含有表面活性剂的溶液中进行溶剂热反应,使涂层薄膜前驱体生长到玻璃表面;最后取出玻璃基片,进行烧结。该方法可在玻璃表面形成具有较低折射率和掺杂氧化钛的涂层,从而降低玻璃的反射率,并提高玻璃表面的亲水和自清洁性能。研究表明:本发明制备涂层玻璃的平均漫反射率下降,平均透过率提高。此外,该涂层还提高了玻璃表面的亲水性能,使其具备一定的自清洁功能。该方法对光伏玻璃产业具有重要的意义。
Description
技术领域
本发明属于光伏玻璃领域,具体涉及一种玻璃表面减反射自清洁涂层的制备方法。
背景技术
光伏系统的表面通常由玻璃覆盖,光伏玻璃是决定太阳能电池光电转换效率的重要因素之一。对于普通的玻璃,入射光会在玻璃/空气界面发生部分反射,而且随着使用时间的延长,其表面会被污染,进一步降低入射光的透过率。因此,降低玻璃表面的反射率,并使其具备自清洁功能对提高光伏系统的能量转换效率具有重要的意义。
在玻璃表面覆盖一层额外的涂层是降低其反射率的常见方法,例如溶胶-凝胶法。然而,该方法往往不能兼顾减反射和自清洁,或者由于空气中的灰尘、有机污染物等在表面吸附聚集,使许多疏水性表面的疏水性和自清洁性下降。
发明内容
本发明方法以降低玻璃的反射率并提高其亲水性能为目的,开发一种新型的钠钙玻璃表面减反射自清洁涂层的制备方法,提高其亲水性能。本发明利用溶胶-凝胶法制备氧化硅和氧化钛复合涂层:由煅烧后形成的多孔氧化硅和氧化钛构成的涂层,能够在降低玻璃反射率的同时赋予薄膜光催化和亲水性能,从而具备自清洁性。该薄膜的亲水和自清洁性能在户外使用过程中不明显降低。
本发明玻璃表面减反射自清洁涂层的制备方法包括:
1)玻璃基片的预处理:首先,在去离子水中超声处理玻璃基片至少15分钟,然后将其放入800mLmin-1的氧等离子表面处理仪(70w)中进行氧等离子处理,使其表面带有负电荷。
2)前驱体溶液的配制:将0.04-0.12g CTAB(十六烷基三甲基溴化铵,以下十六烷基三甲基溴化铵均简称为CTAB),钛酸四丁酯(0.1-0.2mL),正硅酸乙酯(TEOS)(0.01-0.07mL)溶解于乙醇(10-20mL)和水(30-40mL)的混合溶剂中后并在搅拌的条件下放置8h,使钛酸四丁酯,正硅酸乙酯和CTAB充分溶解。由于氨水的易挥发,所以最后再向其中添加2-8μL氢氧化铵(25wt%)。
3)薄膜的生长:将经过氧等离子处理的玻璃基片放进Teflon容器中,并向其中加入步骤2)配制的前驱体溶液,然后将装有前驱体溶液和玻璃基片的容器放入60℃烘箱中,在静止的条件下实现薄膜的生长。
4)薄膜的老化:将玻璃基片从Teflon容器中取出后,将其在100℃烘箱中干燥和老化12h,接着在550℃下去除表面活性剂模板3h,从而制得薄涂层玻璃基片。
作为优选,步骤1)中玻璃基片在氧等离子体中处理10分钟,使玻璃基片的表面充分带有负电荷。
作为优选,步骤2)中CTAB的加入量为0.06-0.10g,钛酸四丁酯的加入量为0.14-0.16mL。
作为优选,步骤3)玻璃基片在60℃烘箱的Teflon容器中放置24h,使薄膜拥有合适的厚度刚好将CTAB微粒包裹住。
作为优选,步骤4)将玻璃基板从反应釜中取出后,可采取旋涂机旋转干燥法或者自然干燥法处理玻璃基板。
表面活性剂阳离子首先被吸附在带负电荷的玻璃基片(氧等离子体处理) 上,并在基片上形成球形胶束基团。球形表面活性剂胶束铺设在玻璃基片上,可以降低基片的表面能,从而诱导纳米通道的粒子进入基片表面,另外当正硅酸乙酯(TEOS)分子进入时,在乙醇、水、酞酸酯和氢氧化铵的混合溶液中缓慢水解,通过静电作用在CTAB胶束表面形成带负电荷的硅酸盐类物质和钛酸盐类物质。在低氨浓度下,这些游离硅酸盐物质和钛酸盐类物质沉积在球形胶束和基质之间的结合处。随着生长时间的延长,新水解的硅酸盐被吸附并交联到带电荷的胶束基团上,从而增加了膜的厚度。另外,通过去除表面活性剂和将钛酸盐类物质转化为氧化钛(在550℃下煅烧3h)获得自组装和在溶液中生长的多孔氧化钛和二氧化硅薄膜。这些薄膜的折射率比玻璃基片低,因此当将其控制到适当厚度时,可以显著抑制光反射并增强光透射,并且氧化钛可以通过降低接触角进行表面自清洁。
本发明的技术效果:通过溶液热法使玻璃表面具有规则的纳米微米多层凹陷结构以及氧化钛微粒。该结构可使涂层形成折射率的渐变梯度,从而增强减反射性能。此外,该结构还增加了涂层的粗糙度,使玻璃的亲水性提高,并具有一定的自清洁功能。
附图说明
图1本发明制备玻璃表面减反射涂层的基本流程示意图。
图2对比实施例1制得的玻璃表面减反射涂层的形貌图。
图3为实施例1制得的玻璃表面减反射涂层的形貌图。
具体实施方式
本发明用下列实施例来进一步说明本发明的技术特征,但本发明的保护范围并非限于下列实施例。
对比实施例1
步骤1:将15mL乙醇(AR,市售)溶液、35mL水(去离子水)溶液混合,接着在搅拌下,加入0.08gCTAB(市售),在室温下搅拌8h。
步骤2:将5μL氢氧化铵(AR,市售)溶液(25wt%)和0.04mL TEOS(AR, 市售)溶液逐一加入步骤1溶液中,并搅拌15分钟后,在室温下静置5min。
步骤3:将经过处理后的玻璃基片放进Teflon容器中并向其中加入步骤2 所制备的溶液,将装有反应液和玻璃基片的容器放入60℃烘箱中,在静止条件下让薄膜开始生长。
步骤4:将玻璃基板从Teflon容器中取出后,将其在100℃烘箱中干燥和老化12h。
步骤5:对步骤4处理后的玻璃进行煅烧,煅烧温度为550℃,煅烧时间为 3h。
对比实施例1获得的玻璃表面涂层的形貌如图2所示。将对比实施例1中使用的清洁玻璃和步骤5中获得的玻璃进行反射率及透过率表征,其400-800 nm波长范围内的平均反射率分别为6.3%和3.1%,平均透过率分别为93.5%和 97.1%。对上述玻璃的水接触角进行表征,分别为10°和11°。
对比实施例2
步骤1:将15mL乙醇(AR,市售)溶液、35mL水(去离子水)溶液混合,接着在搅拌下,加入0.08gCTAB(市售),在室温下搅拌8h。
步骤2:将20μL氢氧化铵(AR,市售)溶液(25wt%)和0.04mL TEOS(AR, 市售)溶液逐一加入步骤1溶液中,并搅拌15分钟后,在室温下静置5min。
步骤3:将玻璃基底在去离子水中超声处理至少15分钟,然后将其放入 800mLmin-1的氧等离子处理仪(70w)中进行处理10min;
步骤4:将经氧等离子处理后的玻璃衬底放进Teflon容器中并向其中加入步骤2所制备的溶液,将装有反应液和玻璃衬底的容器放入60℃烘箱中,在静止条件下让薄膜生长24h。
步骤5:将玻璃基板从反应釜中取出后,可采取旋涂机旋转干燥法或者自然干燥法处理玻璃基板。
步骤6:将玻璃基板从反应釜中取出后,将其在100℃烘箱中干燥和老化12 h。
步骤7:对步骤6处理后的玻璃进行煅烧,煅烧温度为550℃,煅烧时间为 3h。
将对比实施例2获得的玻璃进行反射率及透过率表征,其400-800nm波长范围内的平均反射率和透过率为2.8%和98.0%。该玻璃的水接触角为8°。
对比实施例3
步骤1:将15mL乙醇(AR,市售)溶液、35mL水(去离子水)溶液混合,接着在搅拌下,逐一加入0.15mL钛酸四丁酯(AR,市售)溶液和0.04mL TEOS(AR, 市售),在室温下搅拌8h。
步骤2:将20μL氢氧化铵(AR,市售)溶液(25wt%)溶液加入步骤1溶液中,并搅拌15分钟后,在室温下静置5min。
步骤3:将玻璃基底在去离子水中超声处理至少15分钟,然后将其放入 800mLmin-1的氧等离子处理仪(70w)中进行处理10min;
步骤4:将经氧等离子处理后的玻璃衬底放进Teflon容器中并向其中加入步骤2所制备的溶液,将装有反应液和玻璃衬底的容器放入60℃烘箱中,在静止条件下让薄膜生长24h。
步骤5:将玻璃基板从反应釜中取出后,可采取旋涂机旋转干燥法或者自然干燥法处理玻璃基板。
步骤6:将玻璃基板从反应釜中取出后,将其在100℃烘箱中干燥和老化12 h。
步骤7:对步骤6处理后的玻璃进行煅烧,煅烧温度为550℃,煅烧时间为 3h。
将对比实施例3获得的玻璃进行反射率及透过率表征,其400-800nm波长范围内的平均反射率和透过率为3.0%和97.1%。该玻璃的水接触角为9°。
实施例1
步骤1:将15mL乙醇(AR,市售)溶液、35mL水(去离子水)溶液混合,接着在搅拌下,逐一加入0.08gCTAB(市售),0.15mL钛酸四丁酯(AR,市售) 溶液和0.04mL TEOS(AR,市售)溶液,在室温下搅拌8h。
步骤2:将20μL氢氧化铵(AR,市售)溶液(25wt%)加入步骤1溶液中,并搅拌15分钟后,在室温下静置5min。
步骤3:将玻璃基底在去离子水中超声处理至少15分钟,然后将其放入 800mLmin-1的氧等离子处理仪(70w)中进行处理10min;
步骤4:将经氧等离子处理后的玻璃衬底放进Teflon容器中并向其中加入步骤2所制备的溶液,将装有反应液和玻璃衬底的容器放入60℃烘箱中,在静止条件下让薄膜生长24h。
步骤5:将玻璃基板从反应釜中取出后,可采取旋涂机旋转干燥法或者自然干燥法处理玻璃基板。
步骤6:将玻璃基板从反应釜中取出后,将其在100℃烘箱中干燥和老化12 h。
步骤7:对步骤6处理后的玻璃进行煅烧,煅烧温度为550℃,煅烧时间为 3h。
实施例1获得的玻璃表面涂层的形貌如图3所示,涂层为具有规则孔状结构的涂层,和对比实施例1所得的涂层形貌相比,实施利1表面涂层看起来是凹凸状的且更加明显,并且大小几乎一致。
将实施例1获得的玻璃进行反射率及透过率表征,其400-800nm波长范围内的平均反射率和透过率为1.3%和98.5%。该玻璃的水接触角为5°。且将其放置于平均气温为25℃的室外30天后,水的接触角为6°。
实施例2
步骤1:将15mL乙醇(AR,市售)溶液、35mL水(去离子水)溶液混合,接着在搅拌下,逐一加入0.06gCTAB(市售),0.12mL钛酸四丁酯(AR,市售) 溶液和0.06mL TEOS(AR,市售)溶液,在室温下搅拌8h。
步骤2:将20μL氢氧化铵(AR,市售)溶液(25wt%)加入步骤1溶液中,并搅拌15分钟后,在室温下静置5min。
步骤3:将玻璃基底在去离子水中超声处理至少15分钟,然后将其放入 800mLmin-1的氧等离子处理仪(70w)中进行处理10min;
步骤4:将经氧等离子处理后的玻璃衬底放进Teflon容器中并向其中加入步骤2所制备的溶液,将装有反应液和玻璃衬底的容器放入60℃烘箱中,在静止条件下让薄膜生长24h。
步骤5:将玻璃基板从反应釜中取出后,可采取旋涂机旋转干燥法或者自然干燥法处理玻璃基板。
步骤6:将玻璃基板从反应釜中取出后,将其在100℃烘箱中干燥和老化12 h。
步骤7:对步骤6处理后的玻璃进行煅烧,煅烧温度为550℃,煅烧时间为 3h。
将实施例2获得的玻璃进行反射率及透过率表征,其400-800nm波长范围内的平均反射率和透过率为2.3%和97.4%。该玻璃的水接触角为7°。且将其放置于平均气温为25℃的室外30天后,水的接触角为8°。
实施例3
步骤1:将15mL乙醇(AR,市售)溶液、35mL水(去离子水)溶液混合,接着在搅拌下,逐一加入0.04gCTAB(市售),0.1钛酸四丁酯(AR,市售)溶液和0.01mL TEOS(AR,市售)溶液,在室温下搅拌8h。
步骤2:将20μL氢氧化铵(AR,市售)溶液(25wt%)加入步骤1溶液中,并搅拌15分钟后,在室温下静置5min。
步骤3:将玻璃基底在去离子水中超声处理至少15分钟,然后将其放入 800mLmin-1的氧等离子处理仪(70w)中处理进行处理10min;
步骤4:将经氧等离子处理后的玻璃衬底放进Teflon容器中并向其中加入步骤2所制备的溶液,将装有反应液和玻璃衬底的容器放入60℃烘箱中,在静止条件下让薄膜生长24h。
步骤5:将玻璃基板从反应釜中取出后,可采取旋涂机旋转干燥法或者自然干燥法处理玻璃基板。
步骤6:将玻璃基板从反应釜中取出后,将其在100℃烘箱中干燥和老化12 h。
步骤7:对步骤6处理后的玻璃进行煅烧,煅烧温度为550℃,煅烧时间为 3h。
将实施例3获得的玻璃进行反射率及透过率表征,其400-800nm波长范围内的平均反射率和透过率为3.1%和97.1%。该玻璃的水接触角为8°。且将其放置于平均气温为25℃的室外30天后,水的接触角为9°。
实施例4
步骤1:将12mL乙醇(AR,市售)溶液、38mL水(去离子水)溶液混合,接着在搅拌下,逐一加入0.12gCTAB(市售),0.2mL钛酸四丁酯(AR,市售) 溶液和0.07mL TEOS(AR,市售)溶液,在室温下搅拌8h。
步骤2:将20μL氢氧化铵(AR,市售)溶液(25wt%)加入步骤1溶液中,并搅拌15分钟后,在室温下静置5min。
步骤3:将玻璃基底在去离子水中超声处理至少15分钟,然后将其放入 800mLmin-1的氧等离子处理仪(70w)中进行处理10min;
步骤4:将经氧等离子处理后的玻璃衬底放进Teflon容器中并向其中加入步骤2所制备的溶液,将装有反应液和玻璃衬底的容器放入60℃烘箱中,在静止条件下让薄膜生长24h。
步骤5:将玻璃基板从反应釜中取出后,可采取旋涂机旋转干燥法或者自然干燥法处理玻璃基板。
步骤6:将玻璃基板从反应釜中取出后,将其在100℃烘箱中干燥和老化12 h。
步骤7:对步骤6处理后的玻璃进行煅烧,煅烧温度为550℃,煅烧时间为 3h。
将实施例3获得的玻璃进行反射率及透过率表征,其400-800nm波长范围内的平均反射率和透过率为3.5%和96.8%。该玻璃的水接触角为9°。且将其放置于平均气温为25℃的室外30天后,水的接触角为10°。
Claims (1)
1.一种玻璃表面减反射自清洁涂层,其特征在于,玻璃表面减反射自清洁涂层在400‒800 nm波长范围内的平均反射率和透过率为1.3%和98.5%,该玻璃的水接触角为5°,且将其放置于平均气温为25℃的室外30天后,水的接触角为6 °;
所述玻璃表面减反射自清洁涂层的制备方法为:
步骤1:将15 mL 乙醇 溶液、35mL 去离子水 溶液混合,接着在搅拌下,逐一加入0.08gCTAB ,0.15mL钛酸四丁酯 溶液和0.04mL TEOS 溶液,在室温下搅拌8 h;
步骤2:将20μL 25wt%氢氧化铵溶液加入步骤1溶液中,并搅拌15分钟后,在室温下静置5min;
步骤3:将玻璃基底在去离子水中超声处理至少15分钟,然后将其放入70w 800mLmin-1的氧等离子处理仪中进行处理10min;
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