CN109887861A - 一种匀流装置及其匀流实现方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种匀流装置，包括反应槽体，其特征在于，反应槽体下方设有副槽，副槽通过管道和泵浦与反应槽体的进液口连接，反应槽体的两侧分别设有溢流区，溢流区通过管道与副槽相通；反应槽体内的液体通过两侧的溢流区流入下方的副槽内，副槽内的液体通过泵浦将液体抽出并注入通过管道连接的反应槽体的进液口内，如此循环匀流槽内的液体。本发明通过将一个大型反应槽体分割成多个小型反应槽体的方式改善反应槽内药液的均匀性，并使反应物快速离开反应区，通过溢流区流入副槽内，副槽内的液体再通过泵浦和管路进入各个反应槽体,达到及时排走反应槽体中部的反应生成物并形成循环溢流的结构，解决了反应生成物堆积过久不能被及时排走的问题。
Description
技术领域
本发明涉及一种半导体及太阳能清洗设备和湿法处理设备,具体涉及一种链式清洗设备和湿法处理设备。
背景技术
在链式清洗行业,产品通过传输通道传送的不同的工艺槽进行对应的化学腐蚀和清洗处理.由于设备产能的要求,一些化学处理槽长度需要做很长如2-3米的长度.产品与化学药液发生化学反应,会生产新的物质.由于传统槽体过长,化学药液只在产品进入槽体的首尾两端进行溢流,槽体中部的反应生成物不能被及时排走,如果反应生成物在产品周围堆积过久,会改变化学药液的浓度,在工艺上造成化学腐蚀的量发生不稳定的变化。
发明内容
本发明的目的是提供一种能及时排走槽体中部的反应生成物的反应槽循环溢流结构。
为了达到上述技术目的，本发明的技术方案是提供一种匀流装置，包括反应槽体，其特征在于，所述反应槽体下方设有副槽，所述副槽通过管道和泵浦与反应槽体的进液口连接，所述反应槽体的两侧分别设有溢流区，所述溢流区通过管道与副槽相通；所述反应槽体内的液体通过两侧的溢流区流入下方的副槽内，副槽内的液体通过泵浦将液体抽出并注入通过管道连接的反应槽体的进液口内，如此循环匀流槽内的液体。
优选地，所述反应槽体的尺寸略大于硅片的尺寸；所述反应槽体略大于硅片的尺寸能快速将反应槽体内的液体匀流出去，不会产生化学成分的堆积。
优选地，所述反应槽体底部的进液口设有匀流装置，所述匀流装置为多孔，液体通过多孔均匀注入反应槽体内，改善反应槽体内药液的均匀性。
优选地，所述副槽上设有多个首尾连接的反应槽体，所述反应槽体之间通过溢流区间隔，所述每个溢流区的底部均通过管道与副槽相通，所述副槽内的液体通过泵浦注入每个反应槽体的进液口内；通过设置多个反应槽体用于同时将硅片放置入内，同时进行化学反应，提高工作效率。
优选地，所述反应槽体的首尾的侧壁为可拆卸的结构，用于根据硅片的尺寸来调节反应槽体的长度，扩充反应槽体的容量。
优选地，所述副槽与反应槽体之间的管道上设有流量控制阀门。
优选地，所述副槽与反应槽体之间的管道上设有过滤装置。
本发明还提供了一种匀流装置的匀流实现方法，其步骤如下：
S1：将硅片由A的箭头方向放入反应槽体内；
S2：反应槽体内的液体通过溢流进入溢流区内，并由溢流区底部连接的管道流入副槽内；
S3：副槽内的液体通过与副槽连接的泵浦抽出注入反应槽体内，反应槽体内液体由于注入的液体再次溢流进入溢流区后流入副槽内，如此循环，达到匀流效果。
本发明通过将一个大型反应槽体分割成多个小型反应槽体的方式改善反应槽内药液的均匀性，并使反应物快速离开反应区，通过溢流区流入副槽内，副槽内的液体再通过泵浦和管路进入各个反应槽体,达到及时排走反应槽体中部的反应生成物并形成循环溢流的结构，解决了反应生成物堆积过久不能被及时排走的问题。
附图说明
图1为本发明提供的一种匀流装置的结构示意图；
图2位本发明提供的一种匀流装置的局部结构放大示意图。
图中序号如下：
1、硅片；2、反应槽体；3、溢流区；4、泵浦；5、副槽。
具体实施方式
为使本发明更明显易懂，兹以优选实施例，并配合附图作详细说明如下。
如图1、图2所示，为本发明提供的一种匀流装置，包括多个反应槽体2，用于同时将硅片1放置入内，同时进行化学反应，提高工作效率；所述多个反应槽体2的首尾连接，所述反应槽体2之间通过溢流区3间隔，所述反应槽体2下方设有副槽5，所述副槽5通过管道和泵浦4与每个反应槽体2连接，并通过泵浦4将副槽5内的液体注入每个反应槽体2底部的进液口。
所述每个反应槽体2的两侧分别设有溢流区3，所述每个溢流区3均通过管道与副槽5相通；所述反应槽体2内的液体通过反应槽体2两侧的溢流区3流入反应槽体2下方的副槽5内，副槽5的液体又通过泵浦4将液体抽出并注入反应槽体2的进液口内，如此循环匀流槽内的液体。
所述反应槽体2的尺寸略大于硅片1的尺寸；由于反应槽体2的尺寸与现有技术相比缩短了很多，能快速将反应槽体2内的液体匀流出去，不会产生化学成分的堆积。
进一步，所述反应槽体2底部的进液口设有匀流装置，所述匀流装置为多孔，液体通过多孔均匀注入反应槽体2内，改善反应槽体2内药液的均匀性。
进一步，所述反应槽体2的首尾的侧壁为可拆卸的结构，用于根据硅片的尺寸来调节反应槽体2的长度，扩充反应槽体2的容量；所述副槽5与反应槽体2之间的管道上设有流量控制阀门及过滤装置。
本发明提供的匀流装置的匀流实现方法，其步骤如下：
S1：将硅片1由A的箭头方向放入反应槽体2内；
S2：反应槽体2内的液体通过溢流进入溢流区3内，并由溢流区3底部连接的管道流入副槽5内；
S3：副槽5内的液体通过与副槽5连接的泵浦4抽出注入反应槽体2内，反应槽体2内液体由于注入的液体再次溢流进入溢流区3后流入副槽5内，如此循环，达到匀流效果。
本发明通过将一个大型反应槽体分割成多个小型反应槽体的方式改善反应槽内药液的均匀性，并使反应物快速离开反应区，通过溢流区流入副槽内，副槽内的液体再通过泵浦和管路进入各个反应槽体,达到及时排走反应槽体中部的反应生成物并形成循环溢流的结构，解决了反应生成物堆积过久不能被及时排走的问题。
Claims (8)
1.一种匀流装置，包括反应槽体(2)，其特征在于，所述反应槽体(2)下方设有副槽(5)，所述副槽(5)通过管道和泵浦(4)与反应槽体(2)的进液口连接，所述反应槽体(2)的两侧分别设有溢流区(3)，所述溢流区(3)通过管道与副槽(5)相通；所述反应槽体(2)内的液体通过两侧的溢流区(3)流入下方的副槽(5)内，副槽(5)内的液体通过泵浦(4)将液体抽出并注入通过管道连接的反应槽体(2)的进液口内，如此循环匀流槽内的液体。
2.根据权利要求1所述的一种匀流装置，其特征在于，所述反应槽体(2)的尺寸略大于硅片(1)的尺寸；所述反应槽体(2)略大于硅片(1)的尺寸能快速将反应槽体(2)内的液体匀流出去，不会产生化学成分的堆积。
3.根据权利要求2所述的一种匀流装置，其特征在于，所述反应槽体(2)底部的进液口设有匀流装置，所述匀流装置为多孔，液体通过多孔均匀注入反应槽体(2)内，改善反应槽体(2)内药液的均匀性。
4.根据权利要求3所述的一种匀流装置，其特征在于，所述副槽(5)上设有多个首尾连接的反应槽体(2)，所述反应槽体(2)之间通过溢流区(3)间隔，所述每个溢流区(3)的底部均通过管道与副槽(5)相通，所述副槽(5)内的液体通过泵浦注入每个反应槽体(2)的进液口内；通过设置多个反应槽体(2)用于同时将硅片(1)放置入内，同时进行化学反应，提高工作效率。
5.根据权利要求4所述的一种匀流装置，其特征在于，所述反应槽体(2)的首尾的侧壁为可拆卸的结构，用于根据硅片(1)的尺寸来调节反应槽体(2)的长度，扩充反应槽体(2)的容量。
6.根据权利要求4所述的一种匀流装置，其特征在于，所述副槽(5)与反应槽体(2)之间的管道上设有流量控制阀门。
7.根据权利要求5所述的一种匀流装置，其特征在于，所述副槽(5)与反应槽体(2)之间的管道上设有过滤装置。
8.一种根据权利要求1-4任一项所述的匀流装置的匀流实现方法，其步骤如下：
S1：将硅片(1)由A的箭头方向放入反应槽体(2)内；
S2：反应槽体(2)内的液体通过溢流进入溢流区(3)内，并由溢流区(3)底部连接的管道流入副槽(5)内；
S3：副槽(5)内的液体通过与副槽(5)连接的泵浦(4)抽出注入反应槽体(2)内，反应槽体(2)内液体由于注入的液体再次溢流进入溢流区(3)后流入副槽(5)内，如此循环，达到匀流效果。
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