CN109881230A - 一种片式元件电镀表面清洗装置 - Google Patents

Abstract

本发明涉及电镀领域，尤其是一种片式元件电镀表面清洗装置，包括清洗槽机架，所述清洗槽机架的顶部设有清洗槽，所述清洗槽机架的下端设有喷泉动力泵，所述清洗喷水管道球阀的上侧连接有清洗喷水管道，所述清洗喷水管道的上端贯穿清洗篮底座与设于清洗篮底部的喷射嘴连接，本片式元件在进行镀镍处理或镀锡处理后通过清洗装置进行清洗，本清洗装置采用喷泉动力泵提供动力将清洗液形成流动体，带动片式元件向上运动然后如喷泉的方式将片式元件四散坠落，带动片式元件做从下向上的循环运动，使得清洗液充分清洗片式元件，防止片式元件表面镍或锡药水的残留，提高电镀产品的质量。

Description

一种片式元件电镀表面清洗装置

技术领域

本发明涉及电镀技术领域，尤其涉及一种片式元件电镀表面清洗装置。

背景技术

电镀(Electroplating)就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程，是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化(如锈蚀)，提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性(硫酸铜等)及增进美观等作用，片式阻(R)、容(C)、感(L)基础元件表面进行镀镍或镀锡处理，电镀加工片式元件表面通常会进行镀镍和镀锡两道处理，传统电镀中在进行镀镍处理后不加清洗就进行镀锡处理，这样易导致电镀产品质量下降，为此，我们提出一种片式元件表面处理装置。

发明内容

本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种片式元件表面处理装置。

为了实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：

设计一种片式元件电镀表面清洗装置，包括清洗槽机架，所述清洗槽机架的顶部设有清洗槽，所述清洗槽机架的底部设有防泄露槽，所述清洗槽的内腔底部安装有清洗篮底座，所述清洗篮底座的上侧连接有清洗篮，所述清洗槽机架的下端设有喷泉动力泵，所述喷泉动力泵的上侧出口通过水管连接有清洗喷水管道球阀，所述清洗喷水管道球阀的上侧连接有清洗喷水管道，所述清洗喷水管道的上端贯穿清洗篮底座与设于清洗篮底部的喷射嘴连接，所述喷泉动力泵的进口连接有进水管，所述进水管的另一端与清洗槽连通。

优选的，所述清洗篮内部固定连接有陀螺分散机构，所述陀螺分散机构包括分散陀螺，所述分散陀螺的中部设有水流道，所述分散陀螺的上锥面等距离设有陀螺分散片，所述陀螺分散片的顶部设有陀螺支撑杆，所述陀螺支撑杆的上端连接有分散盖，所述分散盖通过支撑杆与清洗篮盖连接，所述分散盖的纵向截面为T字形，所述分散盖的横向截面为圆形。

优选的，所述分散盖的下端面中部留有导向槽，所述导向槽位于水流道顶端的上侧，所述导向槽为锥形槽，且锥形槽的下端横截面大于上端横截面，锥形槽的下端横截面直径大于水流道的上端横截面直径，

优选的，所述水流道由圆柱孔道和圆台孔道组成，所述圆台孔道位于圆柱孔道的下侧，所述圆台孔道的下端横截面积大于上端横截面积。

优选的，所述喷泉动力泵外接电源。

优选的，所述喷泉动力泵的外表面设有动力泵保护壳。

本发明提出的一种片式元件电镀表面清洗装置，有益效果在于：本片式元件在进行镀镍处理或镀锡处理后通过清洗装置进行清洗，本清洗装置采用喷泉动力泵提供动力将清洗液形成流动体，带动片式元件向上运动然后如喷泉的方式将片式元件四散坠落，带动片式元件做从下向上的循环运动，使得清洗液充分清洗片式元件，防止片式元件表面镍或锡药水的残留，提高电镀产品的质量。

附图说明

图1为本发明提出的一种片式元件电镀表面清洗装置的结构示意图；

图2为本发明提出的一种片式元件电镀表面清洗装置的剖视结构示意图；

图3为本发明提出的一种片式元件电镀表面清洗装置的清洗篮结构示意图。

图中：清洗槽机架1、清洗槽2、防泄露槽3、清洗篮底座4、清洗篮5、陀螺分散机构51、分散陀螺52、水流道53、陀螺分散片54、陀螺支撑杆55、分散盖56、清洗篮盖57、导向槽58、喷泉动力泵6、清洗喷水管道球阀7、清洗喷水管道8、喷射嘴9、进水管10、动力泵保护壳11。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。

参照图1-3，一种片式元件电镀表面清洗装置，包括清洗槽机架1，所述清洗槽机架1的顶部设有清洗槽2，所述清洗槽机架1的底部设有防泄露槽3，所述清洗槽2的内腔底部安装有清洗篮底座4，所述清洗篮底座4的上侧连接有清洗篮5，所述清洗槽机架1的下端设有喷泉动力泵6，所述喷泉动力泵6的上侧出口通过水管连接有清洗喷水管道球阀7，所述清洗喷水管道球阀7的上侧连接有清洗喷水管道8，所述清洗喷水管道8的上端贯穿清洗篮底座4与设于清洗篮5底部的喷射嘴9连接，所述喷泉动力泵6的进口连接有进水管10，所述进水管10的另一端与清洗槽2连通。

所述清洗篮5内部固定连接有陀螺分散机构51，所述陀螺分散机构包括分散陀螺52，所述分散陀螺52的中部设有水流道53，所述分散陀螺52的上锥面等距离设有陀螺分散片54，陀螺分散片54对片式元件具有导向作用，所述陀螺分散片54的顶部设有陀螺支撑杆55，所述陀螺支撑杆55的上端连接有分散盖56，所述分散盖56通过支撑杆与清洗篮盖57连接，所述分散盖56的纵向截面为T字形，所述分散盖56的横向截面为圆形。

所述分散盖56的下端面中部留有导向槽58，所述导向槽58位于水流道53顶端的上侧，所述导向槽58为锥形槽，且锥形槽的下端横截面大于上端横截面，锥形槽的下端横截面直径大于水流道53的上端横截面直径，导向槽58在阻止片式元件在喷泉动力泵的动力下向上的冲力，且导向槽的下端横截面大于上端横截面，有助于将片式元件向四周进行疏导。

所述水流道53由圆柱孔道和圆台孔道组成，所述圆台孔道位于圆柱孔道的下侧，所述圆台孔道的下端横截面积大于上端横截面积。

所述喷泉动力泵6外接电源。

所述喷泉动力泵6的外表面设有动力泵保护壳11。

工作原理：喷泉动力泵6通过进水管10从清洗槽2内抽取清洗液，通过清洗喷水管道8进入喷射嘴9，流动的清洗液带动清洗篮5底部的片式元件进去陀螺分散机构51的分散陀螺52留有的水流道53内，片式元件通过水流道呈喷泉式喷出，然后陀螺分散机构51对片式元件进行导向，规则的落入清洗篮5的底部，清洗液通过进水管10和清洗喷水管道8形成循环，流动的清洗液带动片式元件做循环喷泉式的运动，参与到清洗过程中，此装置充分对片式元件表面进行清洗，保证电镀产品质量。

以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种片式元件电镀表面清洗装置，包括清洗槽机架(1)，其特征在于，所述清洗槽机架(1)的顶部设有清洗槽(2)，所述清洗槽机架(1)的底部设有防泄露槽(3)，所述清洗槽(2)的内腔底部安装有清洗篮底座(4)，所述清洗篮底座(4)的上侧连接有清洗篮(5)，所述清洗槽机架(1)的下端设有喷泉动力泵(6)，所述喷泉动力泵(6)的上侧出口通过水管连接有清洗喷水管道球阀(7)，所述清洗喷水管道球阀(7)的上侧连接有清洗喷水管道(8)，所述清洗喷水管道(8)的上端贯穿清洗篮底座(4)与设于清洗篮(5)底部的喷射嘴(9)连接，所述喷泉动力泵(6)的进口连接有进水管(10)，所述进水管(10)的另一端与清洗槽(2)连通。

2.根据权利要求1所述的一种片式元件电镀表面清洗装置，其特征在于，所述清洗篮(5)内部固定连接有陀螺分散机构(51)，所述陀螺分散机构(51)包括分散陀螺(52)，所述分散陀螺(52)的中部设有水流道(53)，所述分散陀螺(52)的上锥面等距离设有陀螺分散片(54)，所述陀螺分散片(54)的顶部设有陀螺支撑杆(55)，所述陀螺支撑杆(55)的上端连接有分散盖(56)，所述分散盖(56)通过支撑杆与清洗篮盖(57)连接，所述分散盖(56)的纵向截面为T字形，所述分散盖(56)的横向截面为圆形。

3.根据权利要求2所述的一种片式元件电镀表面清洗装置，其特征在于，所述分散盖(56)的下端面中部留有导向槽(58)，所述导向槽(58)位于水流道(53)顶端的上侧，所述导向槽(58)为锥形槽，且锥形槽的下端横截面大于上端横截面，锥形槽的下端横截面直径大于水流道(53)的上端横截面直径。

4.根据权利要求2所述的一种片式元件电镀表面清洗装置，其特征在于，所述水流道(53)由圆柱孔道和圆台孔道组成，所述圆台孔道位于圆柱孔道的下侧，所述圆台孔道的下端横截面积大于上端横截面积。

5.根据权利要求1所述的一种片式元件电镀表面清洗装置，其特征在于，所述喷泉动力泵(6)外接电源。

6.根据权利要求1所述的一种片式元件电镀表面清洗装置，其特征在于，所述喷泉动力泵(6)的外表面设有动力泵保护壳(11)。