CN109797372B - 一种镀膜检测装置、镀膜设备及检测片切换方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种镀膜检测装置、镀膜设备及检测片切换方法。镀膜检测装置包括：至少两个检测盘，每一检测盘用于设置至少一个检测片，每一检测盘包括一个第一盖板，第一盖板上开设有贯穿第一盖板的第一通孔，检测盘上的一个检测片正对第一通孔；至少两个电源组件，每一电源组件为至少一个检测盘供电；驱动组件，与至少两个检测盘相连，驱动组件用于驱动至少两个检测盘中的一个检测盘移动至指定位置。这样，本发明实施例检测盘自转以切换检测片时产生的电流噪音不会干扰当前用于检测的检测片，从而提高了从而降低了对检测结果和生产进程产生干扰的可能性。

Description

一种镀膜检测装置、镀膜设备及检测片切换方法

技术领域

本发明涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种镀膜检测装置、镀膜设备及检测片切换方法。

背景技术

真空蒸镀等镀膜工艺被广泛应用于OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示装置等产品的生产过程中。这些产品中的某些膜层的厚度非常低，通常在几纳米在几百纳米之间，如果厚度异常则可能导致产品的性能异常，所以需要对膜层的厚度进行监测，从而对镀膜过程进行控制，从而实现对膜层厚度的控制。

现有的膜层厚度检测通常通过QCM(Quartz Crystal Microbalance，石英晶体微天平)实现，镀膜过程中，膜层的材料会沉积在QCM晶振片上，导致QCM晶振片的质量发生变化，从而导致其振动频率改变，使其测量结果精度下降。当其测量结果精度下降到一定程度时，则需要更换QCM晶振片以确保测量精度。而QCM晶振片切换过程中，电流会产生波动，通常称作电流噪音，该电流噪音会使检测结果存在异常，由于速率的控制采用闭环的PID(proportion、integral、differential，比例、积分、微分)控制，所以这一过程中产生的检测结果异常会使镀膜速率控制波动，接下来会需要较长时间稳定镀膜速率，对生产时间和原材料造成浪费。所以镀膜设备中检测膜层厚度的检测片切换时，可能会对生产进程造成干扰。

发明内容

本发明实施例提供一种镀膜检测装置、镀膜设备及检测片切换方法，以解决镀膜设备中检测膜层厚度的检测片切换时，可能会对生产进程造成干扰的问题。

第一方面，本发明实施例提供了一种镀膜检测装置，包括：

至少两个检测盘，每一所述检测盘用于设置至少一个检测片，每一所述检测盘包括一个第一盖板，所述第一盖板上开设有贯穿所述第一盖板的第一通孔，所述检测盘上的一个检测片正对所述第一通孔；

至少两个电源组件，每一所述电源组件为至少一个所述检测盘供电；

驱动组件，与所述至少两个检测盘相连，所述驱动组件用于驱动所述至少两个检测盘中的一个检测盘移动至指定位置。

可选的，所述镀膜检测装置包括壳体，各所述检测盘均位于所述壳体内，所述壳体包括第二盖板，所述第二盖板上开设有贯穿所述第二盖板的第二通孔，且当一个所述检测盘位于所述指定位置时，该所述检测盘正对所述第二通孔。

可选的，所述第二盖板上设置有吸附网，所述吸附网环绕所述第二通孔设置，且位于所述壳体的内侧。

可选的，还包括挡板，所述挡板设置于所述壳体内，且固定于所述第二盖板上，在一个所述检测盘位于所述指定位置时，所述挡板位于该所述检测盘与其他所述检测盘之间。

可选的，各所述检测盘均位于以所述驱动组件的输出端为圆心的同一圆周上，且各所述检测盘配置为能在所述驱动组件的驱动下绕所述驱动组件的输出端的轴线转动至所述指定位置。

可选的，相邻两个所述检测盘之间的夹角均相等，所述驱动组件包括驱动件和传动件，所述驱动组件配置为每驱动一次，所述驱动件通过所述传动件驱动各所述检测盘转动的角度均等于相邻两个所述检测盘之间的夹角。

可选的，所述驱动件为气缸、油缸和步进电机中的至少一种。

第二方面，本发明实施例提供了一种镀膜设备，包括镀膜控制器和以上任一项所述的镀膜检测装置，其中，每一所述检测盘上设置有至少一个检测片，所述检测片在正对所述检测盘的第一通孔，且所在的检测盘位于所述指定位置的情况下，与所述镀膜控制器相连。

第三方面，本发明实施例提供了一种检测片切换方法，应用于上述镀膜设备，包括以下步骤：

在第一检测盘位于所述指定位置，且所述第一检测盘上的第一检测片正对所述第一检测盘的第一通孔的情况下，若需要切换检测片，控制电源组件为第二检测盘上的第二检测片供电，然后控制所述驱动组件驱动所述第二检测盘移动至所述指定位置；

其中，所述第一检测盘和所述第二检测盘为不同的检测盘，为所述第一检测盘供电的电源组件和为所述第二检测盘供电的电源组件为不同的电源组件，所述第二检测片为所述第二检测盘上的一个可用检测片，且所述第二检测片正对所述第二检测盘的第一通孔；所述第一检测片在所述第一检测盘离开所述指定位置时，与所述镀膜控制器断开，所述第二检测片在所述第二检测盘移动至所述指定位置时，与所述镀膜控制器相连。

可选的，通过所述驱动组件驱动所述第二检测盘移动至所述指定位置之后，所述检测片切换方法还包括：

控制所述第一检测盘自转，以使第三检测片转动至正对所述第一检测盘的第一通孔，其中，所述第三检测片为所述第一检测盘上的一个可用检测片。

这样，本发明实施例能够通过将检测盘移动至指定位置的方式进行检测片的切换，同时，由于设置了至少两个电源组件，且每一电源组件为至少一个检测盘供电，这样，在检测盘自转以切换检测片时，该自转的检测盘与当前进行检测的检测片所在的检测盘通过不同电源组件供电的情况下，检测盘自转以切换检测片时产生的电流噪音不会干扰当前用于检测的检测片，从而提高了从而降低了对检测结果和生产进程产生干扰的可能性。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获取其他的附图。

图1是本发明一实施例中镀膜检测装置的结构示意图；

图2是本发明一实施例中检测盘的结构示意图；

图3是本发明一实施例中壳体的结构示意图；

图4是图3中壳体的又一视角视图；

图5是本发明一实施例中吸附网的结构示意图；

图6是本发明一实施例中检测盘的切换示意图；

图7是本发明一实施例中镀膜设备的结构示意图；

图8是本发明一实施例中检测片切换方法的流程图；

图9是本发明一实施例中检测片切换过程中的镀膜检测装置示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获取的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明提供了一种镀膜检测装置，如图1所示，该镀膜检测装置包括检测盘110、电源组件和驱动组件120。

本实施例中，检测盘110的数量为至少两个，如图2所示，每一检测盘110用于设置至少一个检测片111。

镀膜测时，常用的检测片111为QCM晶振片，其原理是利用石英晶体的逆压电效应，石英晶体在交变电压下以其固有频率振动，该固有频率与石英晶体形状与质量相关，在形状固定情况下，若石英晶体表面有物质吸附，质量的改变会使其固有频率发生改变。

利用该检测片111监控镀膜工艺中的膜层厚度时，随着镀膜过程的进行，膜层材料会同时沉积在检测片111上，随着检测片111厚度的增加，其固有频率不断下降。

以检测片111初始状态下的固有频率为6MHz为例说明，当蒸镀一定质量材料后，一部分材料沉积在检测片111上，检测片111的固有频率下降为5.97MHz，设定固有频率为6-5.97MHz的检测片111的使用寿命为0，在检测片111的固有频率低于5.97MHz的情况下，每降低0.15MHz，使用寿命加1。

一般来说，当检测片111的寿命为0-3时，检测片111累积膜厚增加与固有频率下降基本呈线性关系，此时对于膜层厚度检测结果精度较高，所以可以根据检测片111的固有频率变化速率来确定镀膜速率，此时，根据该检测结果对镀膜速率进行控制，其误差较小。当检测片111的寿命大于3时，检测片111累积膜厚增加与频率下降呈非线性关系，膜厚的测量误差量增大，此时，为了确保对膜层厚度测量的准确性和对镀膜过程控制的准确性，需要更换所使用的检测片111。

当镀膜检测装置上的检测片111全部达到使用寿命后，则需要中断生产进程，以重新布置检测片111。因此，实施时可以根据生产需要合理设置检测片111数量，以避免由于镀膜检测装置上的检测片111全部达到使用寿命失效时，重新设置检测片111而造成的生产中断。在镀膜过程需要长时间持续进行时，则可以增加检测盘110以及检测片111的数量，以提供更多的检测片111，延长镀膜过程的进行时间。

请继续参阅图2，每一检测盘110包括一个第一盖板112，第一盖板112上开设有贯穿第一盖板112的第一通孔113，检测盘110上的一个检测片111正对第一通孔113。使用过程中，检测片110能够绕自身的轴线自转，以使不同的检测片111正对该第一通孔113。

为了避免镀膜过程中，膜层材料会沉积在其他检测片111上，导致影响其他检测片111的使用寿命，本实施例中，第一盖板112上开设了一个第一通孔113，该第一通孔113的形状和尺寸与检测片111相匹配，当前用于检测的检测片111正对该第一通孔113，以使得膜层材料可以通过该第一通孔113沉积在检测片111上，实现对镀膜速率检测。检测盘110可以自转，这样，当一个检测片111达到使用寿命后，可以将一个可用的检测片111切换至正对第一通孔113，并利用该可用的检测片111进行镀膜速率检测。

电源组件的数量为至少两个，每一电源组件为至少一个检测盘110供电。

检测盘110上的各检测片111可以单独供电；为了便于控制，可以每一检测盘110上各检测盘110设置一公共电极，例如可以设置一个公用阳极，也可以设置一个公用阴极。正对第一通孔113的检测片111由于需要用于检测，所以各检测片111在正对第一通孔113时，处于通电状态。

驱动组件120与上述各检测盘110相连，该驱动组件120用于驱动检测盘110中的一个移动至指定位置。

该指定位置指的是当一个检测片111用于进行检测时，该检测片111所在的检测盘110所在的位置。当一个检测盘110在驱动组件120的驱动下移动至该指定位置时，该检测盘110正对第一通孔113的检测片111能够进行镀膜检测。

这样，本发明实施例能够通过将检测盘110移动至指定位置的方式进行检测片111的切换，同时，由于设置了至少两个电源组件，且每一电源组件为至少一个检测盘110供电，这样，在检测盘110自转以切换检测片111时，该自转的检测盘110与当前进行检测的检测片111所在的检测盘110通过不同电源组件供电的情况下，检测盘110自转以切换检测片111时产生的电流噪音不会干扰当前用于检测的检测片111，从而提高了从而降低了对检测结果和生产进程产生干扰的可能性。

应当理解的是，本实施例中所记载的检测盘110转动均指的是各检测盘110绕驱动组件120的输出端所在的轴线转动，而检测盘110自转则指的是一个检测盘110绕自身的轴线转动，以使该检测盘110上的不同检测片111正对该检测盘110的第一通孔113。

可选的，如图1、图3和图4所示，镀膜检测装置包括壳体130，各检测盘110均位于壳体130内，壳体130包括第二盖板131，第二盖板131上开设有贯穿第二盖板131的第二通孔132，且当一个检测盘110位于指定位置时，该检测盘110正对第二通孔132。

应当理解的是，使用过程中，仅有一个检测盘110上的一个检测片111处于检测状态，为了避免镀膜材料沉积在其他检测盘110或检测片111上，本实施例中将各检测盘110设置于壳体130内部。壳体130上开设的第二通孔132的形状和尺寸可以与一个检测盘110的形状和尺寸基本相同，也可以略大于检测盘110的尺寸。这样，当检测盘110位于上述指定位置时，与该第二通孔132的位置相对应，使得镀膜材料能够沉积在用于检测的检测片111上，不会影响正常的检测过程。同时，由于壳体130的存在，也降低了镀膜材料沉积在其他检测盘110上的可能性，降低了对其他检测片111使用寿命可能带来的影响。

可选的，如图1、图3、图4和图5所示，第二盖板131上设置有吸附网133，吸附网133环绕第二通孔132设置，且位于壳体130的内侧。

气态的镀膜材料可能会进入壳体130内部，并附着在当前未处于检测位置的检测片111上，通过设置该吸附网133吸附镀膜材料，能够降低镀膜材料进入壳体130内部的可能性。该吸附网133可以呈渔网状，能够吸附多余的镀膜材料，防止使用过程中，材料沉积堵塞检测盘111上的第一通孔113及内部电路(Chopper)。

进一步的，该吸附网133的尺寸由靠近壳体的一侧到靠近检测盘110的一侧逐渐减小，可以理解为，该吸附网133大致呈一个直径逐渐变化的筒状，能够进一步提高对镀膜材料的吸附效果。

该吸附网133的材料可以根据镀膜过程选择，例如，金属材料对有机材料的吸附性较好，所以镀膜材料为有机材料的情况下，可以选择金属材料制作吸附网133，并将吸附网133焊接在第二盖板131上。实施时，可以根据实际镀膜过程以及材料之间的吸附特性选择合适的材料来制作吸附网133。

可选的，如图1所示，该镀膜检测装置还包括挡板134，挡板134设置于壳体130内，且固定于第二盖板131上，在一个检测盘110位于指定位置时，挡板134位于该检测盘110与其他检测盘110之间。

该挡板134用于阻挡膜层材料，以降低材料沉积在未处于上述指定位置的检测盘110上的可能性。

该挡板134可以为弧形，当一个检测盘110位于上述指定位置时，该检测盘110位于挡板134的内侧，而其他挡板134位于该挡板134的外侧，此处，内侧指的是弧形的挡板134的圆心一侧，而外侧则指的是相反的一侧。

该挡板134也可以为平板状，例如，检测盘110的数量为两个，且两个检测盘110之间的夹角为180度，且当一个检测盘110位于上述指定位置时，该挡板134的方向垂直于两个检测盘110之间的连线，这样，当一个检测盘110用于检测时，挡板134能够阻挡膜层材料向另一个检测盘110的方向扩散，降低膜层材料沉积在其他检测盘110上的可能性。

该挡板134不能对检测盘110的转动造成干扰，例如，当该挡板134为平板状时，该挡板134的长度小于两个检测盘110之间的距离，这样，该挡板134也不会对检测盘110的转动造成干扰。

显然，该挡板134的形状、位置和尺寸均是可以作出调整的，实施时，可以根据情况作出调整，只要能阻挡膜层材料，均能降低膜层材料沉积在其他检测盘110上的可能性，从而降低对检测盘110上检测片111寿命的影响。

可选的，如图1和图6所示，各检测盘110均位于以驱动组件120的输出端为圆心的同一圆周上，且各检测盘110配置为能在驱动组件120的驱动下绕驱动组件120的输出端的轴线转动至指定位置。

各检测盘110均位于以驱动组件120的输出端为圆心的同一圆周上，也就是各检测盘110与驱动组件120的输出端之间的距离均相等。这样，当驱动组件120的输出端转动时，能够带动各检测盘110转动，且各检测盘110的转动轨迹是相同的。这一轨迹是一个圆周，上述指定位置则是圆周上的一个点，所以各检测盘110均能移动至该指定位置，简化了控制和移动过程。

如图1和图3所示，相应的，本实施例中壳体130大致呈柱状，驱动组件120的输出端的轴线与壳体130的轴线基本重合，各检测盘110也就是环绕该轴线转动。第二通孔132开设于壳体130的一个底面上，且第二通孔132与壳体130的轴线之间的距离也基本等于检测片111与驱动组件120的输出端之间的距离。

可选的，相邻两个检测盘110之间的夹角均相等，驱动组件120包括驱动件121和传动件122，驱动组件120配置为每驱动一次，驱动件121通过传动件122驱动各检测盘110转动的角度均等于相邻两个检测盘110之间的夹角。

如果设置了三个检测盘110，则可以相邻两个检测盘110之间的夹角均为120度，如果设置了两个检测盘110，则可以两个检测盘110之间的夹角为180度，依此类推。

驱动组件120的驱动件121用于提供驱动力，以使各检测盘110转动，而传动件122则用于将驱动力由驱动件121传递至检测盘110。例如，驱动件121可以是驱动电机等，可以通过驱动电机转动，以带动检测盘110转动。

由于相邻两个检测盘110之间的夹角均相等，所以检测盘110每次转动的角度也均相等，有利于简化控制。

可选的，如图1所示，传动件122包括转轴1221和轴承1222，转轴1221与驱动件121传动连接，转轴1221与轴承1222动力耦合连接，轴承1222形成驱动组件120的输出端，且轴承1222与各检测盘110固定连接。

实施时，转轴1221可以通过蜗轮蜗杆、齿轮等传动方式与驱动件121相邻，转轴1221转动过程时，带动轴承1222转动，从而实现带动与轴承1222固定连接的检测片111转动。

可选的，在一个较佳的具体实施方式中，驱动件121为气缸、油缸和步进电机中的至少一种。

应当理解的是，对于气缸和油缸来说，其每次工作过程中输出端移动的距离是固定的，而步进电机工作时，每次转动的角度是固定的，所以能够确保驱动检测盘110转动时，使检测盘110每次转动的角度相等，实施时，可以通过调整传动关系使检测盘110每次转动的角度等于相邻两个检测盘110之间的夹角。

以驱动件121为每次旋转60度的步进电机，该镀膜检测装置包括两个检测盘110，且两个检测盘110之间的夹角为180度为例说明。该步进电机的输出轴上设置有同轴转动的第一齿轮，且该第一齿轮与传动件122的转轴上的第二齿轮相啮合，第一齿轮和第二齿轮的直径比为3比1，这样，步进电机每驱动一次转动60度，同时带动第一齿轮转动60度，并同时带动第二齿轮转动180度。同时，第二齿轮通过轴承带动两个检测盘110绕轴承旋转180度，使原本位于指定位置的检测盘110被移走，而另一检测盘110被移动至指定位置。

选用不同的步进电机时或者检测盘110的数量发生变化时，只要相应的调整传动关系即可。此外，当驱动件121为气缸或油缸时，其驱动原理和过程也基本相同，此处不再赘述。

选用气缸、油缸或步进电机作为驱动件121，更加便于控制，同时也能够使检测盘110的位置移动的更加准确。

本发明实施例还提供了一种镀膜设备，包括镀膜控制器和以上任一种的镀膜检测装置，其中，每一检测盘110上设置有至少一个检测片111，检测片111在正对检测盘111的第一通孔113，且所在的检测盘110位于指定位置的情况下，与镀膜控制器相连。

镀膜控制器与位于上述指定位置上的检测盘110中，正对第一通孔113的检测片111相连，以通过该检测片111进行镀膜速率检测。如图7所示，该镀膜检测装置的位置和角度可以根据实际情况设定，以实现检测蒸镀设备200等材料源生成的材料气体。并进一步根据检测结果控制镀膜速率。其中，镀膜控制器、检测方法、镀膜速率控制方法等均可参考相关技术，此处不作进一步限定和描述。

此外，由于本实施例中的镀膜设备包括了上述镀膜检测装置实施例的全部技术方案，因此至少能实现上述全部技术效果，此处不再赘述。

本发明还提供了一种检测片切换方法，应用于上述镀膜设备，如图8所示，该检测片切换方法包括以下步骤：

步骤801：在第一检测盘位于所述指定位置，且所述第一检测盘上的第一检测片正对所述第一检测盘的第一通孔的情况下，若需要切换检测片，控制电源组件为第二检测盘上的第二检测片供电，然后控制所述驱动组件驱动所述第二检测盘移动至所述指定位置。

本实施例中，第一检测盘110A和第二检测盘110B为不同的检测盘，即在第一检测盘110A上的第一检测片111A达到使用寿命时，并不是通过控制第一检测盘110A自转切换检测片，而是控制检测盘转动，将第二检测盘110B切换至该指定位置，并利用第二检测盘110B上的第二检测片111B进行检测。

为第一检测盘110A供电的电源组件和为第二检测盘110B供电的电源组件为不同的电源组件。由于第一检测盘110A上的第一检测片111A已经无法继续进行检测，所以，需要控制第一检测盘110A自转，以将正对第一检测盘110A的第一通孔的检测片切换为一个可用检测片。这里，可用检测片指的是未达到使用寿命，且测量精度尚处于精确状态的检测片，例如，上述寿命0-3的检测片。

该切换过程中会产生电流噪音，由于第一检测盘110A和第二检测盘110B通过不同的电源组件供电，所以第一检测盘110A产生的电流噪音不会对第二检测盘110B造成干扰，从而降低了对镀膜速率检测过程产生干扰的可能性。

第二检测片111B为第二检测盘110B上的一个可用检测片，该第二检测片111B在第二检测片111B尚未移动到上述指定位置时，就已经被切换到正对第二检测盘110B的第一通孔，并已经完成了通电等操作，所以当第二检测盘110B移动到该指定位置时，第二检测片111B恰好位于进行镀膜检测的位置。

第一检测片111A在第一检测盘110A离开指定位置时，与镀膜控制器断开，第二检测片111B在第二检测盘110B移动至指定位置时，与镀膜控制器相连，此时，利用第二检测片111B进行镀膜检测。

这一检测片的切换过程中，由于未涉及到通过检测盘自转对检测片的切换，因此不会产生电流噪音，降低了对镀膜进程产生干扰的可能性。

可选的，步骤801之后，所述检测片切换方法还包括：

控制所述第一检测盘自转，以使第三检测片转动至正对所述第一检测盘的第一通孔，其中，所述第三检测片为所述第一检测盘上的一个可用检测片。

由于第一检测片111A无法继续使用，所以需要将一个可用检测片切换至正对第一通孔。

在第一检测盘110A未位于上述指定位置时，控制第一检测盘110A自转，并将第三检测片111C转动至正对第一检测盘110A的第一通孔。这一切换过程中，会产生电流噪音，但是由于第一检测盘110A和第二检测盘110B通过不同的电源组件供电，所以不会对此时位于指定位置的第二检测盘110B造成干扰。同时，第一检测盘110A上的各检测片均未与镀膜控制器相连，所以也不会对镀膜控制器产生干扰。所以，降低了产生的电流噪音对生产进程造成干扰的可能性。

如图9所示，左图中第一检测盘110A的位置为上述指定位置，第一检测盘110A上的第一检测片111A的位置为当前进行检测的检测片所在的位置。当需要进行检测片切换时，先确保第二检测盘111B上相应位置的第二检测片111B为一个可用检测片，然后控制各检测盘旋转。

请继续参阅图9，中间一幅示意图中，第二检测盘111B已经转动至上述指定位置，第二检测盘111B上的第二检测片111B转动至之前第一检测片111A所在的位置，此时，可用通过该第二检测片111B进行镀膜检测。这一过程中，由于未涉及到检测盘自转进行的检测片切换，所以未产生电流噪音。

请继续参阅图9，接下来，需要控制第一检测盘110A自转，第一检测盘110A自转之后，使第三检测片111C移动至第一检测片111A所在的位置，这样，当再次控制各检测盘转动后，能够将第三检测片111C移动图9的中间一幅图所示状态时，第二检测片111B所在的位置，并通过第三检测片111C进行镀膜检测。

这一控制第一检测盘110A自转过程中会产生电流噪音，但是，第一检测盘110A和第二检测盘111B通过不同的电源组件供电，且第一检测盘111A此时未与镀膜控制器相连，所以产生的电流噪音不会传递至镀膜控制器，从而降低了对镀膜检测和镀膜控制造成影响的可能性。

以上，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种镀膜检测装置，其特征在于，包括：

至少两个检测盘，每一所述检测盘用于设置至少一个检测片，每一所述检测盘包括一个第一盖板，所述第一盖板上开设有贯穿所述第一盖板的第一通孔，所述检测盘上的一个检测片正对所述第一通孔；

至少两个电源组件，每一所述电源组件为至少一个所述检测盘供电，其中，自转以切换检测片的检测盘与当前进行检测的检测片所在的检测盘通过不同电源组件供电；

驱动组件，与所述至少两个检测盘相连，所述驱动组件用于驱动所述至少两个检测盘中的一个检测盘移动至指定位置。

2.如权利要求1所述的镀膜检测装置，其特征在于，所述镀膜检测装置包括壳体，各所述检测盘均位于所述壳体内，所述壳体包括第二盖板，所述第二盖板上开设有贯穿所述第二盖板的第二通孔，且当一个所述检测盘位于所述指定位置时，该所述检测盘正对所述第二通孔。

3.如权利要求2所述的镀膜检测装置，其特征在于，所述第二盖板上设置有吸附网，所述吸附网环绕所述第二通孔设置，且位于所述壳体的内侧。

4.如权利要求2或3所述的镀膜检测装置，其特征在于，还包括挡板，所述挡板设置于所述壳体内，且固定于所述第二盖板上，在一个所述检测盘位于所述指定位置时，所述挡板位于该所述检测盘与其他所述检测盘之间。

5.如权利要求1所述的镀膜检测装置，其特征在于，各所述检测盘均位于以所述驱动组件的输出端为圆心的同一圆周上，且各所述检测盘配置为能在所述驱动组件的驱动下绕所述驱动组件的输出端的轴线转动至所述指定位置。

6.如权利要求5所述的镀膜检测装置，其特征在于，相邻两个所述检测盘之间的夹角均相等，所述驱动组件包括驱动件和传动件，所述驱动组件配置为每驱动一次，所述驱动件通过所述传动件驱动各所述检测盘转动的角度均等于相邻两个所述检测盘之间的夹角。

7.如权利要求6所述的镀膜检测装置，其特征在于，所述驱动件为气缸、油缸和步进电机中的至少一种。

8.一种镀膜设备，其特征在于，包括镀膜控制器和权利要求1至7中任一项所述的镀膜检测装置，其中，每一所述检测盘上设置有至少一个检测片，所述检测片在正对所述检测盘的第一通孔，且所在的检测盘位于所述指定位置的情况下，与所述镀膜控制器相连。

9.一种检测片切换方法，应用于权利要求8所述的镀膜设备，其特征在于，包括以下步骤：

在第一检测盘位于所述指定位置，且所述第一检测盘上的第一检测片正对所述第一检测盘的第一通孔的情况下，若需要切换检测片，控制电源组件为第二检测盘上的第二检测片供电，然后控制所述驱动组件驱动所述第二检测盘移动至所述指定位置；

其中，所述第一检测盘和所述第二检测盘为不同的检测盘，为所述第一检测盘供电的电源组件和为所述第二检测盘供电的电源组件为不同的电源组件，所述第二检测片为所述第二检测盘上的一个可用检测片，且所述第二检测片正对所述第二检测盘的第一通孔；所述第一检测片在所述第一检测盘离开所述指定位置时，与所述镀膜控制器断开，所述第二检测片在所述第二检测盘移动至所述指定位置时，与所述镀膜控制器相连。

10.如权利要求9所述的检测片切换方法，其特征在于，通过所述驱动组件驱动所述第二检测盘移动至所述指定位置之后，所述检测片切换方法还包括：

控制所述第一检测盘自转，以使第三检测片转动至正对所述第一检测盘的第一通孔，其中，所述第三检测片为所述第一检测盘上的一个可用检测片。

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