CN109791229B

CN109791229B - 光学设备用遮光部件

Info

Publication number: CN109791229B
Application number: CN201780056562.XA
Authority: CN
Inventors: 外川优衣
Original assignee: Somar Corp
Current assignee: Somar Corp
Priority date: 2016-09-16
Filing date: 2017-09-13
Publication date: 2020-07-28
Anticipated expiration: 2037-09-13
Also published as: KR102195942B1; WO2018052044A1; TWI708109B; JPWO2018052044A1; JP6541244B2; US11125917B2; KR20190043622A; US20190257981A1; TW201814386A; CN109791229A

Abstract

本发明提供一种简单制程即可制造的、具有优异的反射防止性能、能够应用于小型化、薄型化的光学设备之光学设备用遮光部件；所述光学设备用遮光部件表面，基于JIS B0601:2001测出的轮廓算数平均偏差Ra为0.5微米以上、且使最大峰高度Rp与最大谷深度Rv之差(Rp‑Rv)小于3；光学设备用遮光部件优选为具有基材膜以及形成于所述基材膜的至少一方的面上之遮光层。另外，所述遮光层的平均膜厚为2微米至35微米。

Description

光学设备用遮光部件

技术领域

本发明涉及一种光学设备用遮光部件，特别涉及应用于照相机、投影仪以及摄像机、复印机、光泽度计等光学物性检测机等的光学设备的内壁面、柔性印刷电路板、快门、虹膜(光圈)、垫片等的遮光部件。

背景技术

以往在各种光学设备内壁以及柔性印刷电路板等上面设置具有防止反射性能的遮光部件(专利文献1)。另外，在照相机、投影仪、摄像机等光学器械的羽根材料(构成快门的材料)或者垫圈等，也使用遮旋光性膜(专利文献2)。

现有先前技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利公开特开平10-268105

专利文献2：日本专利公开特开平4-9802

专利文献3：日本专利公开特开2008-225099

发明内容

发明要解决的课题

通常在上述遮旋光性膜等表面上添加消光剂，设置使表面粗糙化的遮光层。为提高遮旋光性膜的遮旋光性能，在遮光层以及在基材膜与遮光层之间，设置的厚膜化的固定层是有效的方法。

然而，近年来光学设备的小型化、薄型化发展，需要既薄又具有优异遮旋光性能，且具有良好硬度以及遮光层与基材膜之间的紧贴性良好的遮光膜。针对这类问题，专利文献3公开了一种遮光膜，其具备基材膜(基材)和配设于上述基材其中之一的面上的遮光层，上述基材是含有白色颜料或者在表面以及内部具有微细独立气泡的，光反射率达到80％以上的合成树脂膜，上述遮光层含有黏结剂树脂、黑色颜料以及填料，且其厚度为15微米以下，上述遮光层在其厚度方向上，与上述基材相接的面的附近范围的黑色颜料的浓度，比与上述基材不相接的面(表面)附近范围的黑色颜料的浓度高，整体厚度在60微米以下。且记载了上述遮光膜，即使是薄膜，也具有优异的遮光特性。具体地，公开了相对于60°的入射角的入射光的光泽度为6％以下的遮光膜。

但在专利文献3中，由于厚度方向的黑色颜料的浓度变化，所以需要经过设置2层以上的遮光层等复杂制备过程。另外，近年来，由于光源小型化，光量上升等高性能化，因而需要更优异的防止反射性能(遮光特性)。

因此本发明的目的在于提供一种简单制备过程即可制造，具有优异的防止反射性能，可以应用于小型化、薄型化的光学设备的光学设备用遮光部件。

解决课题的手段

本发明的发明人经过锐意研究，结果发现通过控制具有特定表面粗糙度的遮光部件表面的最大峰高度(the maximum profile peak height)Rp与最大谷深度(the maximumprofile valley depth)Rv的差，就可以解决上述课题，并完成了本发明。即，本发明的遮光部件之特征在于，基于JIS B0601：2001测出的表面轮廓算数平均偏差(the arithmeticalmean deviation of the assessed profile)Ra为0.5微米以上，且最大峰高度(themaximum profile peak height)Rp与最大谷深度(the maximum profile valley depth)Rv之差(Rp-Rv)小于3。

本发明的遮光部件的表面硬度优选为在H以上。

另外，本发明的遮光部件，优选为具有基材膜以及形成于所述基材膜的至少其中之一的面上的遮光层。

进而，上述遮光层的平均膜厚优选为2微米至35微米。

发明效果

本发明的遮光部件简单制备过程即可制造，即使是薄型化也具有优异的防止反射性能。另外，具有遮光层的本发明的遮光部件由于具有优异的硬度以及遮光层与膜基材之间的紧贴性，所以即使在应用于小型化、薄型化光学设备时，也能够长期维持优异的防止反射性能。

附图说明

图1显示了本发明的一个实施方式的遮光部件构成的截面模式图。

图2显示了本发明的另一个实施方式的遮光部件构成的截面模式图。

图3显示遮光部件表面的Rp-Rv值与相对于入射角度为60°的入射光的光泽度的关系的一个实例的图表。

符号说明：

1：遮光部件

2：基材膜

3：遮光层

31：消光剂

32：基质部

4：遮光层(薄膜)

具体实施方式

以下详细说明本发明的具体实施方式。

本发明的遮光部件的特征在于，基于JIS B0601:2001测出的表面轮廓算数平均偏差(the arithmetical mean deviation of the assessed profile)Ra为0.5微米以上，最大峰高度(the maximum profile peak height)Rp与最大谷深度(the maximum profilevalley depth)Rv之差(Rp-Rv)小于3。

通过使遮光部件表面的轮廓算数平均偏差(the arithmetical mean deviationof the assessed profile)Ra为0.5以上，最大峰高度(the maximum profile peakheight)Rp与最大谷深度(the maximum profile valley depth)Rv之差(Rp-Rv)小于3，则即使是很薄，也能发挥优异的防止反射性能。具体地，通过将遮光部件表面控制在上述范围内，能够得到在入射角为60°时，光泽度小于3％的优异的防止反射性能。

遮光部件表面的轮廓算数平均偏差(the arithmetical mean deviation of theassessed profile)Ra优选为1.0微米以上，更优选为2.0微米以上。

遮光部件表面之Rp-Rv值优选为2.0以下，更优选为1.5以下。另一方面，只要轮廓算数平均偏差(the arithmetical mean deviation of the assessed profile)Ra在0.5微米以上，则Rp-Rv的下限值，就没有特殊限定。

控制本发明的遮光部件的表面的Ra以及Rp-Rv值的方法，没有特殊限定，可以举例(A)通过添加到表面遮光层的充填剂(消光剂)的粒径、粒度分布、含量以及遮光层的膜厚、遮光层的制造条件等，控制遮光层表面的凹凸的方法，(B)在遮光部件之基材表面形成凹凸的方法，以及(C)在遮光层的基材表面形成凹凸，且控制添加到表面遮光层的充填剂(消光剂)的粒径等的方法。

基于附图，分别进行详细说明。

首先，对以(A)方法所得到的遮光部件1的构成加以说明。如第1图所示，在平坦的基材膜2之表面上覆盖含有消光剂31和基质部32的遮光层3。遮光层3的表面上，通过消光剂31而形成凹凸。此处，遮光部件1表面的Ra以及Rp-Rv值，可以通过调整消光剂31的粒径、粒度分布、含量以及遮光层3的膜厚等进行控制。另外，还可通过调整制作涂敷液时的溶剂的种类和固形成分的浓度、向基材膜涂敷的量，进行控制。进一步，也可以通过涂敷液的涂敷方法或者干燥温度、时间以及干燥时的风量等的涂膜制造条件，进行控制。通过这种控制涂敷液组成以及涂膜制造条件等，能够调制即使是具有大致相同的膜厚或者Ra的遮光层，而Rp-Rv值不同的遮光层。

接着，对以(B)方法所得到的遮光部件1的构成加以说明。

如第2图所示，在基材膜2表面形成凹凸。凹凸的形成，例如可以使用喷砂方法，通过控制所使用的研磨剂的粒径以及喷射压力等，能够控制Ra以及Rp-Rv值。在第2图中，通过在形成了凹凸的基材膜2上覆盖薄膜4，能够在遮光部件1的表面，形成模仿基材膜2表面的凹凸形状的凹凸形状。此处，在遮光部件表面的薄膜4中，不添加消光剂，遮光部件1表面的Ra以及Rp-Rv值通过基材膜2的凹凸形状以及薄膜4的膜厚等进行调节。

在应用于不需要高硬度的领域的情形或者基材膜具有足够的硬度的情形时，可以使用不形成薄膜4的基材膜2作为遮光部件。另一方面，在作为与其他部件滑动的部件或者与人的手相接触的部件使用时，通过在遮光部件表面形成高硬度且具有优异的滑动特性的薄膜4，能够长期维持优异的遮旋光性。

(C)方法，如(B)那样，在基材膜表面形成凹凸，且如(A)那样，在遮光部件表面覆盖含有消光剂的遮光层。在该构成中，遮光部件表面的Ra以及Rp-Rv值可以通过基材膜2表面的凹凸形状、遮光层的膜厚、遮光层中消光剂的粒径、粒度分布、含有量、遮光层的制造条件等进行控制。

本发明的遮光部件的表面硬度，没有特殊限定，优选为H以上。通过使遮光部件的表面硬度在H以上，则即使是作为滑动部件或者与人的手相接触的部件使用的情形，也能够降低遮光部件表面的磨耗，能够长期维持优异的遮光特性。本发明的遮光部件的表面硬度更优选为2H以上。上述表面硬度按照JIS K5600，通过铅笔划痕测试仪进行测定，以JISK5400标准进行评价。

另外，本发明的遮光部件，优选为以浸润甲基乙基酮的脱脂棉为相对材料的往复滑动试验前后的光学浓度差在1.5以下。这样的耐溶剂性优异的遮光部件，能够作为交联密度高的遮光膜，由于是一种强韧的被膜，所以即使在滑动条件下，也能够长期维持凹凸形状，能够更加发挥优异的遮光特性。上述滑动试验以及光学浓度的测定，可以通过以下方法进行。

对于涂膜面，将浸润甲基乙基酮的脱脂棉以每3平方公分(cm²)250公克(g)的负荷，按照200毫米(mm)/秒使其往复滑动20次，用光学浓度计，测定试验前后的光学浓度，算出差值。

进一步，本发明的遮光部件在作为与其他部件滑动的部件使用时，遮光部件表面的动摩擦因子优选为0.42以下。这样的遮光部件，滑动性能优异，即使是长期使用，也能够维持遮光部件表面的凹凸形状，即，维持上述Ra以及Rp-Rv值。由此能够长期地保持优异的防止反射性能(遮光特性)。

本发明的遮光部件的动摩擦因子优选为0.35以下，更优选为0.3以下。另外，动摩擦因子可以通过摩擦磨损试验机HEIDON等进行测定。

本发明的遮光部件，优选为在基材膜的至少其中之一的面上形成有遮光层的构成。另外，以下的说明中，设定以(B)方法形成的、在基材膜表面覆盖的不含消光剂的薄膜也包含在遮光层中。

以下就本发明遮光部件的具体材料构成进行说明。

(1)基材膜

本发明所使用的基材膜，没有特殊限定，可以是透明膜也可以是不透明膜。作为基材膜的素材，例如可以使用聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚物、乙烯与碳原子数为4以上的α烯烃的共聚物等的聚烯烃、聚对苯二甲酸乙酯等的聚酯、尼龙等的聚酰胺、乙烯-醋酸乙烯共聚物、聚氯乙烯、聚乙酸乙烯酯等的其他通用塑料、聚碳酸酯、聚酰亚胺等的工程塑料。这些素材中从强度比较高，经济性和通用性较高的观点，优选为使用双向拉伸的聚对苯二甲酸乙酯。通过使用在这些素材中事先揉进炭黑或者苯胺黑之类的黑色染色料的光学浓度为2以上、优选为4以上的高遮旋光性物质，能够得到更优异的遮光效果。

基材膜厚度，没有特殊限定，优选为12至188微米，更优选为12至75微米。通过将基材膜的厚度设在上述范围内，还能适用于小型或者薄型的光学部件。

在使用上述(B)以及(C)方法时，事先在遮光部件表面施以消光加工，形成凹凸。消光加工方法，没有特别限定，可以使用已知的方法。例如，化学蚀刻法、喷射法、压光法、压延法、电晕放电法、电浆放电法、由树脂与粗面化形成剂形成的化学消光法等。这其中，从控制形状的容易性和经济性、操作性等观点，优选为使用喷射法，特别是喷砂法。

在喷砂法中，通过使用的研磨剂的粒径或者喷砂压力等，能够控制表面的Ra以及Rp-Rv值。另外，在压光法中，通过调整压光轮形状或者压力，能够控制表面的Ra以及Rp-Rv值。

另外，根据遮光部件的用途，还可以是在通过(B)方法的在表面形成有凹凸的基材膜上，不形成后述的遮光层，而是作为使凹凸部露出表面的遮光部件使用。

(2)固定层

为提高基材膜与遮光层的黏接性，在上述基材膜的至少其中之一的面上设置遮光层之前，还可以设置固定层。作为固定层，可使用尿素类树脂层、三聚氰胺类树脂层、聚氨酯类树脂层、聚酯类树脂等。例如聚氨酯类树脂层可以通过在基材膜表面涂敷含有聚异氰酸酯和二胺、二醇等的含活性氢的化合物溶液，使其固化而制得。另外，尿素类树脂、三聚氰胺类树脂的情形时，可以通过于基材表面涂敷含有水溶性尿素类树脂或者水溶性三聚氰胺类树脂的溶液，使其固化而制得。聚酯类树脂，可以在基材表面涂敷由有机溶剂(甲基乙基酮、甲苯等)溶解或者稀释的溶液，使其干燥后而制得。

(3)遮光层

如上所述，除了作为将通过(B)方法而在基材膜表面形成的凹凸部露出的构成的遮光部件的情形以外，在基材膜的至少其中之一的面上形成遮光层。作为遮光层，有以上述(A)以及(C)方法中使用的含有消光剂的遮光层和(B)方法中使用的不具有消光剂的遮光层(高硬度层、薄膜)。

以下说明各自的遮光层的构成。

1)含有消光剂的遮光层

作为遮光层的构成成分，包括树脂成分、消光剂以及染色·导电剂。

树脂成分是消光剂以及染色·导电剂的黏合剂。树脂成分的材料没有特别限定，可以使用热可塑性树脂以及热固化性树脂的任意一种。作为具体的热固化性树脂，可以举例丙烯类树脂、聚氨酯类树脂、苯酚类树脂、三聚氰胺类树脂、尿素类树脂、邻苯二甲酸二丙烯酯树脂、不饱和聚酯类树脂、环氧类树脂、醇酸类树脂等。另外，作为热可塑性树脂，可以举例聚丙烯酯树脂、聚氯乙烯树脂、丁缩醛树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物树脂等。从耐热性、耐湿性、耐溶剂性以及表面硬度的观点，优选为使用热固化性树脂。作为热固化性树脂，从柔软性和被膜的强韧考虑，特别优选为丙烯酸树脂。

通过添加固化剂作为遮光层的构成成分，能够促进树脂成分的交联。作为固化剂，可以使用带有官能团的尿素化合物、三聚氰胺化合物、异氰酸盐化合物、环氧化合物、氮丙啶化合物、噁唑啉化合物等。这其中特别优选为异氰酸盐化合物。固化剂的配合比例，优选为相对于树脂成分100重量％为10至50重量％。通过于上述范围内添加固化剂，能够得到更合适硬度之遮光层，即使与其他部件滑动的情形下，也能长期维持遮光层的Ra以及Rp-Rv值，保持优异的遮光特性。

在使用固化剂的情况下，为了促进反应，还可以并用反应催化剂。作为反应催化剂，可以举例氨或者氯化铵等。反应催化剂的配合比例，优选为相对于固化剂100重量％为0.1至于10重量％的范围。

作为消光剂，可以使用树脂类粒子，还可以使用无机类粒子。作为树脂类粒子，可举例三聚氰胺树脂、苯代三聚氰胺树脂、苯代三聚氰胺/三聚氰胺/福尔马林缩聚物、丙烯树脂、聚氨酯树脂、苯乙烯树脂、氟树脂、硅酮树脂等。另一方面，作为无机粒子可以举例如硅石、钒土、碳酸钙、硫酸钡、氧化钛等。这些树脂类粒子或者无机类粒子可以单独使用，也可以二种以上组合使用。

消光剂的平均粒径、粒度分布以及含有量，随着所设定之遮光层的膜厚或者基材膜的表面的凹凸形状的程度不同而不同，使遮光部件的表面得到所需要的Ra值以及Rp-Rv值而进行调整。(A)方法时，例如在表面平滑的基材膜上形成2至35微米膜厚的遮光层的情形时，通常消光剂的平均粒径优选为1至40微米，另外遮光层的膜厚为4至25微米时，消光剂的平均粒径优选为5至20微米。

(C)方法的情形时，例如在具有凹凸形状的基材膜上形成1至10微米的遮光层时，消光剂的平均粒径优选为2至15微米，而遮光层的膜厚为2至7微米时，消光剂的平均粒径优选为2至10微米。

消光剂的粒度分布，根据遮光层的膜厚与所选择的消光剂的大小的组合而不同，不能一概而论，但优选为尽可能为尖峰。另外还可以使用平均粒径以及粒度分布不同的多种消光剂，调整Ra以及Rp-Rv值。

消光剂的添加量取决于消光剂的平均粒径、粒度分布以及遮光层膜厚，在(A)方法时，优选为相对于遮光剂全体100重量％为20重量％至80重量％。另外(C)方法时，优选为1至40重量％。

通过控制基材膜的表面形状以及消光剂的平均粒径、粒度分布和含有量，还有遮光层的膜厚等，将遮光层表面的Ra值调整到0.5微米以上，且将Rp-Rv值调整到小于3，则即使很薄也能发挥优异的遮光特性。具体地，已经确认出如上所述通过控制遮光层表面的Ra值和Rp-Rv值，则对于60°的入射角度的入射光，光泽度在3％以下。

另外，关于消光剂的形状没有特殊限定，但考虑涂敷液的流动特性和涂敷性、所得到的遮光层的滑动特性等，优选为球状的消光剂。进而，为了抑制光的反射，还可以根据需要，利用有机类或者无机类染色剂将消光剂染色为黑色。具体的染色剂，可以举例如炭黑、苯胺黑、纳米碳管等。使用被炭黑染色了的消光剂，且将炭黑等添加到遮光层中作为染色·导电剂，能够得到更优异的遮光特性。

作为染色·导电剂，通常使用炭黑等。由于添加染色·导电剂，使遮光层被染色，所以遮旋光性提高，且能够得到良好的带电防止效果。

染色·导电剂的平均粒径优选为1纳米至1000纳米，更优选为5纳米至500纳米。通过使染色·导电剂的粒径在上述范围内，能够得到更优异的遮光特性。

另外，染色·导电剂之含有量，优选为相对于遮光层全体100重量％为9重量％至38重量％。通过使染色·导电剂的含量在上述范围内，能够得到更优异的遮光特性。

在本发明中，作为遮光层的构成成分，还可以根据需要，进一步添加均化剂、增黏剂、pH调整剂、润滑剂、分散剂，消泡剂等。

作为润滑剂，可以使用固体润滑剂的聚四氟乙烯(PTFE)粒子，此外，还可以使用聚乙烯类蜡、硅酮粒子等。

在有机溶剂或者水中，添加上述构成成分，通过混合搅拌，能够调制均匀的涂敷液。作为有机溶剂可以举例如，甲基乙基酮、甲苯、丙二醇甲醚醋酸酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇等。

将所得到之涂敷液直接涂敷到基材膜表面或者涂敷到事先形成的固定层上，经干燥，形成遮光层。涂敷方法没有特别限定，可以使用辊涂法或者刮刀法等。此处，可以根据涂敷液的浓度以及使用量，干燥时的风量等的涂膜制造条件，来控制Ra值以及Rp-Rv值。

本发明的遮光层厚度，优选为2微米至35微米。特别是在含有消光剂时，在(A)方法时，遮光层之厚度优选为2微米至30微米，更优选为4微米至25微米。另外(C)方法时，遮光层的厚度优选为1微米至10微米，更优选为2微米至7微米。

遮光层厚度设在上述范围内，能够得到所需要的遮旋光性和滑动性。另外，含有消光剂的遮光层的厚度系从膜基材表面开始到从遮光层的消光剂中不突出的基质部的高度。上述遮光层的厚度基于JISP8118进行测定。

实施例

以下通过实施例详细说明本发明，但本发明不受这些实施例的限制。另外，实施例中，没有特别记载的情形下，“％”以及“份”表示重量％或者重量份。

(遮光层的构成成分)

(a)树脂

(a1)丙烯酸树脂：ACRYDIC A814、DIC股份有限公司制

(a2)聚氨酯树脂：HYDRAN AP-40、DIC股份有限公司制

(b)固化剂

TDI类型聚异氰酸酯：CORONATE L、东曹股份有限公司制

(c)染色·导电剂

(c1)炭黑：NX-592黑，大日精化工业股份有限公司制

(c2)炭黑：GPIblack#4613，御国色素股份有限公司制

(d)消光剂

(d1)丙烯酸填料：MX-500(平均粒径：5微米)综研化学股份有限公司制

(d2)丙烯酸填料：MX-1000(平均粒径：10微米)综研化学股份有限公司制

(d3)丙烯酸填料：MX-1500H(平均粒径：15微米)综研化学股份有限公司制

(d4)丙烯酸填料：MX-2000(平均粒径：20微米)综研化学股份有限公司制

(d5)丙烯酸填料：MX-300(平均粒径：3微米)综研化学股份有限公司制

(e)润滑剂

高结晶聚乙烯蜡：HIGHTECH E-3500东邦化学工业股份有限公司制

(实施例1至6，比较例1至4)

按照表1所示配比(重量)将上述树脂、固化剂、染色·导电剂以及消光剂加入到溶剂中，混合搅拌得到涂敷液。此处，作为溶媒使用甲基乙基酮和甲苯。

将厚度为50微米的聚乙烯膜(Lumirror X30、东丽股份有限公司制)作为基材膜，在其中的一个面上涂敷了涂敷液后，在100℃干燥2分钟，形成遮光层。另外，在实施例1至6以及比较例1至4中，树脂、固化剂、染色·导电剂的种类以及含有率都完全相同，只改变消光剂的种类，调制涂敷液。另外，实施例2以及比较例1、实施例3、4以及比较例2、实施例5、6、比较例3以及4中，使用同样的涂敷液，通过改变涂敷时的WET厚度以及干燥时的干燥机的风量，得到不同形状之遮光层。具体地，决定干燥机的风量的变换器的旋转数，在实施例2、3、5及比较例4中为1000Rpm，在比较例1至3中为600Rpm，使风量缓和，进行干燥，在实施例1、4、6中为1400Rpm，加强风量进行干燥。

测定所得到之遮光部件以及遮光层的膜厚、Ra值、Rp-Rv值、对于60°入射角的入射光的光泽度，结果示于表1。

表1

对于入射角度为60°入射光的光泽度的测定按照JIS Z8741，测定了对于入射角为60°的镜面光泽度。

(实施例7、8、9以及比较例5)

对厚度为50微米的黑色聚对苯二甲酸乙酯(Lumirror X30)的两面进行喷砂消光加工，形成表面凹凸。将在喷砂消光加工的状态下，在表面不涂敷涂膜的试验样品作为实施例7。

接着以表2所示的配合比(重量)，在溶剂中加入树脂、固化剂、染色·导电剂、消光剂、润滑剂，搅拌混合得到塗敷液。此处，作为溶剂，使用水和异丙醇的混合溶液。将得到的涂敷液，涂敷到两面经喷砂消光加工的上述黑色聚对苯二甲酸乙酯基材膜的各个面上后，在110℃干燥2分钟，形成遮光层(实施例8、实施例9以及比较例5)。另外，实施例8中是在上述(B)方法得到的遮光层中不含消光剂的构成，实施例9是在上述(C)方法得到的、在表面具有凹凸的基材上设置含有消光剂的遮光层的构成。另外，作为比较，除了缩短喷砂消光加工时的消光处理时间，改变聚对苯二甲酸乙酯的表面粗糙度之外，其他与实施例8同样，制作形成遮光层的试验样品(比较例5)。

所得到的遮光部件以及遮光层的Ra值、Rp-Rv、对于60°的入射角的入射光的光泽度的测定结果示于表2。另外，在实施例8、实施例9以及比较例5中，遮光层的平均膜厚的测定结果也示于表2。

表2

由表1可知，通过使用不同种类的消光剂，能够改变遮光层的膜厚、表面的Ra值以及Rp-Rv值。另外，比较实施例2以及比较例1、实施例3、4以及比较例2、实施例5、6、比较例3以及4，确认了使用同一涂敷液，即使消光剂种类相同，也可以通过改变遮光层的膜厚以及制造条件，控制表面的Ra值以及Rp-Rv。此处，比较使用了同样的涂敷液的实施例以及比较例，得知Rp-Rv值越低，则相对于60°的入射角度的入射光的光泽度越低，遮旋光性提高。

图3显示了遮光部件表面的Rp-Rv值与对于入射角度为60°的入射光的光泽度的关系的结果。由该结果可容易地得知遮光部件表面的Rp-Rv值越小，对于入射角度为60°的入射光的光泽度具有减少的倾向。另外，可知Rp-Rv值在3附近时，则对于入射角为60°的入射光的光泽度为3以下，具有非常优异的遮旋光性。Rp-Rv值超过3，则对于入射角为60°的入射光的光泽度就急剧上升，遮旋光性低下。因此，认为将遮光部件表面的Rp-Rv值设为小于3是非常重要的。此处如果Ra值在0.5微米以上，通过使Rp-Rv值小于3，则能够发挥优异的遮旋光性。

另外，在表中没有记载，表1所示的实施例以及比较例的试验样品的表面硬度都在H以上。对专利文献1之实施例的遮光部件的表面硬度的测定结果为B，由此可以确认出本实施也实现了遮光层的高硬度化。

如表2所示，将形成凹凸的膜基材直接作为遮光部件使用的实施例7中，Ra值为0.68微米、Rp-Rv值为0.9，对于入射角度为60°的入射光的光泽度为2.4％。在表面覆盖有不含有消光剂的遮光层的实施例8中，Ra值为0.76微米，Rp-Rv值为1.2，对于入射角度为60°的入射光的初期光泽度为2％。进而在形成有凹凸的膜基材的表面，覆盖含有消光剂的遮光层的实施例9中，Ra值为0.58微米，Rp-Rv值为1.1，对于入射角度为60°的入射光的初期光泽度为2.9％。与此相对，在Ra值为0.41和表面凹凸较少的比较例5中，Rp-Rv值为0.7，对于入射角度为60°的入射光的光泽度为6.9％。由此确认出为了获得优异的遮旋光性，必须是Ra值在指定值以上，且Rp-Rv值控制很低。具体地，与遮光部件的构成无关，通过控制Ra值在0.5微米以上，Rp-Rv值小于3，则光泽度为3％以下，能够得到优异的遮光特性。另外，表中没有示出，但无论在哪种构成中，即使Ra值在0.5微米以上，Rp-Rv值大到3以上，则不能得到良好的遮旋光性。

由以上结果可确认出将根据JIS B0601:2001测出的表面的轮廓算数平均偏差(the arithmetical mean deviation of the assessed profile)Ra设为0.5微米以上，且最大峰值Rp与最大谷深度(the maximum profile valley depth)Rv的差(Rp-Rv)小于3时的本发明的遮光部件的优异性。

工业上的实用性

本发明的遮光部件，可以应用于特别是照相机、投影仪以及摄像机、复印机、光学物性测量机(光泽计等)的光学设备的内壁面、柔性印刷电路板、快门、虹膜(光圈)、垫片等。另外，还可以用于手表、玩具等。

Claims

1.一种光学设备用遮光部件，其特征在于，

具有基材膜、以及在所述基材膜的至少一个面上形成的遮光层，

所述遮光层含有树脂成分和消光剂，

所述遮光层的表面，基于JIS B0601：2001测出的所述遮光层的表面轮廓算数平均偏差Ra为2μm以上，且最大峰高度Rp与最大谷深度Rv之差(Rp-Rv)小于3μm，

按照JIS K5600测出的表面硬度在H以上，

动摩擦因子为0.42以下，

对于遮光层的表面，将浸润甲基乙基酮的脱脂棉以每3cm² 250g的负荷，按照200mm/秒使其往复滑动20次，往复滑动试验前后所述遮光层的表面的光学浓度差在1.5以下。

2.如权利要求1所述的光学设备用遮光部件，其中，所述遮光层的平均膜厚为2μm至35μm。