CN109755285A - 显示面板及其制造方法和显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种显示面板，所述显示面板包括衬底基板和形成在所述衬底基板上的多个像素单元，沿所述显示面板的厚度方向上，每个所述像素单元都包括驱动滤光结构和形成在所述驱动滤光结构背离所述衬底基板一侧的底发射型的发光元件，所述驱动滤光结构用于驱动所述发光元件发光，并对所述发光元件发出的光进行滤色，所述驱动滤光结构包括绝缘层和色阻块，所述绝缘层上形成有沿所述绝缘层的厚度方向贯穿该绝缘层的容纳孔，所述色阻块设置在所述容纳孔中。本发明还提供一种显示面板的制造方法和一种显示装置。所述显示面板彩色显示效果好。

Description

显示面板及其制造方法和显示装置
技术领域
本发明涉及显示装置领域，具体地，涉及一种显示面板、该显示面板的制造方法和包括该显示面板的显示装置。
背景技术
为了提高包括底发射型的发光二极管的显示面板的彩色显示效果，通常会在所述显示面板的像素单元内设置彩色的色阻块。目前常见的一种做法是，在形成了用于驱动发光二极管发光的薄膜晶体管之后，在薄膜晶体管最外侧的钝化层上形成色阻块。
但是，经测试，上述具有彩色的色阻块的显示面板并不能如期提高彩色显示效果。
发明内容
本发明的目的在于提供一种显示面板、该显示面板的制造方法和一种包括该显示面板的显示装置，所述显示面板具有较高的彩色显示效果。
为了实现上述目的，作为本发明的第一个方面，提供一种显示面板，所述显示面板包括衬底基板和形成在所述衬底基板上的多个像素单元，沿所述显示面板的厚度方向上，每个所述像素单元都包括驱动滤光结构和形成在所述驱动滤光结构背离所述衬底基板一侧的底发射型的发光元件，所述驱动滤光结构用于驱动所述发光元件发光，并对所述发光元件发出的光进行滤色，所述驱动滤光结构包括绝缘层和色阻块，所述绝缘层上形成有沿所述绝缘层的厚度方向贯穿该绝缘层的容纳孔，所述色阻块设置在所述容纳孔中。
优选地，所述驱动滤光结构包括驱动部和滤光部，所述驱动部用于驱动所述发光元件发光，所述滤光部包括所述色阻块。
优选地，所述驱动部包括多个薄膜晶体管，所述绝缘层包括层间绝缘层，所述薄膜晶体管包括在远离所述衬底基板的方向依次设置的有源层、栅绝缘层、栅极、和源漏电极层，其中，所述栅极和所述源漏电极层分别设置在所述层间绝缘层的两侧，所述源漏电极层包括源极和漏极，所述源极通过贯穿所述层间绝缘层的过孔与所述有源层相连，所述漏极通过贯穿所述层间绝缘层的过孔与所述有源层相连，所述容纳孔沿所述层间绝缘层的厚度方向贯穿所述层间绝缘层。
优选地，所述驱动部还包括遮光层，所述遮光层位于所述有源层朝向所述衬底基板的一侧，且所述薄膜晶体管的有源层在所述遮光层上的正投影不超出所述遮光层的边缘。
优选地，所述薄膜晶体管包括覆盖所述源漏电极层的钝化层，所述钝化层延伸进入所述容纳孔中，所述色阻块设置在所述钝化层上。
优选地，所述驱动滤光结构还包括遮光凸缘，所述遮光凸缘形成在所述驱动滤光结构背离所述衬底基板的一侧，且所述遮光凸缘环绕所述容纳孔设置，并与所述容纳孔中的色阻块相连，且所述遮光凸缘的材料与和该遮光凸缘相连的色阻块的材料相同。
优选地，所述显示面板还包括位于所述驱动滤光结构与所述发光元件之间的平坦化层，所述平坦化层背离所述驱动滤光结构的一侧为平面。
优选地，所述发光元件包括底发射有机发光二极管，所述底发射有机发光二极管包括第一电极、发光功能层和第二电极，所述第一电极由透明导电材料制成，所述第一电极设置在所述驱动滤光结构背离所述衬底基板的表面上，
所述显示面板还包括像素界定层，所述像素界定层覆盖形成有所述第一电极的衬底基板，所述像素界定层上形成有多个像素开口，多个所述像素开口与多个色阻块一一对应，所述发光功能层的至少一部分设置在所述像素开口中，所述像素开口的面积小于相应的色阻块的横截面积，所述像素开口的边缘位于相应的色阻块的边缘内。
作为本发明的第二个方面，提供一种显示面板的制造方法，其中，所述制造方法包括：
提供衬底基板；
形成多个驱动滤光结构，每个所述驱动滤光结构包括绝缘层和色阻块，所述绝缘层上形成有沿该绝缘层的厚度方向贯穿该绝缘层的容纳孔，所述色阻块设置在所述容纳孔中；
形成多个底发射型的发光元件，多个所述驱动滤光结构与多个发光元件一一对应，且所述驱动滤光结构用于驱动相应的发光元件发光并对所述发光元件发出的光进行滤色，所述发光元件与相应的驱动滤光结构形成为像素单元。
优选地，所述绝缘层包括层间绝缘层，形成多个驱动滤光结构的步骤包括：
形成包括有源层的图形；
形成包括栅绝缘层的图形；
形成包括栅极的图形；
形成所述层间绝缘材料层；
对所述层间绝缘材料层进行构图，以获得具有所述容纳孔、源极过孔和漏极过孔的层间绝缘层；
形成源漏极层，所述源漏极层包括源极和漏极，所述源极通过所述源极过孔与所述有源层相连，所述漏极通过所述漏极过孔与所述有源层相连；
形成钝化层，所述钝化层覆盖所述源漏极层；
形成色阻块，所述色阻块位于所述容纳孔中。
优选地，所述钝化层延伸进入所述容纳孔；其中，所述色阻块形成在所述钝化层上。
优选地，形成色阻块的步骤包括：
形成色阻材料层；
对所述色阻材料层进行曝光显影，以获得位于所述容纳孔中的色阻块和位于所述容纳孔外、环绕所述容纳孔设置且与所述色阻块相连的遮光凸缘，所述遮光凸缘形成在所述驱动滤光结构背离所述衬底基板的一侧，在同一个驱动滤光结构中，所述色阻块和所述遮光凸缘形成为滤光部。
优选地，所述制造方法还包括在提供衬底基板的步骤和形成包括有源层的图形的步骤之间行的：
形成包括遮光层的图形，所述有源层在所述遮光层上的正投影不超过所述遮光层的边缘。
优选地，所述制造方法还包括在形成多个驱动滤光结构的步骤与形成发光元件的步骤之间进行的：
形成平坦化层，且所述平坦化层背离所述驱动滤光结构的表面为平面。
优选地，形成多个发光元件的步骤包括：
利用透明导电材料形成包括多个第一电极的图形；
形成像素界定层，所述像素界定层包括多个像素开口，多个所述像素开口与对个所述滤光部一一对应，所述像素开口的面积小于相应的滤光部的色阻块的横截面积，所述像素开口的边缘位于相应的滤光部的色阻块的边缘内；
形成发光功能层，所述发光功能层的至少一部分位于相应的所述像素开口中；
形成第二电极。
作为本发明的第三个方面，提供一种显示装置，所述显示装置包括本发明所提供的上述显示面板。
附图说明
附图是用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本发明，但并不构成对本发明的限制。在附图中：
图1中所示的是现有的显示面板的三个像素单元中，不同颜色的发光元件的发光示意图；
图2中所示的是本发明所提供的显示面板中，一个像素单元的一部分的示意图；
图3是本发明所提供的显示面板的三个像素单元中，不同颜色的发光元件的发光示意图；
图4是本发明所提供的显示面板的制作方法的流程图；
图5是形成了包括栅极的图形后的衬底基板的示意图；
图6是形成了层间绝缘材料层后的衬底基板的示意图；
图7是在层间绝缘材料层上形成初始容纳孔和初始静电释放过孔后的示意图；
图8是在层间绝缘材料层上形成了源极过孔、漏极过孔、容纳孔、静电释放过孔后的示意图；
图9是形成了包括源漏电极层后的衬底基板的示意图。
附图标记说明
100：衬底基板 200：遮光层
300：缓冲层 400：薄膜晶体管
410：第一钝化层 420：有源层
430：栅绝缘层 440：栅极
450：层间绝缘层 450a：初始层间绝缘层
450b：中间层间绝缘层 461：源极
462：漏极 461a：源极过孔
462a：漏极过孔 520：遮光凸缘
600：第一电极 700：平坦化层
510R：红色的色阻块
510G：绿色的色阻块；
510B：蓝色的色阻块
600R：用于发红光的发光元件
600G：用于发绿光的发光元件
600B：用于发蓝光的发光元件
具体实施方式
以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明，并不用于限制本发明。
经本发明的发明人反复研究发现，现有的包括色阻块的底发光型发光二极管显示面板的彩色显示效果不好的一个原因如下：
而在现有技术中，是在形成了用于驱动发光二极管发光的薄膜晶体管之后，薄膜晶体管最外侧的钝化层上形成色阻块，这就导致色阻块背离钝化层的表面与薄膜晶体管处钝化层的表面之间具有较高的高度差(即，色阻块凸出于薄膜晶体管)。为了获得平坦表面、以更好地形成发光元件的阳极，需要涂敷较厚的平坦化层。
下面以图1中示出的现有技术中的显示面板中的三个像素单元为例进行解释。在图1中示出的三个像素单元分别为红色像素单元、绿色像素单元和蓝色像素单元。其中，红色像素单元包括用于发红光的发光元件600R、用于驱动发光元件600R发光的驱动电路和红色的色阻块510R，绿色像素单元包括用于发绿光的发光元件600G、用于驱动发光元件600G发光的驱动电路和绿色的色阻块510G，蓝色像素单元包括用于发蓝光的发光元件600B、用于驱动发光元件600B发光的驱动电路和蓝色的色阻块510B。
各个像素单元的驱动电路都包括薄膜晶体管400，需要指出的是，薄膜晶体管400仅设置在像素单元的部分区域内，在像素单元的其他区域中则形成有制备薄膜晶体管400时沉积的透明膜层(例如，层间绝缘层、钝化层等)，而色阻块(包括红色的色阻块510R、绿色的色阻块510G、蓝色的色阻块510B)则是设置在上述透明膜层上。可以明显地看出，色阻块的顶面(即，色阻块朝向发光元件的表面)与薄膜晶体管400的顶面(即，薄膜晶体管400朝向发光元件的表面)之间存在相当大的高度差。相应地，为了设置发光元件的阳极，需要设置相当厚的平坦化层700。
平坦化层700是透明的，在平坦化层700上形成发光元件后，发光元件发出的光将在平坦化层700内传播。如图1所示，发光元件600R发出的红光可能会传播至绿色像素单元中，绿色像素单元中的发光元件600G发出的绿光可能会传播至红色像素单元以及蓝色像素单元中，同样地，蓝色像素单元中的发光元件600B发出的蓝光也可能会传播至绿色像素单元中。这就产生了不必要的混色，进而无法实现理想的彩色显示。
有鉴于此，作为本发明的第一个方面，提供一种显示面板，如图2所示，所述显示面板包括衬底基板100和形成在衬底基板100上的多个像素单元，其中，沿所述显示面板的厚度方向上，每个所述像素单元都包括驱动滤光结构和形成在所述驱动滤光结构背离所述衬底基板一侧的底发射型的发光元件。
如图2所示，所述驱动滤光结构用于驱动所述发光元件发光，并对发光元件发出的光进行滤色。进一步地，所述驱动滤光结构包括绝缘层和色阻块(图2中示出的是红色的色阻块500R)。所述绝缘层上形成有沿该绝缘层的厚度方向贯穿该绝缘层的容纳孔，所述色阻块设置在所述容纳孔中。容易理解的是，所述色阻块起到对发光元件发出的光进行滤色的作用。
需要指出的是，对于显示面板这种微电子设备而言，驱动滤光结构的电路结构包括间隔设置的导电层，导电层与导电层之间通过绝缘材料间隔。本发明中所述的“绝缘层”的作用即为将驱动部中将导电层间隔开。
通过在绝缘层上设置容纳孔、并将所述色阻块设置在该容纳孔中，可以使得色阻块在衬底基板100上与驱动部并排设置，而非设置在驱动部上方，因此，色阻块的朝向发光元件表面与驱动部朝向发光元件的表面之间的高度差较小。在驱动滤光结构朝向发光元件的一侧形成发光元件时，只需要设置厚度较小的平坦化层700，甚至不需要设置平坦化层，即可获得可以设置发光元件的第一电极600的平面。换言之，在本发明所提供的显示面板中，发光元件与驱动滤光结构之间的距离较小，甚至没有距离。
平坦化层700厚度较小、甚至没有平坦化层，可以减少像素单元的发光元件漏光，并减少不同像素单元之间的混色。下面以图3中所示的结构为例，对厚度较小的平坦化层如何减少像素单元的发光元件漏光、并减少不同像素单元之间的混色进行说明。
如图3所示，所述发光元件为底发射型的发光元件，因此，发光元件朝向图3中的下方发光(即，朝向驱动滤光结构发光)。图3中示出的是并排设置的红色发光单元、绿色发光单元和蓝色发光单元。红色发光单元包括用于发红光的发光元件600R、用于发绿光的发光元件600G和用于发蓝光的发光元件600B。并排设置的驱动部以及滤光部与发光元件之间形成有平坦化层700，该平坦化层700由透明有机材料制成，发光元件发出的光将通过平坦化层700传播，因此，平坦化层700可以看作是漏光间隙。
红色发光二极管600R发出的光经过平坦化层700并照射在红色的色阻块510R后可以从衬底基板(未示出)出射。同时，红色发光二极管600R发出的光经过平坦化层700后照射在红色的色阻块510R两侧的薄膜晶体管上的部分被驱动滤光结构的电路结构(例如，薄膜晶体管)阻挡，不会射入相邻的像素单元中。
同样地，绿色发光二极管600G发出的光照射在绿色的色阻块510G上的部分直接出射，照射在绿色的色阻块510G两侧的薄膜晶体管上的部分也被驱动滤光结构的电路结构阻挡，也不会射入相邻的像素单元。蓝色发光二极管600B发出的光照射在蓝色的色阻块510B上的部分直接出射，照射在蓝色的色阻块510B两侧的薄膜晶体管上的部分也被驱动滤光结构的电路结构阻挡，也不会射入相邻的像素单元。
由于驱动滤光结构和发光元件之间的透明的平坦化层700厚度较小(甚至没有)，因此，各个发光元件的漏光间隙较小，只存在极少量的光沿着漏光间隙照射进入相邻的像素单元中，并不会对像素单元的发光颜色造成影响，从而可以避免不同像素单元之间的混色。
在本发明所提供的显示面板中，同时具备“驱动滤光结构中电路结构的遮挡”、以及“较薄的平坦化层、甚至未设置平坦化层”这两个特征，可以避免不同像素单元之间的混色，使得显示面板获得更好的显示效果。
除了避免不同颜色的像素单元之间产生混色外，本发明所提供的显示面板还具有较低的能耗。
具体地，当设置厚度较小的平坦化层时，由于平坦化层厚度较小，因此透明度较高。所述发光元件为底发射型的发光元件，该发光元件发出的光到达滤光部时，因平坦化层造成的光损失较少，从而可以提高所述像素单元的出光率，并提高显示面板的亮度、降低能耗。当未设置平坦化层时，发光元件发出的光直接照射在色阻块上，也没有亮度损失。
除此之外，设置厚度较小的平坦化层、甚至不设置平坦化层还可以降低显示面板的总体厚度，实现显示面板的轻薄化。
在本发明中，所述发光元件可以是有机发光二极管，也可以是量子点发光二极管。相应地，所述发光元件包括第一电极600、发光功能层和第二电极。当所述显示面板中的发光二元件为底发射型的发光二极管时，第一电极600可以为发光元件的阳极，第二电极可以为发光元件的阴极，并且可以利用透明电极材料制成第一电极600。
色阻块的作用是对发光元件发出的光进行滤色，驱动滤光结构中除了色阻块之外的部分都可以设置驱动发光元件发光的电路结构。为了便于制造所述显示面板，优选地，可以将所述驱动滤光结构划分为驱动部和滤光部，所述驱动部用于驱动所述发光元件发光，所述滤光部包括所述色阻块。
如上文中所述，驱动部的作用是驱动发光元件发光，为了驱动所述发光元件发光，所述驱动部包括薄膜晶体管400。当薄膜晶体管400为顶栅型的薄膜晶体管时，所述绝缘层可以包括层间绝缘层450。
具体地，顶栅型的薄膜晶体管400包括沿远离衬底100的方向依次设置的有源层420、栅绝缘层430、栅极440和源漏电极层。其中，栅极440和所述源漏电极层分别设置在层间绝缘层450的两侧。所述源漏电极层包括源极461和漏极462，源极461通过贯穿层间绝缘层450的源极过孔与有源层420相连，漏极462通过贯穿层间绝缘层450的漏极过孔与有源层420相连。所述容纳孔沿层间绝缘层450的厚度方向贯穿该层间绝缘层450。
可以利用铟镓锌氧化物(IGZO)材料制成有源层420，可以利用硅的氧化物制成栅绝缘层，可以利用金属铜制成栅极、源极和漏极。
在图2中所示的实施方式中，栅绝缘层430的形状与栅极一致，从而可以减小显示面板的厚度。
每个像素单元中的薄膜晶体管400形成用于驱动发光元件发光的驱动部。在本发明中，对驱动部的薄膜晶体管400的数量并不做限定，虽然图2中仅示出了一个薄膜晶体管400，但是这并不代表一个驱动部中只包括一个薄膜晶体管。
虽然本发明中只给出了薄膜晶体管为顶栅型薄膜晶体管的具体实施方式，但是，本领域技术人员应当理解的是，所述薄膜晶体管也可以是底栅型的薄膜晶体管。
为了避免环境光对薄膜晶体管400的有源层420造成影响，优选地，驱动部还可以包括遮光层200。顾名思义，该遮光层200由不透光的材料制成，且遮光层位于有源层420朝向衬底基板100的一侧，且薄膜晶体管400的有源层420在遮光层200上的正投影不超过该遮光200的边缘。遮光层200可以阻挡环境光，有利于延长有源层420的使用寿命。
在本发明中，对遮光层200的具体材料不做特殊的限定。例如，可以利用金属材料制成遮光层200，在这种实施方式中，所述显示面板还可以包括缓冲层300。如图2中所示，遮光层200直接形成在衬底基板100朝向有源层400的表面上，缓冲层300位于遮光层200和有源层400之间。可以利用绝缘透明无机材料(例如，硅的氧化物或者硅的氮化物)制成缓冲层300。
当利用金属材料制成遮光层200时，为了防止遮光层200上产生静电、造成薄膜晶体管400形成“伪双栅”结构，优选地，可以将遮光层200与静电释放走线463电连接。在图2中所示的具体实施方式中，静电释放走线463与所述源漏电极层同层设置，并且，静电释放走线463通过贯穿缓冲层300和层间绝缘层450的过孔与遮光层200电连接。“伪双栅”可能会导致薄膜晶体管400无法按照设定的栅极驱动电压开启，进一步造成显示错误。当然，“伪双栅”还具有其他缺点，这里不再一一赘述。
作为一种具体实施方式，可以利用金属钼或者钼铌合金制成遮光层200，遮光层200的厚度可以在0.1μm至0.15μm之间。可以利用硅的氧化物制成缓冲层300，该缓冲层300的厚度可以在0.3μm至0.5μm之间。在这种实施方式中，所述容纳孔也贯穿缓冲层300，以减小色阻块和驱动部之间的高度差。
顶栅型的薄膜晶体管400还可以包括覆盖所述源漏电极层的钝化层410，通过设置钝化层410可以保护源极461和漏极462。钝化层410延伸进入所述滤光部，色阻块设置在钝化层410上。
钝化层410的作用是对源极和漏极以及与源漏电极同层设置的数据线的表面进行保护和钝化，因此，所述钝化层只需要较小的厚度较即可。由于钝化层的厚度较小，即便不去除位于滤光部的部分也不会对滤光部的整体厚度造成太大影响。换言之，在形成了钝化层后，无需对钝化层进行复杂的图形化处理，从而简化了制造所述显示面板的制造方法。
在制作所述显示面板时，先形成具有所述容纳孔的层间绝缘层450，后形成钝化层410，不仅容纳孔的底部形成有钝化层的材料，在容纳孔的侧壁上也可能形成有钝化层材料。
为了进一步确保发光元件的第一电极600可以形成在平面上，优选地，所述显示面板还包括平坦化层700，该平坦化层700位于驱动滤光结构和所述发光元件之间，且平坦化层700背离驱动滤光结构的表面为平面。
在本发明中，由于滤光部与驱动部并排设置，二者顶面高度差较小，因此，只需要形成厚度较小的平坦化层700即可获得较为平整的表面。由于平坦化层700的厚度较小，因此，所述该平坦化层700具有较高的光透过率，从而可以提高显示面板的亮度，并因此降低显示面板的能耗。
虽然上文中仅描述了薄膜晶体管400为顶栅型薄膜晶体管的情况，但是，本发明并不限于此，所述薄膜晶体管400也可以为底栅型的薄膜晶体管，在这种实施方式中，所述绝缘层可以为栅绝缘层。
如上文中所述，所述发光元件可以为底发射型的有机发光二极管，所述底发射型的有机发光二极管包括第一电极600、发光功能层和第二电极，第一电极600由透明导电材料制成，该第一电极600设置在所述驱动滤光结构背离衬底基板100的表面上。
所述驱动滤光结构背离衬底基板100的表面可以是平坦化层700的表面。在图2中所示的实施方式中，无需在驱动部的表面设置平坦化层，而是只在滤光部的表面设置平坦化层700，即可使得驱动滤光结构背离衬底基板100的表面形成为较为平整的表面，从而可以降低显示面板的总体厚度。
为了进一步避免不同像素单元之间的混色，优选地，驱动滤光结构还可以包括遮光凸缘520，该遮光凸缘520形成在所述钝化层背离衬底基板100的表面上，且遮光凸缘环520绕所述容纳孔设置，并与所述容纳孔中的色阻块相连。遮光凸缘520的材料与和该遮光凸缘520相连的色阻块的材料相同。如上文中所述，驱动滤光结构被划分为驱动部和滤光部，遮光凸缘520属于所述滤光部的一部分。
色阻块允许与该色阻块颜色相同的光透过，并且吸收与该色阻块颜色不同的光。同样地，遮光凸缘520可以允许与该遮光凸缘颜色相同的光透过，并吸收与该遮光凸缘520颜色不同的光。当与设置该色阻块的像素单元相邻的像素单元中的发光元件发出的光在平坦化层中传播至遮光凸缘520时，可以被遮光凸缘520吸收，从而进一步避免混色的出现。
所述显示面板还包括像素界定层，所述像素界定层覆盖形成有所述第一电极的衬底基板，所述像素界定层上形成有多个像素开口，多个所述像素开口与多个色阻块一一对应，所述发光功能层的至少一部分设置在所述像素开口中，所述像素开口的面积小于相应的色阻块的横截面积，所述像素开口的边缘位于相应的色阻块的边缘内。将像素开口设置为该像素开口的面积小于相应的色阻块的横截面积，可以进一步防止漏光和混色的出现。
作为一种实施方式，所述像素开口的边缘与相应的色阻块的横截面的边缘之间的间隔可以在2μm至3μm之间。
在本发明中，所述驱动滤光结构还包括栅线和数据线，可以利用栅线和数据线互相交错来划分所述像素单元。
作为本发明的第二个方面，提供一种显示面板的制造方法，其中，如图4所示，所述制造方法包括：
在步骤S310中，提供衬底基板，所述衬底基板被划分为多个像素单元；
在步骤S320中，形成多个驱动滤光结构，每个所述驱动滤光结构包括绝缘层和色阻块，所述绝缘层上形成有沿该绝缘层的厚度方向贯穿该绝缘层的容纳孔，所述色阻块设置在所述容纳孔中；
在步骤S330中，形成多个底发射型的发光元件，多个所述驱动滤光结构与多个发光元件一一对应，且所述驱动滤光结构用于驱动相应的发光元件发光并对所述发光元件发出的光进行滤色，所述发光元件与相应的驱动滤光结构形成为像素单元。。
本发明所提供的制造方法用于制造本发明所提供的上述包括多个像素单元的显示面板。如上文中所述，在所述驱动滤光结构中，所述驱动滤光结构背离衬底基板的表面上的高度差较小，因此，仅需要设置厚度较小的平坦化层、甚至无需设置平坦化层，即可获得平整度较好的表面。
所述发光元件为底发射型的发光元件，在显示时，不同像素单元之间的混色、漏光现象较小。并且，发光元件发出的光到达色阻块时损失较小，从而可提高显示面板的亮度，并降低显示面板的能耗。此外，设置厚度较小的平坦化层设置不设置平坦化层可以降低显示面板的厚度，实现显示面板的轻薄化。
本发明所提供的制造方法可以制造本发明所提供的上述显示面板，如上文中所述，所述驱动滤光结构包括多个顶栅型的薄膜晶体管，所述绝缘层包括层间绝缘层，相应地，步骤S320中包括：
形成包括有源层的图形；
形成包括栅绝缘层的图形；
形成包括栅极的图形；
形成所述层间绝缘材料层；
对所述层间绝缘材料层进行构图，以获得具有所述容纳孔、源极过孔和漏极过孔的层间绝缘层；
形成源漏极层，所述源漏极层包括源极和漏极，所述源极通过所述源极过孔与所述有源层相连，所述漏极通过所述漏极过孔与所述有源层相连；
形成钝化层，所述钝化层覆盖所述源漏极层；
形成色阻块，所述色阻块位于所述容纳孔中。
相应地，在形成钝化层的步骤中，钝化层一部分落入所述容纳孔中。为了简化制造工艺，可以不对钝化层进行构图，以使得后续形成的色阻块形成在所述钝化层上。
在本发明中，对如何形成色阻块不做特殊的限定。通常，色阻块由感光树脂制成，相应地，形成色阻块的步骤可以包括：
形成色阻材料层；
对所述色阻材料层进行曝光显影，以获得位于所述容纳孔中的色阻块和位于所述容纳孔外、环绕所述容纳孔设置且与所述色阻块相连的遮光凸缘，所述遮光凸缘形成在所述驱动滤光结构背离所述衬底基板的一侧，在同一个驱动滤光结构中，所述色阻块和所述遮光凸缘形成为滤光部。
在本发明中，对所述层间绝缘层的具体材料不做特殊的限定，例如，可以利用硅的氧化物和/或硅的氮化物形成层间绝缘层。
为了使得第一电极形成在平整表面上，优选地，所述制造方法还包括在形成钝化层的步骤与形成发光元件的步骤之间进行的：
形成平坦化层，且所述平坦化层背离所述钝化层的表面为平面。
该平坦化层的厚度较小，光透过率高。
优选地，所述制造方法还包括在提供衬底基板的步骤和形成包括有源层的图形的步骤之间行的：
形成包括遮光层的图形，所述有源层在所述遮光层上的正投影不超过所述遮光层的边缘。
如上文中所述，所述遮光层可以避免环境光照射薄膜晶体管的有源层，以对所述薄膜晶体管的有源层进行保护。
可以利用金属钼或者钼铌合金制成所述遮光层，相应地，所述制造方法还可以包括在形成包括遮光层的图形的步骤和形成包括有源层的图形的步骤之间进行的：
形成缓冲材料层。
在本发明中，可以利用硅的氧化物制成缓冲材料层。
作为一种实施方式，形成多个发光元件的步骤包括：
利用透明导电材料形成包括多个第一电极的图形；
形成像素界定层，所述像素界定层包括多个像素开口，多个所述第一电极与多个像素开口一一对应，所述像素开口的面积小于相应的像素单元的面积，所述像素开口的边缘位于相应的像素单元的边缘内；
形成发光功能层，所述发光功能层的至少一部分位于相应的所述像素开口中；
形成第二电极。
所述像素开口的边缘位于相应的像素单元的边缘内。将像素开口设置为该像素开口的面积小于像素单元的面积，可以进一步防止漏光和混色的出现。
作为一种实施方式，所述像素开口的边缘与相应的像素单元的边缘之间的间隔可以在2μm至3μm之间。
在本发明中，所述驱动滤光结构还包括栅线和数据线，可以利用栅线和数据线互相交错来划分所述像素单元。
下面参照图5至图9介绍形成具有图2中所示的结构的显示面板的制造方法：
衬底基板(衬底基板可以为玻璃基板)上沉积一层遮挡金属材料层，所述遮挡金属材料层可为钼或钼铌合金等金属，厚度为0.10～0.15um；
形成光刻胶材料层；
对光刻胶材料层进行曝光显影，获得遮光层光阻图案；
利用混酸对形成有遮光层光阻图案的遮挡金属材料层进行湿刻获得包括所述遮挡层的图形；
沉积一层缓冲层，典型地，缓冲层的材料可为氧化硅，厚度0.3μm～0.5μm；
随后铟镓锌氧化物(IGZO)层，厚度为0.05μm～0.1μm；
对铟镓锌氧化物层进行构图，以获得包括有源层的图形；
沉积一层栅绝缘材料层，该栅绝缘材料层的材料为氧化硅，厚度0.1μm～0.2μm；
沉积一层栅极金属层，栅极金属层的材料可为铜等金属，厚度为0.4μm～0.5μm；
随后形成栅极掩膜图形；
并通过湿刻形成栅极以及栅极走线图形，示例性地，可以利用H2O2对铜金属层进行湿刻；
湿刻获得包括栅极和栅极走线的图形后，保留栅极掩膜进行栅绝缘层的干刻，示例性地，可采用高四氟化碳(CF4)和低氧气(O2)干刻混合气体进行干刻工艺，四氟化碳的流量可为2000～2500sccm，氧气的流量1000～1500sccm；
利用氨气或氦气对有源层上未被栅绝缘层覆盖的部分进行导体化；
剥离栅极掩膜图形，获得图4中所示的结构，通过图4可以看遮光层200、缓冲层300、有源层420、栅绝缘层430和栅极440；
如图6所示，沉积一层层间绝缘材料层450a，该层间绝缘材料层的材料可为氧化硅，厚度为0.4μm～0.6μm；
因厚度较大，可以分两次进行刻蚀层间绝缘材料层和缓冲层，首先在绝缘材料层上形成初始静电释放过孔和初始容纳孔的掩膜图形，随后湿法刻蚀大部分层间绝缘材料层的材料，典型地，可采用氢氟酸(HF)进行刻蚀，湿法刻蚀后剥离掩膜图形，即形成图7中的形状，形成了贯穿层间绝缘层的初始静电释放过孔B和初始容纳孔A；
形成与源极过孔和漏极过孔对应的掩膜图形，对中间层间绝缘材料层450b进行进一步的刻蚀，以获得图8中所示的源极过孔461a和漏极过孔461b，并且，初始静电释放过孔B被进一步刻蚀形成为贯穿缓冲层的静电释放过孔B’，初始容纳孔A被进一步刻蚀形成为贯穿缓冲层的容纳孔A’，典型的，可采用四氟化碳和氧气(CF4+O2)进行刻蚀，四氟化碳的气体流量为1000～1500sccm，氧气的气体流量可为1200～800sccm，刻蚀完成后进行湿法剥离，考虑到开口率以及设置遮挡凸缘，容纳孔A’边缘离金属线边缘为2μm～4μm，容纳孔A’的孔深约为2μm；
沉积一层源漏极金属，金属可为铜和铝等金属，厚度为0.5μm～0.7μm，湿刻形成包括源漏电极层的图形，具体包括源极461、漏极462、数据线和静电释放走线463，需注意的是，容纳孔A’处无源漏极金属沉积；
沉积一层钝化层，该钝化层的材料可为氧化硅，厚度为0.3μm～0.5μm；
进行彩色滤光片工序，在容纳孔内形成色阻块并在容纳孔外部形成遮光凸缘，为匹配孔深并考虑到光阻色规，色阻块的厚度可为1.5μm～2.2μm；
形成平坦化层；
形成贯穿平坦化层和钝化层的第一电极过孔；
沉积一层氧化铟锡(ITO)，厚度可为700埃～1200埃；
形成第一电极光阻图形后，对氧化铟锡进行湿法刻蚀，以获得包括第一电极的图形，典型的，刻蚀氧化铟锡可使用草酸或者混酸进行刻蚀，刻蚀完氧化铟锡后进行湿法剥离后进行氧化铟锡退火；
在退火工艺结束后形成像素界定层；对应于容纳孔内色阻块上方形成像素开口，为防止漏光以及混色，像素开口的边界需位于比容纳孔的边界内，且二者间隔2μm～3μm；
蒸镀形成发光功能层；
形成第二电极。
通过以上步骤可以获得具有图2中所示结构的显示面板。
作为本发明的第三个方面，提供一种显示装置，该显示装置包括本发明所提供的上述显示面板。
在本发明中，对所述显示装置的具体应用场合没有特殊的限制，例如，所述显示装置可以是电视、手机、平板电脑、导航仪、电脑显示器等电子设备中的任意一者。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (16)

1.一种显示面板，所述显示面板包括衬底基板和形成在所述衬底基板上的多个像素单元，其特征在于，沿所述显示面板的厚度方向上，每个所述像素单元都包括驱动滤光结构和形成在所述驱动滤光结构背离所述衬底基板一侧的底发射型的发光元件，所述驱动滤光结构用于驱动所述发光元件发光，并对所述发光元件发出的光进行滤色，所述驱动滤光结构包括绝缘层和色阻块，所述绝缘层上形成有沿所述绝缘层的厚度方向贯穿该绝缘层的容纳孔，所述色阻块设置在所述容纳孔中。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述驱动滤光结构包括驱动部和滤光部，所述驱动部用于驱动所述发光元件发光，所述滤光部包括所述色阻块。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述驱动部包括薄膜晶体管，所述绝缘层包括层间绝缘层，所述薄膜晶体管包括在远离所述衬底基板的方向依次设置的有源层、栅绝缘层、栅极和源漏电极层，其中，所述栅极和所述源漏电极层分别设置在所述层间绝缘层的两侧，所述源漏电极层包括源极和漏极，所述源极通过贯穿所述层间绝缘层的过孔与所述有源层相连，所述漏极通过贯穿所述层间绝缘层的过孔与所述有源层相连，所述容纳孔沿所述层间绝缘层的厚度方向贯穿所述层间绝缘层。
4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述驱动部还包括遮光层，所述遮光层位于所述有源层朝向所述衬底基板的一侧，且所述薄膜晶体管的有源层在所述遮光层上的正投影不超出所述遮光层的边缘。
5.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述薄膜晶体管包括覆盖所述源漏电极层的钝化层，所述钝化层延伸进入所述容纳孔中，所述色阻块设置在所述钝化层上。
6.根据权利要求1至5中任意一项所述的显示面板，其特征在于，所述驱动滤光结构还包括遮光凸缘，所述遮光凸缘形成在所述驱动滤光结构背离所述衬底基板的一侧，且所述遮光凸缘环绕所述容纳孔设置，并与所述容纳孔中的色阻块相连，且所述遮光凸缘的材料与和该遮光凸缘相连的色阻块的材料相同。
7.根据权利要求1至5中任意一项所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括位于所述驱动滤光结构与所述发光元件之间的平坦化层，所述平坦化层背离所述驱动滤光结构的一侧为平面。
8.根据权利要求1至5中任意一项所述的显示面板，其特征在于，所述发光元件包括底发射有机发光二极管，所述底发射有机发光二极管包括第一电极、发光功能层和第二电极，所述第一电极由透明导电材料制成，所述第一电极设置在所述驱动滤光结构背离所述衬底基板的表面上，
所述显示面板还包括像素界定层，所述像素界定层覆盖形成有所述第一电极的衬底基板，所述像素界定层上形成有多个像素开口，多个所述像素开口与多个色阻块一一对应，所述发光功能层的至少一部分设置在所述像素开口中，所述像素开口的面积小于相应的色阻块的横截面积，所述像素开口的边缘位于相应的色阻块的边缘内。
9.一种显示面板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：
提供衬底基板；
形成多个驱动滤光结构，每个所述驱动滤光结构包括绝缘层和色阻块，所述绝缘层上形成有沿该绝缘层的厚度方向贯穿该绝缘层的容纳孔，所述色阻块设置在所述容纳孔中；
形成多个底发射型的发光元件，多个所述驱动滤光结构与多个发光元件一一对应，且所述驱动滤光结构用于驱动相应的发光元件发光并对所述发光元件发出的光进行滤色，所述发光元件与相应的驱动滤光结构形成为像素单元。
10.根据权利要求9所述的制造方法，其特征在于，所述绝缘层包括层间绝缘层，形成多个驱动滤光结构的步骤包括：
形成包括有源层的图形；
形成包括栅绝缘层的图形；
形成包括栅极的图形；
形成所述层间绝缘材料层；
对所述层间绝缘材料层进行构图，以获得具有所述容纳孔、源极过孔和漏极过孔的层间绝缘层；
形成源漏极层，所述源漏极层包括源极和漏极，所述源极通过所述源极过孔与所述有源层相连，所述漏极通过所述漏极过孔与所述有源层相连；
形成钝化层，所述钝化层覆盖所述源漏极层；
形成色阻块，所述色阻块位于所述容纳孔中。
11.根据权利要求10所述的制造方法，其特征在于，所述钝化层延伸进入所述容纳孔；其中，所述色阻块形成在所述钝化层上。
12.根据权利要求9所述的制造方法，其特征在于，形成色阻块的步骤包括：
形成色阻材料层；
对所述色阻材料层进行曝光显影，以获得位于所述容纳孔中的色阻块和位于所述容纳孔外、环绕所述容纳孔设置且与所述色阻块相连的遮光凸缘，所述遮光凸缘形成在所述驱动滤光结构背离所述衬底基板的一侧，在同一个驱动滤光结构中，所述色阻块和所述遮光凸缘形成为滤光部。
13.根据权利要求10所述的制造方法，其特征在于，所述制造方法还包括在提供衬底基板的步骤和形成包括有源层的图形的步骤之间行的：
形成包括遮光层的图形，所述有源层在所述遮光层上的正投影不超过所述遮光层的边缘。
14.根据权利要求9至13中任意一项所述的制造方法，其特征在于，所述制造方法还包括在形成多个驱动滤光结构的步骤与形成发光元件的步骤之间进行的：
形成平坦化层，且所述平坦化层背离所述驱动滤光结构的表面为平面。
15.根据权利要求9至13中任意一项所述的制造方法，其特征在于，形成多个发光元件的步骤包括：
利用透明导电材料形成包括多个第一电极的图形；
形成像素界定层，所述像素界定层包括多个像素开口，多个所述像素开口与对个所述滤光部一一对应，所述像素开口的面积小于相应的滤光部的色阻块的横截面积，所述像素开口的边缘位于相应的滤光部的色阻块的边缘内；
形成发光功能层，所述发光功能层的至少一部分位于相应的所述像素开口中；
形成第二电极。
16.一种显示装置，所述显示装置包括显示面板，其特征在于，所述显示面板为权利要求1至8中任意一项所述的显示面板。
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