CN109728056A - 像素界定层材料、像素界定层制造方法、显示基板和装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种像素界定层材料、显示基板的制造方法、显示基板、显示装置，属于显示技术领域，其可至少部分解决现有的显示基板中有机像素内膜高度不均匀的问题。本发明的像素界定层材料，包括像素界定层本体材料，所述像素界定层材料还包括分散在所述像素界定层本体材料内的由微外壳包裹的疏液型单体，所述微外壳能够在所述像素界定层材料受到第一激励的情况下而上浮且能在所述像素界定层材料受到第二激励的情况下而破裂。

Description

像素界定层材料、像素界定层制造方法、显示基板和装置

技术领域

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种像素界定层材料、一种显示基板的制造方法、一种显示基板和一种显示装置。

背景技术

在有机发光二极管显示基板中，每个有机发光二极管中具有叠置的多个有机像素内膜，这些有机像素内膜的边界由像素界定层来限定。通常的工艺方法是材料喷墨打印的方法将形成有机像素内膜的墨水喷涂到像素界定层限定的区域内。由于现有的形成像素界定层的本体材料多为亲液型的，在上述墨水的干燥过程中，容易出现墨水沿像素界定层的表面向上攀爬的现象，这会导致该墨水干燥后形成的有机像素内膜高度不均匀，影响显示的效果。

发明内容

本发明至少部分解决现有的有机发光二极管显示基板中有机像素内膜高度不均匀的问题，提供一种像素界定层材料、一种显示基板的制造方法、一种显示基板和一种显示装置。

根据本发明第一方面，提供一种像素界定层材料，包括像素界定层本体材料，所述像素界定层材料还包括分散在所述像素界定层本体材料内的由微外壳包裹的疏液型单体，所述微外壳能够在所述像素界定层材料受到第一激励的情况下而上浮且能在所述像素界定层材料受到第二激励的情况下而破裂。

可选地，所述微外壳能够在特定波长的光照射下破裂，所述第二激励包括对所述像素界定层材料施加所述特定波长的光照。

可选地，所述微外壳材料为掺有TiO₂的聚合物，所述聚合物包括聚胺、聚酰胺、聚酰亚胺、酚醛树脂、聚氨酯、聚硅烷中的任意一种。

可选地，所述微外壳被内装有多孔结构，所述多孔结构内还装有磁性物质，所述第一激励包括向所述像素界定层材料施加磁场。

可选地，所述微外壳及其包裹的疏液型单体整体的密度低于所述像素界定层本体材料的密度，所述第一激励包括对所述像素界定层材料加热而提高所述像素界定层本体材料的流动性。

可选地，所述疏液型单体包括氟化环烯烃、氟化内酯亚胺、氟化双环戊二烯、氟化烷基硅氧烷中的任意一项。

根据本发明第二方面，提供一种显示基板的制造方法，包括：

在基底上涂覆根据本发明第一方面的像素界定层材料；

对所述像素界定层材料进行构图工艺以得到像素界定层的半成品，所述像素界定层的半成品顶面与侧面的夹角大于90°且小于180°；

施加所述第一激励于所述像素界定层的半成品，以使所述微外壳上浮到所述像素界定层的半成品的表面；

施加第二激励于所述像素界定层的半成品，以使所述微外壳破裂；

对所述像素界定层本体材料进行固化得到像素界定层。

可选地，当采用的所述像素界定层材料中所述微外壳能够在特定波长的光照射下破裂时，所述施加第二激励于所述像素界定层的半成品包括：向所述像素界定层的半成品照射所述特定波长的光。

可选地，当采用的像素界定层材料中所述微外壳内装有多孔结构且所述多孔结构内还装有磁性物质时，所述施加第一激励于所述像素界定层的半成品包括：对所述像素界定层的半成品施加磁场以将所述微外壳吸附到所述像素界定层的半成品的表面。

可选地，当采用的像素界定层材料中所述微外壳及其包裹的疏液型单体整体的密度低于所述像素界定层本体材料的密度时，所述施加第一激励于所述像素界定层的半成品包括：对所述像素界定层的半成品进行后烘以使所述微外壳上浮到所述像素界定层的半成品的表面。

可选地，该制造方法还包括：在形成所述像素界定层之后，在所述像素界定层限定的区域内喷涂用于形成有机像素内膜的墨水。

根据本发明的第三方面，提供一种显示基板，所述显示基板经根据本发明第二方面的制造方法制得。

根据本发明的第四方面，提供一种显示装置，包括根据本发明第三方面的显示基板。

附图说明

图1为对本发明的实施例的像素界定层的半成品施加第一激励后的状态的截面图；

图2为对本发明的实施例的像素界定层的半成品施加另一种第一激励后的状态的截面图；

图3为本发明的实施例的像素界定层的截面图；

其中，附图标记为：S、基底；1、像素界定层本体材料；2、微外壳；3、疏液型单体；4、多孔结构。

具体实施方式

为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。

在本发明中，“构图工艺”是指形成具有特定的图形的结构的步骤，其可为光刻工艺，光刻工艺包括形成材料层、涂布光刻胶、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等步骤中的一步或多步；当然，“构图工艺”也可为压印工艺、喷墨打印工艺等其它工艺。

实施例1：

本实施例提供一种像素界定层材料，包括像素界定层本体材料1，还包括分散在像素界定层本体材料1内的由微外壳2包裹的疏液型单体3，微外壳2能够在像素界定层材料受到第一激励的情况下而上浮且能在像素界定层材料受到第二激励的情况下而破裂。

像素界定层本体材料1可以是现有技术中的各种用于形成像素界定层的材料。利用以上像素界定层材料制备像素界定层时，可对其施加第一激励从而使微外壳2上浮。如图1和2所示，微外壳2会聚集在像素界定层本体材料1的上表面以及上侧表面附近。如图3所示，此后如对该像素界定层材料进一步施加第二激励，使得微外壳2破裂，那么微外壳2包裹的疏液型单体3就会聚集在像素界定层本体材料1的上表面和上侧表面附近。最终由该像素界定层本体材料1制备得到的像素界定层的上表面和上侧表面都会分布有疏液型单体3，由这些疏液型单体3来抑制墨水(如用于形成像素内膜的由喷墨打印喷涂到像素界定层之间的墨水)的攀爬，从而有利于提高有机像素内膜高度的均匀性。像素界定层侧面的上部分布有疏液型单体3，它们能够有效抑制墨水的攀爬。当然像素界定层侧面的下部也可以分布有疏液型单体，它们同样能够抑制墨水的攀爬。

可选地，微外壳2能够在特定波长的光照射下破裂，第二激励包括对像素界定层材料施加特定波长的光照。

例如，微外壳2材料为掺有TiO₂的聚合物，聚合物包括聚胺、聚酰胺、聚酰亚胺、酚醛树脂、聚氨酯、聚硅烷中的任意一种。这种类型的微外壳2能够在受到紫外线光照的情况下破裂。

可选地，如图2所示，微外壳2内装有多孔结构4，多孔结构4内还装有磁性物质(未示出，优选为铁磁性物质)，第一激励包括向像素界定层材料施加磁场。

多孔结构4例如由多孔的SiO₂材料形成，磁性物质例如是Fe₃O₄，采用这种结构时，可通过施加磁场将磁性物质向像素界定层本体材料1的上表面或者侧面吸引，这些多孔结构4向这些方向运动，进而带动微外壳2向这些方向移动。

可选地，微外壳2及其包裹的疏液型单体3整体的密度低于像素界定层本体材料1的密度，第一激励包括对像素界定层材料加热而提高像素界定层本体材料1的流动性。

由于微外壳2及其包裹的疏液型单体3整体的密度低于像素界定层本体材料1的密度，在像素界定层本体材料1的流动性被提高的情况下(像素界定层本体材料1通常具有一定的流动性，但在未受第一激励的情况下这种流动性是很小的，微外壳2在其中的位置相对稳定)，这些微外壳2能够在浮力的作用下向上运动，从而达到像素界定层本体材料1的上表面附近。

可选地，疏液型单体3包括氟化环烯烃、氟化内酯亚胺、氟化双环戊二烯、氟化烷基硅氧烷中的任意一项。以上为可选的疏液型单体3材料，但本发明并部限定于此。

实施例2：

本实施例提供一种显示基板的制造方法，结合图1-图3，该制造方法包括以下步骤。

第一步，在基底S上涂覆根据本发明实施例1的像素界定层材料。

第二步，对像素界定层材料进行构图工艺以得到像素界定层的半成品，像素界定层的半成品顶面与侧面的夹角大于90°且小于180°。换言之，像素界定层的半成品的侧面相对于基底S是“朝向像素界定层的半成品的中部倾斜的”，或者说像素界定层的半成品的侧面与其底面的夹角为锐角。从而在微外壳2上浮的过程中，微外壳2不仅积累在像素界定层的半成品的顶部附近，还会积累在上部分的侧面附近。

第三步，施加第一激励于像素界定层的半成品，以使微外壳2上浮到像素界定层的半成品的表面。

可选地，当采用的像素界定层材料中微外壳2内装有多孔结构4且多孔结构4内还装有磁性物质时，施加第一激励于像素界定层的半成品包括：对像素界定层的半成品施加磁场以将微外壳2吸附到像素界定层的半成品的表面，此时产品形态参见图2。

可选地，当采用的像素界定层材料中微外壳2及其包裹的疏液型单体3整体的密度低于像素界定层本体材料1的密度时，施加第一激励于像素界定层的半成品包括：对像素界定层的半成品进行后烘以使微外壳2上浮到像素界定层的半成品的表面，此时产品形态参见图1。

对像素界定层的半成品进行后烘，会提高像素界定层本体材料1的流动性，从而有利于微外壳2受浮力而上升。

第四步，施加第二激励于像素界定层的半成品，以使微外壳2破裂。

可选地，当采用的像素界定层材料中微外壳2能够在特定波长的光照射下破裂时，施加第二激励于像素界定层的半成品包括：向像素界定层的半成品照射特定波长的光。

即通过特定波长的光照射像素界定层的半成品，其中的微外壳2会受光照而破裂。从而使疏液型单体3流出，此时产品形态参见图3。

第五步，对像素界定层本体材料1进行固化得到像素界定层。

可选地，在形成像素界定层之后，在像素界定层限定的区域内喷涂用于形成有机像素内膜的墨水。此时，墨水沿像素界定层侧壁的攀爬能够得到有效地抑制。

实施例3：

本实施例提供一种显示基板，该显示基板经实施例2所提供的方法制得。

参见图3，该显示基板包括像素界定层，像素界定层的顶面和侧面均分布有疏液型单体3，像素界定层内还分布有破裂的微外壳2。

像素界定层设置在基底S上，基底S与像素界定层之间的结构可以是现有的各种结构，故未在图3中示出。

实施例4：

本实施例提供一种显示装置，包括根据本发明实施例3的显示基板。

具体的，该显示装置可为有机发光二极管(OLED)显示面板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (13)

1.一种像素界定层材料，包括像素界定层本体材料，其特征在于，所述像素界定层材料还包括分散在所述像素界定层本体材料内的由微外壳包裹的疏液型单体，所述微外壳能够在所述像素界定层材料受到第一激励的情况下而上浮且能在所述像素界定层材料受到第二激励的情况下而破裂。

2.根据权利要求1所述的像素界定层材料，其特征在于，所述微外壳能够在特定波长的光照射下破裂，所述第二激励包括对所述像素界定层材料施加所述特定波长的光照。

3.根据权利要求2所述的像素界定层材料，其特征在于，所述微外壳材料为掺有TiO₂的聚合物，所述聚合物包括聚胺、聚酰胺、聚酰亚胺、酚醛树脂、聚氨酯、聚硅烷中的任意一种。

4.根据权利要求1所述的像素界定层材料，其特征在于，所述微外壳内装有多孔结构，所述多孔结构内还装有磁性物质，所述第一激励包括向所述像素界定层材料施加磁场。

5.根据权利要求1所述的像素界定层材料，其特征在于，所述微外壳及其包裹的疏液型单体整体的密度低于所述像素界定层本体材料的密度，所述第一激励包括对所述像素界定层材料加热而提高所述像素界定层本体材料的流动性。

6.根据权利要求1-5任意一项所述的像素界定层材料，其特征在于，所述疏液型单体包括氟化环烯烃、氟化内酯亚胺、氟化双环戊二烯、氟化烷基硅氧烷中的任意一项。

7.一种显示基板的制造方法，其特征在于，包括：

在基底上涂覆根据权利要求1-6任意一项所述的像素界定层材料；

对所述像素界定层材料进行构图工艺以得到像素界定层的半成品，所述像素界定层的半成品顶面与侧面的夹角大于90°且小于180°；

施加所述第一激励于所述像素界定层的半成品，以使所述微外壳上浮到所述像素界定层的半成品的表面；

施加第二激励于所述像素界定层的半成品，以使所述微外壳破裂；

对所述像素界定层本体材料进行固化得到像素界定层。

8.根据权利要求7所述的制造方法，其特征在于，当采用根据权利要求2所述的像素界定层材料时，所述施加第二激励于所述像素界定层的半成品包括：向所述像素界定层的半成品照射所述特定波长的光。

9.根据权利要求7所述的制造方法，其特征在于，当采用根据权利要求4所述的像素界定层材料时，所述施加第一激励于所述像素界定层的半成品包括：对所述像素界定层的半成品施加磁场以将所述微外壳吸附到所述像素界定层的半成品的表面。

10.根据权利要求7所述的制造方法，其特征在于，当采用根据权利要求5所述的像素界定层材料时，所述施加第一激励于所述像素界定层的半成品包括：对所述像素界定层的半成品进行后烘以使所述微外壳上浮到所述像素界定层的半成品的表面。

11.根据权利要求7-10任意一项所述的制造方法，其特征在于，还包括：在形成所述像素界定层之后，在所述像素界定层限定的区域内喷涂用于形成有机像素内膜的墨水。

12.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板经根据权利要求7-11任意一项所述的制造方法制得。

13.一种显示装置，其特征在于，包括根据权利要求12所述的显示基板。