CN109637943A - 一种监测氢氟酸溶液浓度的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种监测氢氟酸溶液浓度的方法，当氢氟酸溶液槽体氢氟酸溶液浓度能满足去除磷硅玻璃层工艺时，用滴管将氢氟酸溶液槽体中的氢氟酸溶液取出，滴到水膜覆盖的有磷硅玻璃层的硅片表面，计时氢氟酸溶液和硅片表面磷硅玻璃层反应而形成硅片表面疏水圈的时间，并将该计时的时间段定义为判氢氟酸溶液浓度是否正常的标准临界时间t，此后，在太阳能电池片在制造过程中，如果反应而形成硅片表面疏水圈时间小于该标准临界时间t，则说明氢氟酸溶液槽体氢氟酸溶液浓度正常。该监测氢氟酸溶液浓度的方法可及时准确判断氟酸溶液浓度是否能达标，以确保去除磷硅玻璃工艺的完成效果。

Description

一种监测氢氟酸溶液浓度的方法
技术领域：
本发明涉及太阳能电池领域，具体讲是一种太阳电池酸洗槽监测氢氟酸溶液浓度的方法。
背景技术：
目前，太阳能电池片在制造过程中，需要进行扩散工艺，而扩散工艺涉及PN结的形成，同时在此工艺条件下会在硅片表面形成磷硅玻璃层，此磷硅玻璃层主要成分是掺磷的SiO2玻璃。而这个硅片表面的磷硅玻璃层(SiO2玻璃层)具有亲水特性，即水能均匀的覆盖在有磷硅玻璃层(SiO2玻璃层)的硅片表面，形成水膜覆盖层。
太阳能电池片在制造过程中，需要进行去除磷硅玻璃层(SiO2玻璃层)的工艺，氢氟酸溶液能和SiO2快速的反应，SiO2+4HF＝＝＝SiF4+2H2O，生成的SiF4可以继续和过量的HF作用，生成氟硅酸，SiF4+2HF＝＝＝H2SiF6。因此太阳能电池片在制造过程设置有氢氟酸溶液槽体，通过氢氟酸溶液完成去除磷硅玻璃层(SiO2玻璃层)工艺，而为了确保去除磷硅玻璃层(SiO2玻璃层)工艺的完成效果，就要定期监控氢氟酸溶液浓度。现有技术在确认氢氟酸溶液槽体氢氟酸溶液浓度是否满足生产工艺要求时较为繁琐，而且容易出现偏差导致因去除硅片表面磷硅玻璃层(SiO2玻璃层)去除不干净导致的太阳能电池片质量问题。
发明内容：
本发明所要解决的技术问题是，提供一种监测氢氟酸溶液浓度的方法，可及时准确判断氟酸溶液浓度是否能达标，以确保去除磷硅玻璃工艺的完成效果。
本发明的技术解决方案是，提供一种监测氢氟酸溶液浓度的方法，当氢氟酸溶液槽体氢氟酸溶液浓度能满足去除磷硅玻璃层工艺时，用滴管将氢氟酸溶液槽体中的氢氟酸溶液取出，滴到水膜覆盖的有磷硅玻璃层的硅片表面，计时氢氟酸溶液和硅片表面磷硅玻璃层反应而形成硅片表面疏水圈的时间，并将该计时的时间段定义为判氢氟酸溶液浓度是否正常的标准临界时间t，此后，在太阳能电池片在制造过程中，如果反应而形成硅片表面疏水圈时间小于该标准临界时间t，则说明氢氟酸溶液槽体氢氟酸溶液浓度正常；如果反应而形成硅片表面疏水圈时间大于该标准临界时间t，则说明氢氟酸溶液槽体氢氟酸溶液浓度异常。
采用以上技术方案后与现有技术相比，本发明具有以下优点：通过对氢氟酸溶液槽体氢氟酸溶液浓度的监测，来确保去除磷硅玻璃层(SiO2玻璃层)工艺的完成效果，可以快速确认氢氟酸溶液槽体氢氟酸溶液浓度是否满足生产工艺要求。避免出现因去除硅片表面磷硅玻璃层(SiO2玻璃层)去除不干净导致的太阳能电池片质量问题。
具体实施方式：
下面就具体实施方式对本发明作进一步说明：
本监测氢氟酸溶液浓度的方法是利用水在具有磷硅玻璃层(SiO2玻璃层)的硅片表面具有亲水性，而水在去除磷硅玻璃层(SiO2玻璃层)的硅片表面具有疏水性的特性。同时不同浓度的氢氟酸溶液滴入水膜覆盖的有磷硅玻璃层(SiO2玻璃层)的硅片表面，反应形成硅片表面疏水圈的时间是有长短的，氢氟酸溶液浓度越高反应越快，形成硅片表面疏水圈的时间越短，氢氟酸溶液浓度越低反应越慢，形成硅片表面疏水圈的时间越长。
具体的，当氢氟酸溶液槽体氢氟酸溶液浓度能满足去除磷硅玻璃层工艺时，用滴管将氢氟酸溶液槽体中的氢氟酸溶液取出，滴到水膜覆盖的有磷硅玻璃层的硅片表面，计时氢氟酸溶液和硅片表面磷硅玻璃层反应而形成硅片表面疏水圈的时间，并将该计时的时间段定义为判氢氟酸溶液浓度是否正常的标准临界时间t，如t为5s,此后，在太阳能电池片在制造过程中，如果反应而形成硅片表面疏水圈时间小于该标准临界时间t，即小于5s，则说明氢氟酸溶液槽体氢氟酸溶液浓度正常；如果反应而形成硅片表面疏水圈时间大于5s，则说明氢氟酸溶液槽体氢氟酸溶液浓度异常。
在太阳能电池生产过程中，重复上述的操作，形成上述现象时间小于5秒的，则可以进行正常生产。而形成上述现象时间大于5秒的，则需要停止生产并调整氢氟酸溶液槽体氢氟酸溶液浓度。
以上监测氢氟酸溶液浓度的方法，能快速的判断氢氟酸溶液槽体氢氟酸溶液浓度是否能保证去除磷硅玻璃层(SiO2玻璃层)工艺的完成效果，确保太阳能电池正常制造。

Claims (1)

1.一种监测氢氟酸溶液浓度的方法，其特征在于：当氢氟酸溶液槽体氢氟酸溶液浓度能满足去除磷硅玻璃层工艺时，用滴管将氢氟酸溶液槽体中的氢氟酸溶液取出，滴到水膜覆盖的有磷硅玻璃层的硅片表面，计时氢氟酸溶液和硅片表面磷硅玻璃层反应而形成硅片表面疏水圈的时间，并将该计时的时间段定义为判氢氟酸溶液浓度是否正常的标准临界时间t，此后，在太阳能电池片在制造过程中，如果反应而形成硅片表面疏水圈时间小于该标准临界时间t，则说明氢氟酸溶液槽体氢氟酸溶液浓度正常；如果反应而形成硅片表面疏水圈时间大于该标准临界时间t，则说明氢氟酸溶液槽体氢氟酸溶液浓度异常。
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