CN109575827A - 电磁屏蔽膜、电磁屏蔽膜的制备方法和显示装置 - Google Patents

电磁屏蔽膜、电磁屏蔽膜的制备方法和显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN109575827A
CN109575827A CN201811605683.8A CN201811605683A CN109575827A CN 109575827 A CN109575827 A CN 109575827A CN 201811605683 A CN201811605683 A CN 201811605683A CN 109575827 A CN109575827 A CN 109575827A
Authority
CN
China
Prior art keywords
electro
layer
magnetic screen
electromagnetic shielding
protective layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201811605683.8A
Other languages
English (en)
Inventor
李增成
彭颖杰
王新媛
潘克菲
姜锴
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SUZHOU NUOVO FILM Inc
Original Assignee
SUZHOU NUOVO FILM Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SUZHOU NUOVO FILM Inc filed Critical SUZHOU NUOVO FILM Inc
Priority to CN201811605683.8A priority Critical patent/CN109575827A/zh
Publication of CN109575827A publication Critical patent/CN109575827A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/22—Plastics; Metallised plastics
    • C09J7/25—Plastics; Metallised plastics based on macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C09J7/255—Polyesters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/22—Plastics; Metallised plastics
    • C09J7/25—Plastics; Metallised plastics based on macromolecular compounds obtained otherwise than by reactions involving only carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2433/00—Presence of (meth)acrylic polymer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2467/00—Presence of polyester
    • C09J2467/006—Presence of polyester in the substrate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2469/00—Presence of polycarbonate
    • C09J2469/006—Presence of polycarbonate in the substrate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2483/00—Presence of polysiloxane

Abstract

本发明提供了一种电磁屏蔽膜，涉及电子技术领域。该电磁屏蔽膜包括：粘接层；叠加在粘接层一侧的第一隔离保护层，用于将第一电磁屏蔽层与第一电磁屏蔽层靠近粘接层一侧的外界空气隔离；以及第一电磁屏蔽层。本发明的发明人通过创造性的劳动发现了现有电磁屏蔽膜的粘接层具有较好的透气性，从而使得外界空气可以透过粘接层与第一电磁屏蔽层中的导电材料发生反应，进而导致电磁屏蔽膜的电磁屏蔽功能失效。本发明实施例通过在第一隔离保护层的一侧设置第一电磁屏蔽层，从而使得第一电磁屏蔽层可以与该第一电磁屏蔽层靠近粘接层一侧的外界空气隔离，进而有效避免了第一电磁屏蔽层由于与透过粘接层的外界空气反应而导致的电磁屏蔽功能失效。

Description

电磁屏蔽膜、电磁屏蔽膜的制备方法和显示装置
技术领域
本发明涉及电子技术领域，尤其涉及一种电磁屏蔽膜、电磁屏蔽膜的制备方法和显示装置。
背景技术
目前，电磁屏蔽膜在使用了一段时间之后，出现了电磁屏蔽功能失效的问题。因此，如何避免电磁屏蔽膜出现电磁屏蔽功能失效成为亟待解决的问题。
发明内容
有鉴于此，本发明实施例致力于提供一种电磁屏蔽膜、电磁屏蔽膜的制备方法和显示装置，以解决现有技术中电磁屏蔽膜出现电磁屏蔽功能失效的问题。
本发明一方面提供了一种电磁屏蔽膜，包括：粘接层；叠加在粘接层一侧的第一隔离保护层，用于将第一电磁屏蔽层与第一电磁屏蔽层靠近粘接层一侧的外界空气隔离；以及第一电磁屏蔽层。
在本发明的一个实施例中，第一电磁屏蔽层包括银纳米线。
在本发明的一个实施例中，第一电磁屏蔽层通过涂布银纳米线墨水来制备；其中，银纳米线在银纳米线墨水中的质量百分比为0.1％到0.5％。
在本发明的一个实施例中，银纳米线的表面镀有铜或镍。
在本发明的一个实施例中，第一隔离保护层的厚度为100um到125um。
在本发明的一个实施例中，第一隔离保护层采用的材料包括聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚碳酸酯。
在本发明的一个实施例中，电磁屏蔽膜进一步包括：叠加在第一电磁屏蔽层一侧的第二隔离保护层，用于将第一电磁屏蔽层与第一电磁屏蔽层远离粘接层一侧的外界空气隔离。
在本发明的一个实施例中，第二隔离保护层的厚度为10um到15um。
在本发明的一个实施例中，第二隔离保护层采用的材料包括丙烯酸树脂和/或氟树脂。
在本发明的一个实施例中，粘接层采用的材料包括硅胶或者亚克力胶。
在本发明的一个实施例中，电磁屏蔽膜进一步包括粘接层保护层；其中，粘接层保护层粘贴在粘接层远离第一隔离保护层的一侧。
在本发明的一个实施例中，粘接层保护层包括聚酯薄膜或者离型膜。
在本发明的一个实施例中，电磁屏蔽膜进一步包括第二电磁屏蔽层；其中，第一隔离保护层设置在第一电磁屏蔽层和第二电磁屏蔽层之间，粘接层叠加在第二电磁屏蔽层远离第一隔离保护层的一侧。
本发明又一方面提供了一种电磁屏蔽膜的制备方法，包括：在第一隔离保护层的一侧制备第一电磁屏蔽层；以及在第一隔离保护层的另一侧制备粘接层；其中，第一隔离保护层用于将第一电磁屏蔽层与第一电磁屏蔽层靠近粘接层一侧的外界空气隔离。
在本发明的一个实施例中，第一电磁屏蔽层通过涂布银纳米线墨水来制备；其中，银纳米线在银纳米线墨水中的质量百分比为0.1％到0.5％。
在本发明的一个实施例中，粘接层通过涂布粘接层的涂布液来制备。
在本发明的一个实施例中，涂布后的粘接层的涂布液通过加热进行固化；其中，加热的温度为100℃到135℃，加热的时间为30s到60s。
在本发明的一个实施例中，在第一隔离保护层的一侧制备第一电磁屏蔽层之后，制备方法进一步包括：在第一电磁屏蔽层远离第一隔离保护层的一侧制备第二隔离保护层；其中，第二隔离保护层用于将第一电磁屏蔽层与第一电磁屏蔽层远离粘接层一侧的外界空气隔离。
在本发明的一个实施例中，第二隔离保护层通过涂布第二隔离保护层的涂布液来制备。
在本发明的一个实施例中，涂布后的第二隔离保护层的涂布液通过紫外光进行固化；其中，紫外光的强度为400mJ/cm2，紫外光的照射时间为2min。
在本发明的一个实施例中，制备方法进一步包括：在粘接层远离第一隔离保护层的一侧粘贴粘接层保护层。
在本发明的一个实施例中，在第一隔离保护层的另一侧制备粘接层之前，制备方法进一步包括：在第一隔离保护层的另一侧制备第二电磁屏蔽层；其中，在第一隔离保护层的另一侧制备粘接层包括：在第二电磁屏蔽层远离第一隔离保护层的一侧制备粘接层。
在本发明的一个实施例中，涂布采用的方式包括狭缝涂布、微凹涂布或喷涂。
本发明再一方面提供了一种显示装置，包括：如上述任一项所述的电磁屏蔽膜。
本发明的发明人通过创造性的劳动发现了现有电磁屏蔽膜的粘接层具有较好的透气性，从而使得外界空气可以透过粘接层与第一电磁屏蔽层中的导电材料发生反应，进而导致电磁屏蔽膜的电磁屏蔽功能失效。本发明实施例通过在第一隔离保护层的一侧设置第一电磁屏蔽层，从而使得第一电磁屏蔽层可以与该第一电磁屏蔽层靠近粘接层一侧的外界空气隔离，进而有效避免了第一电磁屏蔽层由于与透过粘接层的外界空气反应而导致的电磁屏蔽功能失效。
附图说明
图1是根据本发明一个实施例的电磁屏蔽膜的示意性局部结构图。
图2是根据本发明另一个实施例的电磁屏蔽膜的示意性结构图。
图3是根据本发明另一个实施例的电磁屏蔽膜的示意性结构图。
图4是根据本发明另一个实施例的电磁屏蔽膜的示意性结构图。
图5是根据本发明另一个实施例的电磁屏蔽膜的示意性结构图。
图6是根据本发明一个实施例的电磁屏蔽膜的制备方法的示意性流程图。
图7是根据本发明一个实施例的电磁屏蔽膜的制备方法的示意性过程图。
上述附图中的附图标记如下：第二隔离保护层1，第一电磁屏蔽层2，第一隔离保护层3，粘接层4，粘接层保护层5，第二电磁屏蔽层6。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在可能的情况下，附图中的各个部分提到的相同或相似的部分将采用相同的附图标记。
正如背景技术所述，现有技术中电磁屏蔽膜容易出现失效的问题，从而影响电磁屏蔽效果。为了解决这个问题，发明人对现有的电磁屏蔽膜进行了研究，其中，现有的电磁屏蔽膜的结构为层叠设置的基材层、电磁屏蔽层和粘接层。经研究得出，出现这种问题的原因在于，由于粘接层透气性较好，从而导致外界空气中的氧气、硫化物、水蒸气等透过粘接层与电磁屏蔽层中的导电材料(例如，银纳米线、金属铜等)发生反应，进而引起电磁屏蔽功能失效。
为了解决电磁屏蔽功能失效的问题，发明人研究得出，若是能够阻止透过粘接层的氧气、硫化物、水蒸气等与电磁屏蔽层中的导电材料发生反应，则可以在很大程度上降低电磁屏蔽功能失效的发生。
图1是根据本发明一个实施例的电磁屏蔽膜的示意性局部结构图。
鉴于此，如图1所示，本发明提供了一种电磁屏蔽膜，可以包括：粘接层4；叠加在粘接层4一侧的第一隔离保护层3，用于将第一电磁屏蔽层2与第一电磁屏蔽层2靠近粘接层4一侧的外界空气隔离；以及第一电磁屏蔽层2。
具体地，该电磁屏蔽膜可以包括：层叠设置的第一电磁屏蔽层2、第一隔离保护层3和粘接层4；其中，第一隔离保护层3可以设置在第一电磁屏蔽层2和粘接层4之间，且第一电磁屏蔽层2、第一隔离保护层3和粘接层4可以均具有柔性，以便电磁屏蔽膜可以具有弯折特性。
第一电磁屏蔽层2可以与第一隔离保护层3接触，第一隔离保护层3可以与粘接层4接触，其中，第一隔离保护层3可以采用致密性高的材料，以避免外界空气透过第一隔离保护层3，从而使得第一电磁屏蔽层2可以与第一电磁屏蔽层2靠近粘接层4一侧的外界空气隔离，进而避免了第一电磁屏蔽层2由于与外界空气反应而导致的电磁屏蔽功能失效。第一电磁屏蔽层2可以起到导电的作用，进而实现电磁屏蔽膜的电磁屏蔽功能。
电磁屏蔽膜包括的粘接层4可以使得电磁屏蔽膜成为自贴式电磁屏蔽膜，进而使得电磁屏蔽膜可以贴合应用在任意需要电磁屏蔽的场合。例如，由于自贴式电磁屏蔽膜使用和维护方便，可以直接贴合在玻璃上，从而可以用来对普通玻璃进行电磁屏蔽功能的升级处理，进而有效节约成本，又或者任何需要同时满足一定的透光率和电磁屏蔽要求的视窗。
另外，由于第一电磁屏蔽层2、第一隔离保护层3和粘接层4可以均具有柔性，因此，包括第一电磁屏蔽层2、第一隔离保护层3和粘接层4的电磁屏蔽膜也可以具备柔性。当将该电磁屏蔽膜应用在需要柔性的屏蔽场合时，例如，视窗形状多变的电子产品，电磁屏蔽膜由于具备柔性，因此可以很好地与形状多变的视窗进行贴合，从而满足了视窗形状多变的电子产品的电磁屏蔽需求。在这里，视窗的形状多变可以是指视窗的表面存在非平面的情况，例如曲面、凹凸表面等。
应当理解，电磁屏蔽膜除了可以应用在视窗形状多变的电子产品中，也可以应用在视窗的表面为平面的电子产品中，例如，售卖机上用于显示的玻璃柜门等，这里对于电磁屏蔽膜的应用场景不做具体限定。
为了便于描述，在这里，可以将如图1中所示的第一隔离保护层3和第一电磁屏蔽层2称为电磁屏蔽组。为了进一步增强电磁屏蔽膜的电磁屏蔽效果，可以在第一电磁屏蔽层2远离第一隔离保护层3的一侧进一步叠加至少一组电磁屏蔽组。
本发明的发明人通过创造性的劳动发现了现有电磁屏蔽膜的粘接层4具有较好的透气性，从而使得外界空气可以透过粘接层4与第一电磁屏蔽层2中的导电材料发生反应，进而导致电磁屏蔽膜的电磁屏蔽功能失效。本发明实施例通过在第一隔离保护层3的一侧设置第一电磁屏蔽层2，从而使得第一电磁屏蔽层2可以与该第一电磁屏蔽层2靠近粘接层4一侧的外界空气隔离，进而有效避免了第一电磁屏蔽层2由于与透过粘接层4的外界空气反应而导致的电磁屏蔽功能失效。
除此之外，本发明实施例提供的电磁屏蔽膜还可以与任意形状的需要电磁屏蔽的表面贴合，而且可以具备良好的可靠性、透光率和电磁屏蔽效果。另外，与传统的刚性电磁屏蔽玻璃相比，还具有更轻薄、成本更低等优点。
在本发明的另一个实施例中，第一电磁屏蔽层2可以包括银纳米线。
具体地，在本发明的实施例中，第一电磁屏蔽层2中用于实现电磁屏蔽功能的材料可以包括氧化铟锡(ITO)、石墨烯、各种金属丝网等，这里对于第一电磁屏蔽层2中用于实现电磁屏蔽功能的材料不做具体限定。
由于通过银纳米线制备的电磁屏蔽层具有方阻低、加工成本低、透光性好等优点，第一电磁屏蔽层2可以优选包括银纳米线。
在本发明的另一个实施例中，第一电磁屏蔽层2通过涂布银纳米线墨水来制备；其中，银纳米线在银纳米线墨水中的质量百分比可以为0.1％到0.5％。
具体地，第一电磁屏蔽层2可以通过涂布液来制备。对于包括银纳米线的第一电磁屏蔽层2来说，涂布液可以为银纳米线墨水。在这里，银纳米线墨水的制备可以是先将羟丙基甲基纤维素加入去离子水中制备具有粘度的水溶液，然后再将银纳米线分散在该水溶液中，进而形成银纳米线墨水，其中，银纳米线在银纳米线墨水中的质量百分比可以优选为0.1％到0.5％，以便形成的第一电磁屏蔽层2的方阻可以控制在5欧姆/□到50欧姆/□，进而为形成电磁屏蔽效果良好的电磁屏蔽膜奠定基础。例如，发明人进行了电磁屏蔽试验，结果显示，在300MHz～1.5GHz范围内，该基于银纳米线的电磁屏蔽膜的电磁屏蔽效率可以达到10dB到30dB。
为了使得形成的电磁屏蔽膜兼具较高的透光率和较高的电磁屏蔽效率，通过银纳米线墨水形成的第一电磁屏蔽层2的方阻可以优选为5欧姆/□到10欧姆/□，其中，对于该银纳米线墨水来说，银纳米线的质量百分比可以为0.3％到0.5％。例如，发明人进行了光学性能试验和电磁屏蔽试验，结果显示，对于第一电磁屏蔽层2的方阻为5欧姆/□到10欧姆/□的电磁屏蔽膜来说，透光率可以大于80％，且电磁屏蔽效率可以大于25dB。
在本发明的另一个实施例中，银纳米线的表面可以镀有铜或镍。
具体地，为了增强电磁屏蔽膜的电磁屏蔽效果，第一电磁屏蔽层2中的银纳米线的表面可以镀有铜或镍，进一步降低电阻率。
在本发明的另一个实施例中，第一隔离保护层3的厚度可以为100um到125um。
具体地，为了使得第一隔离保护层3既能够很好地支撑第一电磁屏蔽层2，又确保第一隔离保护层3可以有效地将第一电磁屏蔽层2与第一电磁屏蔽层2靠近粘接层4一侧的外界空气隔离，避免外界空气透过粘接层4与第一电磁屏蔽层2发生反应，形成的第一隔离保护层3的厚度可以优选为100um到125um。
在本发明的另一个实施例中，第一隔离保护层3采用的材料可以包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)或聚碳酸酯。
具体地，在本发明的实施例中，第一隔离保护层3可以采用任意能够起到隔离效果的材料，例如聚酯等，这里对于第一隔离保护层3采用的材料类型不做具体限定。
为了确保电磁屏蔽膜的透光率，也为了确保电磁屏蔽层中的银纳米线可以与外界空气有效隔离，第一隔离保护层3采用的材料可以优选包括光学聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene Terephthalate，PET)或聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)，其中，PET具有优良的阻水阻气性能。
图2是根据本发明另一个实施例的电磁屏蔽膜的示意性结构图。
在本发明的另一个实施例中，如图2所示，电磁屏蔽膜可以进一步包括：叠加在第一电磁屏蔽层2一侧的第二隔离保护层1，用于将第一电磁屏蔽层2与第一电磁屏蔽层2远离粘接层4一侧的外界空气隔离。
应当理解，第一电磁屏蔽层2在远离粘接层4的另一侧也设置有隔离保护层，在这里，可以称为第二隔离保护层1。为了避免外界空气透过第二隔离保护层1与第一电磁屏蔽层2发生反应，第二隔离保护层1在制备的过程中可以致密地覆盖在第一电磁屏蔽层2的表面上。
进一步地，对于基于银纳米线的电磁屏蔽膜来说，第二隔离保护层1和第一隔离保护层3可以使银纳米线与外界空气有效地隔离，进而避免了银纳米线由于被外界空气的氧化或者硫化而导致的电磁屏蔽功能失效，延长了电磁屏蔽膜的使用寿命。
在本发明的另一个实施例中，第二隔离保护层1可以通过将第二隔离保护层1的涂布液涂布在第一电磁屏蔽层2的表面来制备。
具体地，第二隔离保护层1也可以通过涂布液来制备，其中，涂布液固化的方式可以为紫外光(UV)固化或热固化等，这里对于第一电磁屏蔽层2上的第二隔离保护层1的涂布液的固化方式、固化条件和采用的材料不做具体限定。
在本发明的另一个实施例中，第二隔离保护层1的涂布液可以通过紫外光进行固化；其中，紫外光的强度可以为400mJ/cm2，紫外光的照射时间可以为2min。
具体地，基于制备便捷以及节能的角度考虑，第二隔离保护层1的涂布液可以优选通过紫外光进行固化；其中，紫外光的强度可以优选为400mJ/cm2，紫外光的照射时间可以优选为2min。
通过上述紫外光固化方式形成的第二隔离保护层1，不仅使得第二隔离保护层1可以致密地覆盖在第一电磁屏蔽层2的表面上，使得第一电磁屏蔽层2与外界空气有效隔离，而且使得第二隔离保护层1具有了优异的耐刮划性。例如，发明人进行了耐刮划性试验，其中，试验条件为#0000钢丝绒，1000g负荷，结果显示，该电磁屏蔽膜的耐磨程度可以高达3000次，从而有效地避免了由于外力使第二隔离保护层1破损或磨损而导致的第一电磁屏蔽层2与外界大气反应而致使的电磁屏蔽功能失效。
在本发明的另一个实施例中，第二隔离保护层1的厚度可以为10um到15um。
具体地，为了使得第一电磁屏蔽层2可以与外界空气有效隔离，也为了使得电磁屏蔽膜的耐刮划性可以得到更好地确保，还为了避免增加成本，第二隔离保护层1的厚度可以优选为10um到15um。
在本发明的另一个实施例中，第二隔离保护层1采用的材料可以包括丙烯酸树脂。
具体地，只要第二隔离保护层1可以使得第一电磁屏蔽层2可以与外界空气有效隔离，这里对于第二隔离保护层1采用的材料不做具体限定。但出于对阻水阻气等效果的考虑，第二隔离保护层1采用的材料可以优选包括丙烯酸树脂。
在本发明的另一个实施例中，第二隔离保护层1采用的材料可以包括氟树脂。
具体地，为了使得第二隔离保护层1可以兼具抗指纹的效果，第二隔离保护层1采用的材料可以优选包括氟树脂，从而避免了使用过程中指纹沾污影响视窗的观察效果。
在本发明的另一个实施例中，粘接层4可以通过将粘接层4的涂布液涂布在第一隔离保护层3的表面来制备。
具体地，粘接层4也可以通过涂布液来制备，涂布液固化的方式可以为紫外光固化或热固化等，这里对于第一隔离保护层3上的粘接层4的涂布液的固化方式、固化条件和采用的材料不做具体限定。
在本发明的另一个实施例中，粘接层4的涂布液可以通过加热进行固化；其中，加热的温度可以为100℃到135℃，加热的时间可以为30s到60s。
具体地，为了确保粘接层4的粘接强度，也为了确保生产效率，还为了避免第一隔离保护层3的收缩、翘曲等问题，粘接层4的涂布液可以优选通过加热进行固化；其中，加热的温度可以优选为100℃到135℃，加热的时间可以优选为30s到60s。
在本发明的另一个实施例中，粘接层4采用的材料可以包括硅胶或者亚克力胶。
具体地，为了防止粘接层4在贴合时产生气泡，也为了降低贴合难度，粘接层4采用的材料可以包括硅胶或者亚克力胶。但由于硅胶的排气性能好，贴合工艺简单，且无残胶，粘接层4采用的材料可以优选包括硅胶，从而使得电磁屏蔽膜在生产过程中能够便于返工，进而有效降低电磁屏蔽膜产品的不良率。
图3是根据本发明另一个实施例的电磁屏蔽膜的示意性结构图。图4是根据本发明另一个实施例的电磁屏蔽膜的示意性结构图。
在这里，图3是想说明在第一电磁屏蔽层2远离第一隔离保护层3的另一侧可以进一步包括至少一组上述电磁屏蔽组，且每组电磁屏蔽组之间可以通过粘接层4进行固定连接。
在本发明的另一个实施例中，如图3和图4所示，电磁屏蔽膜可以进一步包括粘接层保护层5；其中，粘接层保护层5粘贴在粘接层4远离第一隔离保护层3的一侧。
具体地，电磁屏蔽膜在贴合使用前，粘接层保护层5可以贴附在粘接层4上，用于保护粘接层4的粘贴性能。当需要使用电磁屏蔽膜时，可以直接将粘接层保护层5揭除，将电磁屏蔽膜贴合在需要电磁屏蔽的场合即可。
在本发明的另一个实施例中，粘接层保护层5可以包括聚酯(PE)薄膜或者离型膜。
具体地，为了便于电磁屏蔽膜生产后的成卷，也为了确保粘接层4的粘接强度，粘接层保护层5可以优选采用聚酯薄膜或者离型膜。
对于如图4所示的电磁屏蔽膜，发明人进行了光学性能试验和电磁屏蔽性能试验，其中，第一电磁屏蔽层2的方阻为5欧姆/□到10欧姆/□，结果显示，该基于银纳米线的电磁屏蔽膜的透光率可以大于80％，在300MHz～1.5GHz范围内，电磁屏蔽效率可以大于25dB，从而兼具透光性能和电磁屏蔽性能。
图5是根据本发明另一个实施例的电磁屏蔽膜的示意性结构图。
在本发明的另一个实施例中，电磁屏蔽膜可以进一步包括第二电磁屏蔽层6；其中，第一隔离保护层3设置在第一电磁屏蔽层2和第二电磁屏蔽层6之间，粘接层4叠加在第二电磁屏蔽层6远离第一隔离保护层3的一侧。
具体地，如图5所示，第二电磁屏蔽层6可以设置在第一隔离保护层3和粘接层4之间，可以与第一隔离保护层3以及粘接层4接触，其中，第二电磁屏蔽层6可以用于进一步增强电磁屏蔽膜的电磁屏蔽效果，且第二电磁屏蔽层6用于实现电磁屏蔽功能的材料可以与第一电磁屏蔽层2的相同，也可以与第一电磁屏蔽层2的不同，这里对于第二电磁屏蔽层6采用的材料的类型不做具体限定。
在本发明的另一个实施例中，各种涂布液的涂布采用的方式可以包括喷涂、狭缝涂布或微凹涂布等卷对卷涂布方式。
具体地，在本发明的实施例中，涉及涂布的工艺可以采用喷涂、狭缝涂布或微凹涂布等卷对卷涂布方式。由于卷对卷涂布便于连续生产，且生产效率高，良品率高，从而有效降低了电磁屏蔽膜的成本，因此，涂布采用的方式可以优选采用卷对卷涂布。
上面描述了根据本发明实施例的电磁屏蔽膜，下面结合图1至图6描述根据本发明实施例的电磁屏蔽膜的制备方法。
图6是根据本发明一个实施例的电磁屏蔽膜的制备方法的示意性流程图。
如图6所示，该电磁屏蔽膜的制备方法可以包括：
步骤610，在第一隔离保护层3的一侧制备第一电磁屏蔽层2。形成的结构如图1所示，其中，第一隔离保护层3可以是自制的膜层，也可以是购买的膜层，这里对此不做限定。
步骤620，在第一隔离保护层3的另一侧制备粘接层4。形成的结构也如图1所示。
在这里，第一隔离保护层3可以用于将第一电磁屏蔽层2与第一电磁屏蔽层2靠近粘接层4一侧的外界空气隔离。
具体地，该电磁屏蔽膜可以包括：层叠设置的第一电磁屏蔽层2、第一隔离保护层3和粘接层4；其中，第一隔离保护层3可以设置在第一电磁屏蔽层2和粘接层4之间，且第一电磁屏蔽层2、第一隔离保护层3和粘接层4可以均具有柔性，以便电磁屏蔽膜可以具有弯折特性。
第一电磁屏蔽层2可以与第一隔离保护层3接触，第一隔离保护层3可以与粘接层4接触，其中，第一隔离保护层3可以采用致密性高的材料，以避免外界空气透过第一隔离保护层3，从而使得第一电磁屏蔽层2可以与第一电磁屏蔽层2靠近粘接层4一侧的外界空气隔离，进而避免了第一电磁屏蔽层2由于与外界空气反应而导致的电磁屏蔽功能失效。第一电磁屏蔽层2可以起到导电的作用，进而实现电磁屏蔽膜的电磁屏蔽功能。
电磁屏蔽膜包括的粘接层4可以使得电磁屏蔽膜成为自贴式电磁屏蔽膜，进而使得电磁屏蔽膜可以贴合应用在任意需要电磁屏蔽的场合。例如，自贴式电磁屏蔽膜由于使用和维护方便，可以直接贴合在玻璃上，从而可以用来对普通玻璃进行电磁屏蔽功能的升级处理，进而有效节约成本，又或者任何需要同时满足一定的透光率和电磁屏蔽要求的视窗。
另外，由于第一电磁屏蔽层2、第一隔离保护层3和粘接层4可以均具有柔性，因此，包括第一电磁屏蔽层2、第一隔离保护层3和粘接层4的电磁屏蔽膜也可以具备柔性。当将该电磁屏蔽膜应用在需要柔性的屏蔽场合时，例如，视窗形状多变的电子产品，电磁屏蔽膜由于具备柔性，因此可以很好地与形状多变的视窗进行贴合，从而满足了视窗形状多变的电子产品的电磁屏蔽需求。在这里，视窗的形状多变可以是指视窗的表面存在非平面的情况，例如曲面、凹凸表面等。
应当理解，电磁屏蔽膜除了可以应用在视窗形状多变的电子产品中，也可以应用在视窗的表面为平面的电子产品中，例如，售卖机上用于显示的玻璃柜门等，这里对于电磁屏蔽膜的应用场景不做具体限定。
为了便于描述，在这里，可以将如图1中所示的第一隔离保护层3和第一电磁屏蔽层2称为电磁屏蔽组。为了进一步增强电磁屏蔽膜的电磁屏蔽效果，可以在第一电磁屏蔽层2远离第一隔离保护层3的一侧进一步叠加至少一组电磁屏蔽组。
本发明的发明人通过创造性的劳动发现了现有电磁屏蔽膜的粘接层4具有较好的透气性，从而使得外界空气可以透过粘接层4与第一电磁屏蔽层2中的导电材料发生反应，进而导致电磁屏蔽膜的电磁屏蔽功能失效。本发明实施例通过在第一隔离保护层3的一侧设置第一电磁屏蔽层2，从而使得第一电磁屏蔽层2可以与该第一电磁屏蔽层2靠近粘接层4一侧的外界空气隔离，进而有效避免了第一电磁屏蔽层2由于与透过粘接层4的外界空气反应而导致的电磁屏蔽功能失效。
除此之外，本发明实施例提供的电磁屏蔽膜还可以与任意形状的需要电磁屏蔽的表面贴合，而且可以具备良好的可靠性、透光率和电磁屏蔽效果。另外，与传统的刚性电磁屏蔽玻璃相比，还具有更轻薄、成本更低等优点。
在本发明的另一个实施例中，第一电磁屏蔽层2可以包括银纳米线。
具体地，在本发明的实施例中，第一电磁屏蔽层2中用于实现电磁屏蔽功能的材料可以包括氧化铟锡(ITO)、石墨烯、各种金属丝网等，这里对于第一电磁屏蔽层2中用于实现电磁屏蔽功能的材料不做具体限定。
由于通过银纳米线制备的电磁屏蔽层具有方阻低、加工成本低、透光性好等优点，第一电磁屏蔽层2可以优选包括银纳米线。
在本发明的另一个实施例中，第一电磁屏蔽层2通过涂布银纳米线墨水来制备；其中，银纳米线在银纳米线墨水中的质量百分比可以为0.1％到0.5％。
具体地，第一电磁屏蔽层2可以通过涂布液来制备。对于包括银纳米线的第一电磁屏蔽层2来说，涂布液可以为银纳米线墨水。在这里，银纳米线墨水的制备可以是先将羟丙基甲基纤维素加入去离子水中制备具有粘度的水溶液，然后再将银纳米线分散在该水溶液中，进而形成银纳米线墨水，其中，银纳米线在银纳米线墨水中的质量百分比可以优选为0.1％到0.5％，以便形成的第一电磁屏蔽层2的方阻可以控制在5欧姆/□到50欧姆/□，进而为形成电磁屏蔽效果良好的电磁屏蔽膜奠定基础。例如，发明人进行了电磁屏蔽试验，结果显示，在300MHz～1.5GHz范围内，该基于银纳米线的电磁屏蔽膜的电磁屏蔽效率可以达到10dB到30dB。
为了使得形成的电磁屏蔽膜兼具较高的透光率和较高的电磁屏蔽效率，通过银纳米线墨水形成的第一电磁屏蔽层2的方阻可以优选为5欧姆/□到10欧姆/□。例如，发明人进行了光学性能试验和电磁屏蔽试验，结果显示，对于第一电磁屏蔽层2的方阻为5欧姆/□到10欧姆/□的电磁屏蔽膜来说，透光率可以大于80％，且电磁屏蔽效率可以大于25dB。
在本发明的另一个实施例中，银纳米线的表面可以镀有铜或镍。
具体地，为了增强电磁屏蔽膜的电磁屏蔽效果，第一电磁屏蔽层2中的银纳米线的表面可以镀有铜或镍，进一步降低电阻率。
在本发明的另一个实施例中，第一隔离保护层3的厚度可以为100um到125um。
具体地，为了使得第一隔离保护层3既能够很好地支撑第一电磁屏蔽层2，又确保第一隔离保护层3可以有效地将第一电磁屏蔽层2与第一电磁屏蔽层2靠近粘接层4一侧的外界空气隔离，避免外界空气透过粘接层4与第一电磁屏蔽层2发生反应，形成的第一隔离保护层3的厚度可以优选为100um到125um。
在本发明的另一个实施例中，第一隔离保护层3采用的材料可以包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)或聚碳酸酯。
具体地，在本发明的实施例中，第一隔离保护层3可以采用任意能够起到隔离效果的材料，例如聚酯等，这里对于第一隔离保护层3采用的材料类型不做具体限定。
为了确保电磁屏蔽膜的透光率，也为了确保电磁屏蔽层中的银纳米线可以与外界空气有效隔离，第一隔离保护层3采用的材料可以优选包括光学聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene Terephthalate，PET)或聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)，其中，PET具有优良的阻水阻气性能。
在本发明的另一个实施例中，粘接层4通过涂布粘接层4的涂布液来制备。
具体地，粘接层4也可以通过涂布液来制备，涂布液固化的方式可以为紫外光固化或热固化等，这里对于第一隔离保护层3上的粘接层4的涂布液的固化方式、固化条件和采用的材料不做具体限定。
在本发明的另一个实施例中，涂布后的粘接层4的涂布液通过加热进行固化；其中，加热的温度为100℃到135℃，加热的时间为30s到60s。
具体地，为了确保粘接层4的粘接强度，也为了确保生产效率，还为了避免第一隔离保护层3的收缩、翘曲等问题，粘接层4的涂布液可以优选通过加热进行固化；其中，加热的温度可以优选为100℃到135℃，加热的时间可以优选为30s到60s。
在本发明的另一个实施例中，粘接层4采用的材料可以包括硅胶或者亚克力胶。
具体地，为了防止粘接层4在贴合时产生气泡，也为了降低贴合难度，粘接层4采用的材料可以包括硅胶或者亚克力胶。但由于硅胶的排气性能好，贴合工艺简单，且无残胶，粘接层4采用的材料可以优选包括硅胶，从而使得电磁屏蔽膜在生产过程中能够便于返工，进而有效降低电磁屏蔽膜产品的不良率。
在本发明的另一个实施例中，在第一隔离保护层3的一侧制备第一电磁屏蔽层2之后，制备方法可以进一步包括：在第一电磁屏蔽层2远离第一隔离保护层3的一侧制备第二隔离保护层1；其中，第二隔离保护层1用于将第一电磁屏蔽层2与第一电磁屏蔽层2远离粘接层4一侧的外界空气隔离。形成的结构如图2所示。
应当理解，第一电磁屏蔽层2在远离粘接层4的另一侧也设置有隔离保护层，在这里，可以称为第二隔离保护层1。为了避免外界空气透过第二隔离保护层1与第一电磁屏蔽层2发生反应，第二隔离保护层1在制备的过程中可以致密地覆盖在第一电磁屏蔽层2的表面上。
进一步地，对于基于银纳米线的电磁屏蔽膜来说，第二隔离保护层1和第一隔离保护层3可以使银纳米线与外界空气有效地隔离，进而避免了银纳米线由于被外界空气的氧化或者硫化而导致的电磁屏蔽功能失效，延长了电磁屏蔽膜的使用寿命。
在本发明的另一个实施例中，第二隔离保护层1可以通过涂布第二隔离保护层1的涂布液来制备。
具体地，第二隔离保护层1也可以通过涂布液来制备，其中，涂布液固化的方式可以为紫外光(UV)固化或热固化等，这里对于第一电磁屏蔽层2上的第二隔离保护层1的涂布液的固化方式、固化条件和采用的材料不做具体限定。
在本发明的另一个实施例中，涂布后的第二隔离保护层1的涂布液可以通过紫外光进行固化；其中，紫外光的强度为400mJ/cm2，紫外光的照射时间为2min。
具体地，基于制备便捷以及节能的角度考虑，第二隔离保护层1的涂布液可以优选通过紫外光进行固化；其中，紫外光的强度可以优选为400mJ/cm2，紫外光的照射时间可以优选为2min。
通过上述紫外光固化方式形成的第二隔离保护层1，不仅使得第二隔离保护层1可以致密地覆盖在第一电磁屏蔽层2的表面上，使得第一电磁屏蔽层2与外界空气有效隔离，而且使得第二隔离保护层1可以具有优异的耐刮划性。例如，发明人进行了耐刮划性试验，其中，试验条件为#0000钢丝绒，1000g负荷，结果显示，该电磁屏蔽膜的耐磨程度可以高达3000次，从而有效地避免了外力对第一电磁屏蔽层2造成的损伤。
在本发明的另一个实施例中，第二隔离保护层1的厚度可以为10um到15um。
具体地，为了使得第一电磁屏蔽层2可以与外界空气有效隔离，也为了使得电磁屏蔽膜的耐刮划性可以得到更好地确保，还为了避免增加成本，第二隔离保护层1的厚度可以优选为10um到15um。
在本发明的另一个实施例中，第二隔离保护层1采用的材料可以包括丙烯酸树脂。
具体地，只要第二隔离保护层1可以使得第一电磁屏蔽层2可以与外界空气有效隔离，这里对于第二隔离保护层1采用的材料不做具体限定。但出于对阻水阻气等效果的考虑，第二隔离保护层1采用的材料可以优选包括丙烯酸树脂。
在本发明的另一个实施例中，第二隔离保护层1采用的材料可以包括氟树脂。
具体地，为了使得第二隔离保护层1可以兼具抗指纹的效果，第二隔离保护层1采用的材料可以优选包括氟树脂，从而避免了使用过程中指纹沾污影响视窗的观察效果。
在本发明的另一个实施例中，如图3和图4所示，该制备方法可以进一步包括：在粘接层4远离第一隔离保护层3的一侧粘贴粘接层保护层5。
具体地，电磁屏蔽膜在贴合使用前，粘接层保护层5可以贴附在粘接层4上，用于保护粘接层4的粘贴性能。当需要使用电磁屏蔽膜时，可以直接将粘接层保护层5揭除，将电磁屏蔽膜贴合在需要电磁屏蔽的场合即可。
在本发明的另一个实施例中，粘接层保护层5可以包括聚酯(PE)薄膜或者离型膜。
具体地，为了便于电磁屏蔽膜生产后的成卷，也为了确保粘接层4的粘接强度，粘接层保护层5可以优选采用聚酯薄膜或者离型膜。
在本发明的另一个实施例中，如图5所示，在第一隔离保护层3的另一侧制备粘接层4之前，制备方法进一步包括：在第一隔离保护层3的另一侧制备第二电磁屏蔽层6；其中，在第一隔离保护层3的另一侧制备粘接层4包括：在第二电磁屏蔽层6远离第一隔离保护层3的一侧制备粘接层4。
具体地，如图5所示，第二电磁屏蔽层6可以设置在第一隔离保护层3和粘接层4之间，可以与第一隔离保护层3以及粘接层4接触，其中，第二电磁屏蔽层6可以用于进一步增强电磁屏蔽膜的电磁屏蔽效果，且第二电磁屏蔽层6用于实现电磁屏蔽功能的材料可以与第一电磁屏蔽层2的相同，也可以与第一电磁屏蔽层2的不同，这里对于第二电磁屏蔽层6采用的材料的类型不做具体限定。
在本发明的另一个实施例中，涂布采用的方式包括喷涂、卷对卷涂布或狭缝涂布。
具体地，在本发明的实施例中，涉及涂布的工艺可以采用喷涂、狭缝涂布或微凹涂布等卷对卷涂布方式。由于卷对卷涂布便于连续生产，且生产效率高，良品率高，从而有效降低了电磁屏蔽膜的成本，因此，涂布采用的方式可以优选采用卷对卷涂布。
下面结合具体的例子对电磁屏蔽膜的制备方法进行描述。
图7是根据本发明一个实施例的电磁屏蔽膜的制备方法的示意性过程图。
如图7所示，该制备方法包括：
步骤710：在第一隔离保护层3上采用狭缝涂布的方式涂布一层银纳米线层2。
具体地，第一隔离保护层3采用的材料可以优选为PET，第一隔离保护层3的厚度为100um到125um，形成的银纳米线层2的方阻优选为5欧姆/□到10欧姆/□，其中，银纳米线层2由银纳米线墨水制备，银纳米线在银纳米线墨水中的质量百分比为0.3％到0.5％。在这里，银纳米线层2可以用于实现电磁屏蔽膜的电磁屏蔽功能。
步骤720：在银纳米线层2上采用狭缝涂布的方式涂布一层第二隔离保护层1。
具体地，第二隔离保护层1采用的材料可以包括丙烯酸树脂和氟树脂。第二隔离保护层1采用UV进行固化，其中，紫外光的强度可以优选为400mJ/cm2，紫外光的照射时间可以优选为2min。固化后的第二隔离保护层1的厚度优选为10um到15um，以便避免由于第二隔离保护层1的厚度太薄而导致的抗刮划能力和防止银纳米线与外界空气反应的能力降低，也避免了由于第二隔离保护层1的厚度太厚而导致的成本提高。
步骤730：在第一隔离保护层3的另一侧涂布粘接层4。
具体地，粘接层4采用的材料可以优选为硅胶或者亚克力胶，其中，涂布后的粘接层4可以采用加热的方式进行固化，其中，加热的温度可以优选为100℃到135℃，加热的时间可以优选为30s到60s，以便避免由于加热温度过低或者加热时间不够而导致的胶体固化不完全，性能不稳定，也可以避免由于加热温度偏低或者加热时间太长而导致的影响生产效率，以及可能导致的第一隔离保护层3收缩、翘曲等问题。
步骤740：在粘接层4上粘贴粘接层保护层5。
具体地，粘接层保护层5可以优选为聚酯(PE)保护膜，以便确保电磁屏蔽膜在使用前粘接层4的粘结强度。
步骤750：绕卷。
具体地，将生产的电磁屏蔽膜成品绕成卷状，以便后续的出库等操作。
在这里，形成的电磁屏蔽膜的结构可以如图4所示，发明人对该电磁屏蔽膜进行了光学性能试验和电磁屏蔽性能试验，结果显示，该基于银纳米线的电磁屏蔽膜的透光率可以大于80％，在300MHz～1.5GHz范围内，电磁屏蔽效率可以大于25dB，从而兼具透光性能和电磁屏蔽性能。
进一步地，发明人对电磁屏蔽效果的持久性也进行了测试，其中，参考对象与该电磁屏蔽膜的区别为粘接层4和第一电磁屏蔽层2之间不存在第一隔离保护层3。在高水汽和氧气的大气环境下静置500小时之后，分别对两种电磁屏蔽膜的电阻进行了测试，其中，参考对象的阻值增加了三倍，而该电磁屏蔽膜的阻值的增加量却可以达到小于10％。
除此之外，发明人还进行了耐刮划性试验，其中，试验条件为#0000钢丝绒，1000g负荷，结果显示，该电磁屏蔽膜的第二隔离保护层1的耐磨程度可以高达3000次，从而有效地避免了外力对电磁屏蔽膜的损伤。
上面描述了根据本发明实施例的电磁屏蔽膜的制备方法，下面描述根据本发明实施例的显示装置。
在本发明的实施例中，显示装置可以包括：如上述任意一个实施例所述电磁屏蔽膜。
具体地，在这里，显示装置可以为柔性显示装置，例如，手机、平板电脑、增强现实显示(AR)设备或虚拟现实显示(VR)设备等；显示装置还可以为普通的具有显示功能的装置，这里对于显示装置的类型不做具体限制。
显示装置的电磁屏蔽膜的各个技术细节可以参考电磁屏蔽膜的实施例，为了避免重复，这里不再赘述。
应当理解，上述各个实施例中的涉及的“一侧”是指便于其它膜层叠加的方向，而对应的“另一侧”是指与“一侧”相对的方向。例如，“一侧”可以指膜层的上方，然而“另一侧”则可以指该膜层的下方。另外，上述各个实施例中涉及的“第一”、“第二”等，只是用于对不同组成单元的区分，并不用于做顺序的限定。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种电磁屏蔽膜，其特征在于，包括：
粘接层；
叠加在所述粘接层一侧的第一隔离保护层，用于将第一电磁屏蔽层与所述第一电磁屏蔽层靠近所述粘接层一侧的外界空气隔离；以及
所述第一电磁屏蔽层。
2.根据权利要求1所述的电磁屏蔽膜，其特征在于，所述第一电磁屏蔽层包括银纳米线，其中，所述银纳米线的表面镀有铜或镍。
3.根据权利要求1所述的电磁屏蔽膜，其特征在于，所述第一隔离保护层的厚度为100um到125um。
4.根据权利要求1或3所述的电磁屏蔽膜，其特征在于，所述第一隔离保护层采用的材料包括聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚碳酸酯。
5.根据权利要求1所述的电磁屏蔽膜，其特征在于，进一步包括：
叠加在所述第一电磁屏蔽层一侧的第二隔离保护层，用于将所述第一电磁屏蔽层与所述第一电磁屏蔽层远离所述粘接层一侧的外界空气隔离。
6.根据权利要求5所述的电磁屏蔽膜，其特征在于，所述第二隔离保护层的厚度为10um到15um。
7.一种电磁屏蔽膜的制备方法，其特征在于，包括：
在第一隔离保护层的一侧制备第一电磁屏蔽层；以及
在所述第一隔离保护层的另一侧制备粘接层；
其中，所述第一隔离保护层用于将所述第一电磁屏蔽层与所述第一电磁屏蔽层靠近所述粘接层一侧的外界空气隔离。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述第一电磁屏蔽层通过涂布银纳米线墨水来制备；
其中，银纳米线在所述银纳米线墨水中的质量百分比为0.1％到0.5％。
9.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，在所述在第一隔离保护层的一侧制备第一电磁屏蔽层之后，所述制备方法进一步包括：
在所述第一电磁屏蔽层远离所述第一隔离保护层的一侧制备第二隔离保护层；
其中，所述第二隔离保护层用于将所述第一电磁屏蔽层与所述第一电磁屏蔽层远离所述粘接层一侧的外界空气隔离。
10.一种显示装置，其特征在于，包括：如权利要求1至6中任一项所述的电磁屏蔽膜。
CN201811605683.8A 2018-12-26 2018-12-26 电磁屏蔽膜、电磁屏蔽膜的制备方法和显示装置 Pending CN109575827A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811605683.8A CN109575827A (zh) 2018-12-26 2018-12-26 电磁屏蔽膜、电磁屏蔽膜的制备方法和显示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811605683.8A CN109575827A (zh) 2018-12-26 2018-12-26 电磁屏蔽膜、电磁屏蔽膜的制备方法和显示装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN109575827A true CN109575827A (zh) 2019-04-05

Family

ID=65932003

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201811605683.8A Pending CN109575827A (zh) 2018-12-26 2018-12-26 电磁屏蔽膜、电磁屏蔽膜的制备方法和显示装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN109575827A (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020211085A1 (zh) * 2019-04-19 2020-10-22 京东方科技集团股份有限公司 一种柔性显示屏及显示装置
CN113068389A (zh) * 2021-03-29 2021-07-02 浙江大华技术股份有限公司 电磁辐射屏蔽装置及其制作方法、通信线缆

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009054983A (ja) * 2007-01-17 2009-03-12 Mitsubishi Pencil Co Ltd 電波吸収材およびその製造方法
CN104010435A (zh) * 2014-06-12 2014-08-27 苏州城邦达力材料科技有限公司 一种具有电磁屏蔽功能的覆盖膜及其制造工艺
CN204031723U (zh) * 2014-07-07 2014-12-17 苏州斯迪克新材料科技股份有限公司 一种基于纳米银线的透明电磁屏蔽视窗贴膜
CN205864954U (zh) * 2016-07-26 2017-01-04 昆山雅森电子材料科技有限公司 高传输高屏蔽效能的电磁干扰屏蔽膜
CN106910551A (zh) * 2017-02-14 2017-06-30 哈尔滨工业大学深圳研究生院 一种电镀金属增强透明导电膜及其制备方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009054983A (ja) * 2007-01-17 2009-03-12 Mitsubishi Pencil Co Ltd 電波吸収材およびその製造方法
CN104010435A (zh) * 2014-06-12 2014-08-27 苏州城邦达力材料科技有限公司 一种具有电磁屏蔽功能的覆盖膜及其制造工艺
CN204031723U (zh) * 2014-07-07 2014-12-17 苏州斯迪克新材料科技股份有限公司 一种基于纳米银线的透明电磁屏蔽视窗贴膜
CN205864954U (zh) * 2016-07-26 2017-01-04 昆山雅森电子材料科技有限公司 高传输高屏蔽效能的电磁干扰屏蔽膜
CN106910551A (zh) * 2017-02-14 2017-06-30 哈尔滨工业大学深圳研究生院 一种电镀金属增强透明导电膜及其制备方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
童忠良等: "《新型功能复合涂料与应用》", 30 September 2007, 国防工业出版社 *

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020211085A1 (zh) * 2019-04-19 2020-10-22 京东方科技集团股份有限公司 一种柔性显示屏及显示装置
US11374080B2 (en) 2019-04-19 2022-06-28 Chengdu Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. Flexible display screen and display device
CN113068389A (zh) * 2021-03-29 2021-07-02 浙江大华技术股份有限公司 电磁辐射屏蔽装置及其制作方法、通信线缆

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5573158B2 (ja) フレキシブル透明導電フィルム及びこれを用いたフレキシブル機能性素子
CN103187119B (zh) 导电膜及其制备方法以及包含该导电膜的触摸屏
CN104795131B (zh) 透明导电体以及触摸面板
CN105158964B (zh) 液晶面板、液晶显示器及电子设备
CN105446555B (zh) 纳米银线导电层叠结构及触控面板
CN109575827A (zh) 电磁屏蔽膜、电磁屏蔽膜的制备方法和显示装置
CN108834388B (zh) 一种电磁屏蔽膜及其制备方法
CN104656990B (zh) 触控模组及其制造方法
CN102709702B (zh) 超材料的制造方法及由该方法制得的超材料制成的天线罩
CN102140316A (zh) 导电胶膜及其制备方法
CN105163478A (zh) 一种压敏型电磁防护膜
US20240023240A1 (en) Ultra-thin Composite Transparent Conductive Film and Preparation Method Therefor
CN103619155B (zh) 一种具有高阻隔性的电磁波屏蔽膜
CN106686965A (zh) 双层高效电磁屏蔽膜及其制造方法
CN106413238B (zh) 柔性电路板的制作方法
CN106597737B (zh) 一种背光模组、显示装置和导热薄膜的制备方法
WO2005022559A1 (ja) 転写用導電性フィルム、それを用いた透明導電膜の形成方法及び透明導電膜
CN114828605A (zh) 柔性透明耐腐蚀银纳米线基电磁屏蔽薄膜及其制备方法
CN103971788A (zh) 透明导电体及其制备方法
CN209669118U (zh) 电磁屏蔽膜和显示装置
CN109585629A (zh) 一种透明薄膜组成的led显示屏及其制作方法
CN108563369A (zh) 一种弯曲触摸显示屏及其制备方法
KR101272625B1 (ko) 터치 패널용 패드와 기판의 결합체
CN208954073U (zh) 一种可挠曲的新型触摸屏
CN108617084A (zh) 一种抗电磁干扰软性电路板和制作方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20190405