CN109461744A - 一种双面显示面板、制作方法以及显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种双面显示面板、制作方法以及显示装置，该双面显示面板包括第一薄膜晶体管阵列层、缓冲层、第一发光功能层以及第二发光功能层。缓冲层位于第一发光功能层和第二发光功能层之间，具有相对设置的第一表面以及第二表面，且第一表面和第二表面均为平面。本方案中，通过设置第一发光功能层和第二发光功能层，实现双面发光。并且在制作该双面显示面板时，可以先在缓冲层的一侧制作各膜层和发光功能层，然后再在缓冲层另一侧制作各膜层和发光功能层，以缓冲层作为设置支撑衬底的位置，有利于减小显示面板的制作工艺对发光功能层产生的影响，另一方面，与单面显示面板的制作工艺之间的兼容性好，利于制作。

Description

一种双面显示面板、制作方法以及显示装置
技术领域
本发明涉及显示面板技术领域，更具体地说，涉及一种双面显示面板、制作方法以及显示装置。
背景技术
随着显示面板的快速发展，为了满足用户需求的多样性，双面发光的显示面板成为当前的一大发展趋势。
目前，显示面板的制作过程如下：首先在生长衬底上生长发光器件，以微发光二极管(micro-LED)为例，在生长衬底上依次形成外延层、micro-LED层、牺牲层以及稳定层。然后将转移衬底与稳定层相粘合，之后，刻蚀掉生长衬底、外延层以及牺牲层，此时，转移衬底上具有micro-LED。最后可以利用转移头将micro-LED转移到最终的接收衬底上。
然而，发明人发现，目前的接收衬底通常为LCD、OLED的Array衬底或者无源阵列衬底，使得显示面板只能单面发光，有悖当前显示面板双面发光的发展趋势，因此，如何提供一种双面显示面板，能够进行双面发光，是本领域技术人员亟待解决的一大技术问题。
发明内容
有鉴于此，本发明提供了一种双面显示面板、制作方法以及显示装置，能够进行双面发光。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种双面显示面板，包括：第一薄膜晶体管阵列层、第一发光功能层、第二发光功能层和缓冲层；
所述第一发光功能层包括多个第一发光元件，所述第二发光功能层包括多个第二发光元件；
所述第一薄膜晶体管阵列层位于所述第一发光功能层和所述第二发光功能层之间，所述缓冲层位于所述第一发光功能层和所述第二发光功能层之间；
所述缓冲层具有相对设置的第一表面和第二表面，所述第一表面位于所述第二表面靠近所述第一发光功能层的一侧，所述第一表面和所述第二表面均为平面。
一种双面显示面板的制作方法，包括：
提供第一基板；
在所述第一基板的一侧设置牺牲层；
在所述牺牲层远离所述第一基板一侧设置缓冲层；
在所述缓冲层远离所述牺牲层一侧设置第一薄膜晶体管阵列层；
在所述第一薄膜晶体管阵列层远离所述缓冲层一侧设置第二发光功能层；
去除所述第一基板和所述牺牲层；
在所述缓冲层远离所述第二发光功能层一侧设置第一发光功能层。
一种显示装置，包括任一项上述的双面显示面板。
与现有技术相比，本发明所提供的技术方案具有以下优点：
本发明所提供的一种双面显示面板，包括第一薄膜晶体管阵列层、缓冲层、第一发光功能层以及第二发光功能层。缓冲层位于第一发光功能层和第二发光功能层之间，具有相对设置的第一表面以及第二表面，且第一表面和第二表面均为平面。本方案中，通过设置第一发光功能层和第二发光功能层，实现双面发光，缓冲层位于第一发光功能层和第二发光功能层之间，则在制作该双面显示面板时，可以先在缓冲层的一侧制作各膜层和发光功能层，然后再在缓冲层另一侧制作各膜层和发光功能层，以缓冲层作为设置支撑衬底的位置，有利于减小显示面板的制作工艺对发光功能层产生的影响，另一方面，与单面显示面板的制作工艺之间的兼容性好，利于制作。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种双面显示面板的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的一种双面显示面板的制作方法的流程示意图；
图3为本发明实施例提供的一种双面显示面板的又一结构示意图；
图4为本发明实施例提供的一种双面显示面板的又一结构示意图；
图5为本发明实施例提供的一种双面显示面板的制作方法的又一流程示意图；
图6为本发明实施例提供的一种双面显示面板的又一结构示意图；
图7为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
结合背景技术，发光器件最终转移到接收衬底上，而接收衬底遮光，因此该显示面板只能进行单面发光，与显示面板双面发光的发展趋势相违背。
基于此，本发明实施例提供了一种双面显示面板，如图1所示，图1为本发明实施例提供的一种双面显示面板的结构示意图，该双面显示面板包括：第一薄膜晶体管阵列层10、第一发光功能层11、第二发光功能层12以及缓冲层13。
其中，第一发光功能层11包括多个第一发光元件14，第二发光功能层12包括多个第二发光元件15。需要说明的是，在本实施例中，第一发光元件14可以是无机发光二极管，还可以是有机发光二极管。同样，第二发光元件15也可以是无机发光二极管或有机发光二极管。
并且，在本实施例中，第一发光元件14可以与第二发光元件15选用类型相同的发光二极管，例如第一发光元件14为有机发光二极管时，第二发光元件15也选用有机发光二极管。当然，在本实施例中，第一发光元件14的类型还可以与第二发光元件15的类型不同，例如，第一发光元件14为无机发光二极管时，第二发光元件15则选用有机发光二极管，或者，第一发光元件14为有机发光二极管时，第二发光元件15则选用无机发光二极管。
除此，第一发光功能层11在包括多个第一发光元件14的同时，还可以包括至少一个第二发光元件15，即此时，第一发光功能层11中部分发光元件是第一发光元件，部分发光元件是第二发光元件。同样，第二发光功能层12包括多个第二发光元件15的同时，还可以包括至少一个第一发光元件14。在本实施例中，同一发光功能层中的不同发光元件可以单独制备，并不限定二者的制备顺序。例如，当第一发光功能层11包括第一发光元件14以及第二发光元件15时，可以先在缓冲层13的一侧形成第一发光元件14，之后在缓冲层13的同一侧的表面形成第二发光元件15。
具体的，本实施例提供的双面显示面板中，第一薄膜晶体管阵列层10位于第一发光功能层11以及第二发光功能层12之间，缓冲层13也同样位于第一发光功能层11以及第二发光功能层12之间。需要说明的是，在本实施例中，不限定第一薄膜晶体管阵列层10与缓冲层13的位置关系，例如，如图1所示，缓冲层13可以位于第一薄膜晶体管阵列层10与第一发光功能层11之间。
然而，无论缓冲层13与第一薄膜晶体管阵列层10是何种位置关系，本实施例提供的双面显示面板中，缓冲层13具有相对设置的第一表面以及第二表面。在本实施例中，第一表面以及第二表面均为平面，并且定义第一表面为位于第二表面靠近第一发光功能层一侧的表面。
具体的，在制备本方案提供的双面显示面板时，缓冲层13所在的位置可以作为设置临时支撑衬底的位置。在缓冲层13的第一表面制作第一膜层以及第一发光功能层11，其中，第一膜层可以包括薄膜晶体管阵列层以及封装层等。该制作工艺可以采用现有技术中单面显示面板的制作工艺，制作工艺之间的兼容性较好。在缓冲层13的第一表面制备完第一发光功能层后，本实施还可以在缓冲层13的第二表面制作第二膜层以及第二发光功能层12，其中，第二膜层可以与位于缓冲层13第一表面的第一膜层相同，例如，可以包括薄膜晶体管阵列层以及封装层等，当然，第二膜层还可以与上述第一膜层不同。
基于上述结构，第一发光功能层11向第一发光功能层11远离缓冲层13的第一表面的一侧发光，第二发光功能层12向第二发光功能层12远离缓冲层13的第二表面的一侧发光，通过薄膜晶体管阵列层对第一发光功能层11以及第二发光功能层12进行控制，进而实现了显示面板的双面发光。
值得一提的是，本实施例中，在制备工艺过程中，缓冲层可以起到缓冲作用，进而减小TFT制作(比如高温制程等)对衬底造成的损伤或影响。除此，缓冲层13还是在有源层以及衬底层之间形成的一个过渡膜层，用于使有源层与衬底层结合的更加稳固。除此，该缓冲层13可以选用透明的材质。
第一薄膜晶体管阵列层10为具有薄膜晶体管的膜层，在本实施例中，该第一薄膜晶体管阵列层10中的薄膜晶体管至少驱动第二发光功能层12，除此，该薄膜晶体管还可以对第一发光功能层11进行开关控制，其中，第一发光功能层11可以与第二发光功能层12同时被控制发光，还可以与第二发光功能层12分别独立被控制发光。
除此，结合图1的结构，本实施例还提供了一种双面显示面板的制作方法，如图2所示，包括步骤：
S21、提供第一基板；
S22、在所述第一基板一侧设置牺牲层；
S23、在所述牺牲层远离所述第一基板一侧设置缓冲层；
S24、在所述缓冲层远离所述牺牲层一侧设置第一薄膜晶体管阵列层；
S25、在所述第一薄膜晶体管阵列层远离所述缓冲层一侧设置第二发光功能层；
S26、去除所述第一基板和所述牺牲层；
S27、在所述缓冲层远离所述第一发光功能层一侧设置第一发光功能层。
其中，第一基板可以为硬性的基板，还可以为柔性基板。牺牲层可以为柔性聚酰亚胺(polyimide，PI)衬底，还可以为绝缘材质形成的膜层。
具体的，结合上述制作方法，首先在缓冲层13的第二表面形成第一薄膜晶体管阵列层10，然后在第一薄膜晶体管阵列层10远离缓冲层的表面形成第二发光功能层12，对应步骤S21-S25，待第二发光功能层12形成在缓冲层13的第二表面后，对该半导体中间件进行翻转，以使第一基板和牺牲层位于半导体中间件的顶层，然后执行步骤S26，在该缓冲层13的第一表面形成第一发光功能层11。
可见，本实施例中，通过设置第一发光功能层和第二发光功能层，实现双面发光，缓冲层位于第一发光功能层和第二发光功能层之间，则在制作该双面显示面板时，可以先在缓冲层的一侧制作各膜层和发光功能层，然后再在缓冲层另一侧制作各膜层和发光功能层，以缓冲层作为设置支撑衬底的位置，有利于减小显示面板的制作工艺对发光功能层产生的影响。另一方面，第一发光功能层形成在缓冲层的第一表面所在的一侧的工序，与第二发光功能层形成在缓冲层第二表面所在的一侧的工序相互独立、互不干扰。并且，单独制备第一发光功能层以及单独制备第二发光功能层的制作工艺与现有技术中制备单面发光面板的工艺兼容，即本方案在实现了双面发光的前提下，并没有增加制作难度。
在上述实施例的基础上，本实施例提供了一种第一薄膜晶体管阵列层10的具体实现结构，如图3所示，图3为本实施例提供的一种第一薄膜晶体管阵列层的结构示意图。在本实施例中，该第一薄膜晶体管阵列层10包括多个薄膜晶体管16，至少一个薄膜晶体管既与第一发光元件电连接，又与第二发光元件电连接。
具体的，在本实施例中，薄膜晶体管16均与第一发光元件以及第二发光元件相连，同时控制第一发光元件以及第二发光元件发光。由于第一发光元件与第二发光元件共用一个薄膜晶体管，因此可以降低触控显示面板中薄膜晶体管的使用数量，进而降低了触控面板的成本以及厚度。
在本发明的其他可选实施例中，薄膜晶体管16还可以根据与发光元件的连接关系不同，分成薄膜晶体管一、薄膜晶体管二以及薄膜晶体管三。其中，薄膜晶体管一只与第一发光元件电连接，薄膜晶体管二只与第二发光元件电连接，薄膜晶体管三既与第一发光元件相连，又与第二发光元件相连。
当薄膜晶体管一导通时，与该薄膜晶体管一电连接的第一发光元件进行发光。当薄膜晶体管二导通时，与该薄膜晶体管二电连接的第二发光元件进行发光。当薄膜晶体管三导通时，与该薄膜晶体管三电连接的第一发光元件以及第二发光元件同时发光。因此，可以通过控制薄膜晶体管的开启和关断，实现对第一发光元件以及第二发光元件的发光控制。例如，当需要双面显示屏的一面显示屏中的部分显示区进行显示时，可以控制位于该待显示区下方的发光元件进行发光。
需要说明的是，在本实施例中，并不限定第一薄膜晶体管阵列层10中薄膜晶体管的具体结构，例如，薄膜晶体管可以为顶栅结构，还可以为底栅结构，如背沟道刻蚀结构。
具体的，当薄膜晶体管为顶栅结构时，其制作流程可以为：在缓冲层的第一表面或者第二表面依次形成第一有源层、第一栅绝缘层、第一栅极、第一绝缘层、第一源极以及第一漏极。
当薄膜晶体管为背沟道刻蚀结构时，其制作流程可以为：在缓冲层的第一表面或者第二表面依次形成第二栅极、第二绝缘层、第二有源层、第二源极以及第二漏极。
其中，顶栅结构的薄膜晶体管的制造工艺较为简单，所需光刻板数量较少，成本较低。而底栅结构的薄膜晶体管中，栅极以及绝缘层可以作为半导体层薄膜的光学保护层，以防止光照射到半导体层而产生光生载流子，破坏半导体层的电学特性，因此，底栅结构的薄膜晶体管的TFT性能更加稳定。
更进一步的，在本实施例中，当薄膜晶体管既与第一发光元件相连，又与第二发光元件相连时，此时由于是同一个薄膜晶体管同时控制两面发光元件，假设位于缓冲层第一表面的第一发光元件与位于缓冲层第二表面的与该第一发光元件位置相对应的第二发光元件共用同一个薄膜晶体管，此时双面显示面板的正面显示画面与背面显示画面呈镜面对称。例如，双面显示面板的正面显示一条彩虹，背面显示一条与正面彩虹镜面对称的彩虹。
因此，对于双面显示的画面正反不影响视觉观看的情况下，第一发光元件以及第二发光元件可以共用同一个薄膜晶体管，进而减少整个显示面板的薄膜晶体管数量，降低成本。
在上述实施例的基础上，结合图1，本实施例提供了在缓冲层位于第一薄膜晶体管阵列层和第一发光功能层之间的结构下，双面显示面板的一种具体实现结构，如图3所示，图3为本发明实施例提供的一种双面显示面板的具体结构示意图。该双面显示面板还包括第一电极17，该第一电极17位于第一发光功能层11与缓冲层13之间，且与第一发光元件14电连接。
具体的，缓冲层13具有至少一个第一过孔18，以使位于第一薄膜晶体管阵列层的薄膜晶体管可以通过该第一过孔18与上述第一电极17电连接。当薄膜晶体管的第一栅极上加载导通电压后，薄膜晶体管导通，第一源极或第一漏极通过第一过孔，将电信号传递至第一电极17。
其中，第一发光功能层11中的第一发光元件14的一端与第一电极17电连接，第一发光元件14的另一端与阴极电极35a电连接，通过控制第一电极17以及阴极电极35a上的电压，能够实现对第一发光元件14的发光亮度调节。
更进一步的，本实施例提供的双面显示面板还包括位于第一薄膜晶体管阵列层10和第二发光功能层之间的平坦化层19，以及位于平坦化层19以及第二发光元件15之间的第二电极20，该第二电极20与第二发光元件15电连接。其中，平坦化层能够平整薄膜晶体管等器件造成的第一薄膜晶体管阵列层中的面内段差。
同理，由于第二电极20需要与薄膜晶体管的源极或漏极电连接，因此，在本实施例中，平坦化层19中具有至少一个第一电极过孔21，薄膜晶体管通过该电极过孔21与第二电极20电连接。
具体的，第二发光元件15的一端与第二电极20电连接，第二发光元件15的另一端与阴极电极35b电连接，通过控制第二电极20以及阴极电极35b上的电压，能够实现对第二发光元件15的发光亮度调节。
需要说明的是，在本实施例中，该第二发光元件的控制原理和上述第一发光元件的控制原理相同，且第一发光元件与第二发光元件可以共用一个薄膜晶体管。当二者共用同一个薄膜晶体管时，第一发光元件以及第二发光元件的阳极电压相同，但，可以通过调节与第一发光元件的阴极以及第二发光元件的阴极相连的阴极电极上的加载电压值，以实现双面显示的亮度不同。
除此，在本实施例中，同一个第一电极可以同时与多个第一发光元件电连接相连，同理，同一个第二电极也可以同时与多个第二发光元件电连接。通过设置与第一电极相连的第一发光元件的数量以及与第二电极相连的第二发光元件的数量，也可以实现调节双面显示面板两侧亮度的效果。例如，设置两个第一发光元件与第一电极电连接，设置一个第二发光元件与第二电极电连接，假设第一发光元件与第二发光元件的亮度相同，那么可以实现显示面板中第一发光元件所在一侧的亮度大于第二发光元件所在一侧的亮度。
进一步的，本实施例还提供了一种第一薄膜晶体管阵列层的具体实现结构，如图3所示。该双面显示面板包括第一绝缘层22，薄膜晶体管包括栅极23、源极24、漏极25以及有源层26。
其中，所述第一绝缘层22位于所述有源层26所在膜层与所述源极24所在膜层之间，该第一绝缘层22具有至少一个第二过孔27，所述源极24通过所述第二过孔27与所述有源层26电连接。
所述第一绝缘层22位于所述有源层26所在膜层与所述漏极25所在膜层之间，所述第一绝缘层22具有至少一个第二过孔27，所述漏极25通过所述第二过孔27与所述有源层26电连接。
值得一提的是，在本实施例中，所述第一过孔与所述第二过孔至少部分重叠，且所述重叠部分相互贯通，以使得第一电极通过第一过孔以及第二过孔与源极电连接。对于共用同一个薄膜晶体管的情况下，第一过孔与第二过孔部分重叠的同时，第一过孔还可以与第二过孔部分重叠，或者不重叠。
为了使双面显示面板的两面显示的画面不同，可以对上述第一发光元件以及第二发光元件进行独立控制，如，第一薄膜晶体管阵列层包括沿平行于缓冲层依次排列的薄膜晶体管，其中，部分薄膜晶体管与第一发光功能层电连接，部分薄膜晶体管与第二发光功能层电连接。
本实施例提供了另一种双面显示面板，如图4所示，图4为本实例提供的一种双面显示面板的又一结构示意图。该双面显示面板在上述实施例的基础上，还包括第二薄膜晶体管阵列层28。
该所述第二薄膜晶体管阵列层28位于所述第一发光功能层11和所述第二发光功能层12之间，且所述第二薄膜晶体管阵列层28位于所述第一薄膜晶体管阵列层10远离所述第二发光功能层12一侧。其中，所述第一薄膜晶体管阵列层10和所述第二薄膜晶体管阵列层28均包括多个薄膜晶体管。
对于所述第一薄膜晶体管阵列层10，至少一个所述薄膜晶体管与所述第二发光元件电连接。对于所述第二薄膜晶体管阵列层28，至少一个所述薄膜晶体管与所述第一发光元件电连接。
可见，在本实施例中，第一薄膜晶体管阵列层用于控制第二发光功能层的发光情况，第二薄膜晶体管阵列层用于控制第一发光功能层的发光情况，实现第一发光功能层以及第二发光功能层的单独控制。
具体的，在本实施例中，第一薄膜晶体管阵列层与第二薄膜晶体管阵列层之间设置有缓冲层，且第一薄膜晶体管阵列层位于第二发光功能层与缓冲层之间，第二薄膜晶体管阵列层位于第一发光功能层与缓冲层之间。
其中，缓冲层位于第一薄膜晶体管阵列层和第二薄膜晶体管阵列层之间的方案，能够进一步简便制作流程，具体的，如图5所示，制作流程如下：
S51、提供第一基板；
S52、在所述第一基板一侧设置牺牲层；
S53、在所述牺牲层远离所述第一基板一侧设置缓冲层；
S54、在所述缓冲层远离所述牺牲层一侧设置第一薄膜晶体管阵列层；
S55、在所述第一薄膜晶体管阵列层远离所述缓冲层一侧设置第二发光功能层；
S56、去除所述第一基板和所述牺牲层；
S57、在所述缓冲层远离所述第二发光功能层一侧设置第二薄膜晶体管阵列层；
S58、在所述第二薄膜晶体管阵列层远离所述缓冲层一侧设置第一发光功能层。
可见，本方案在去除第一基板以及牺牲层后的缓冲层的另一个表面所在的一侧形成第二薄膜晶体管阵列层，而，形成第二薄膜晶体管阵列层以及第一发光功能层的制作流程，与在缓冲层的第一表面形成第一薄膜晶体管阵列层以及第二发光功能层的制作流程兼容，因此，本实施例提供的双面显示面板，并不会增加制造的工艺难度，只需在缓冲层的一面形成薄膜晶体管阵列层和发光层后，对当前的半导体中间件进行翻转，再在缓冲层的另一个表面顺序形成另一个发光层或薄膜晶体管阵列层即可。
同样，如图6所示，本实施例提供的双面显示面板中，还可以包括第一平坦化层29和第二平坦化层30，其中，所述第一平坦化层29位于所述第一发光功能层与所述第二薄膜晶体管阵列层之间，所述第二平坦化层30位于所述第二发光功能层与所述第一薄膜晶体管阵列层之间。其中，第一平坦化层以及第二平坦化层的功能与上述平坦化层的功能相同，均为平整薄膜晶体管等器件造成的第一薄膜晶体管阵列层中的面内段差以及第二薄膜晶体管阵列层中的段差。
在上述实施例的基础上，该双面显示面板还包括第三电极31以及第四电极32。该第三电极31位于第一发光功能层与第一平坦化层之间，且与第一发光元件14电连接。该第四电极32位于第二发光功能层与第二平坦化层之间，且与第二发光元件15电连接。
具体的，第一平坦化层具有至少一个第三电极过孔33，以使位于第二薄膜晶体管阵列层的薄膜晶体管可以通过该第三电极过孔33与上述第三电极31电连接。当薄膜晶体管的栅极上加载导通电压后，薄膜晶体管导通，源极或漏极通过第三电极过孔33，将电信号传递至第三电极31。
其中，第一发光功能层中的第一发光元件14的一端与第三电极31电连接，第一发光元件14的另一端与阴极电极36a电连接，通过控制第三电极31以及阴极电极36a上的电压，能够实现对第一发光元件14的发光亮度调节。
同样，在本方案中，缓冲层的两个表面的结构相同，因此，第二平坦化层具有至少一个第四电极过孔34，以使位于第一薄膜晶体管阵列层的薄膜晶体管可以通过该第四电极过孔34与上述第四电极32电连接。当薄膜晶体管的栅极上加载导通电压后，薄膜晶体管导通，源极或漏极通过四电极过孔34，将电信号传递至第四电极32。
其中，第二发光功能层中的第二发光元件15的一端与第四电极32电连接，第二发光元件15的另一端与阴极电极36b电连接，通过控制第四电极32以及阴极电极36b上的电压，能够实现对第二发光元件的发光亮度调节。
结合上述各膜层的制作流程，可知，在本实施例中，首先在第一基板上形成牺牲层，然后在牺牲层远离基板一侧设置缓冲层。此时，缓冲层远离基板的表面为第一表面，在缓冲层的第一表面上形成第一薄膜晶体管阵列层以及第二发光功能层。然后去除基板以及牺牲层，裸露出缓冲层的一个表面，该表面为第二表面。之后在缓冲层的第二表面上形成第二薄膜晶体管阵列层或第一发光功能层。上文已经阐述，本实施例中，第一发光功能层以及第二发光功能层可以同时为无机发光二极管，还可以同时为有机发光二极管，还可以一者为有机发光二极管，一者为无机发光二极管。
但，发明人考虑到无机发光二极管的耐热能力较强，因此在本实施例中，可以设定第一发光元件和所述第二发光元件中的至少一者为无机发光二极管。
在上述实施例的基础上，本实施例还提供了一种发光功能层为无机发光二极管时的发光功能层的具体结构，该发光功能层还包括像素定义层和电极层，所述像素定义层包括多个开口，至少一个所述无机发光二极管位于一个所述开口内，所述电极层包括多个电极块，所述电极块与所述开口对应设置。
即本方案中一个开口内，可以设置至少一个无机发光二极管，当其中某个无机发光二极管故障时，该开口内还具有未发生故障的无机发光二极管，使得开口还能透光。除此，多个无机发光二极管还可以根据调节阴极电压的不同，进行开口亮度的控制。或者，在第一发光功能层中的一个开口内设置的无机发光二极管的数量与在第二发光功能层中的一个开口内设置无机发光二极管的数量不同，从而能够调节双面显示面板的两侧发光具有不同亮度。
除此，本实施例还提供了一种显示装置，如图7所示，包括上述的双面显示面板。该显示装置的工作原理请参见上述双面显示面板的原理，在此不重复叙述。
综上，本发明提供了一种双面显示面板、制作方法以及显示装置，该双面显示面板包括第一薄膜晶体管阵列层、缓冲层、第一发光功能层以及第二发光功能层。缓冲层位于第一发光功能层和第二发光功能层之间，具有相对设置的第一表面以及第二表面，且第一表面和第二表面均为平面。本方案中，通过设置第一发光功能层和第二发光功能层，实现双面发光。并且在制作该双面显示面板时，可以先在缓冲层的一侧制作各膜层和发光功能层，然后再在缓冲层另一侧制作各膜层和发光功能层，以缓冲层作为设置支撑衬底的位置，有利于减小显示面板的制作工艺对发光功能层产生的影响，另一方面，与单面显示面板的制作工艺之间的兼容性好，利于制作。
本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (11)

1.一种双面显示面板，其特征在于，包括：第一薄膜晶体管阵列层、第一发光功能层、第二发光功能层和缓冲层；
所述第一发光功能层包括多个第一发光元件，所述第二发光功能层包括多个第二发光元件；
所述第一薄膜晶体管阵列层位于所述第一发光功能层和所述第二发光功能层之间，所述缓冲层位于所述第一发光功能层和所述第二发光功能层之间；
所述缓冲层具有相对设置的第一表面和第二表面，所述第一表面位于所述第二表面靠近所述第一发光功能层的一侧，所述第一表面和所述第二表面均为平面。
2.根据权利要求1所述的双面显示面板，其特征在于，所述第一薄膜晶体管阵列层包括多个薄膜晶体管，至少一个所述薄膜晶体管既与所述第一发光元件电连接，又与所述第二发光元件电连接。
3.根据权利要求2所述的双面显示面板，其特征在于，所述缓冲层位于所述第一薄膜晶体管阵列层和所述第一发光功能层之间；
所述双面显示面板还包括第一电极，所述第一电极位于所述第一发光元件和所述缓冲层之间，且所述第一电极与所述第一发光元件电连接；
所述缓冲层具有至少一个第一过孔，所述薄膜晶体管通过所述第一过孔与所述第一电极电连接。
4.根据权利要求3所述的双面显示面板，其特征在于，还包括第一绝缘层；
所述薄膜晶体管包括栅极、源极、漏极以及有源层；其中，
所述第一绝缘层位于所述有源层所在膜层与所述源极所在膜层之间，所述第一绝缘层具有至少一个第二过孔，所述源极通过所述第二过孔与所述有源层电连接，和/或，所述第一绝缘层位于所述有源层所在膜层与所述漏极所在膜层之间，所述第一绝缘层具有至少一个第二过孔，所述漏极通过所述第二过孔与所述有源层电连接；
所述第一过孔与所述第二过孔至少部分重叠，且所述重叠部分相互贯通。
5.根据权利要求1所述的双面显示面板，其特征在于，还包括第二薄膜晶体管阵列层，所述第二薄膜晶体管阵列层位于所述第一发光功能层和所述第二发光功能层之间，且所述第二薄膜晶体管阵列层位于所述第一薄膜晶体管阵列层远离所述第二发光功能层的一侧，所述第一薄膜晶体管阵列层和所述第二薄膜晶体管阵列层均包括多个薄膜晶体管；
对于所述第一薄膜晶体管阵列层，至少一个所述薄膜晶体管与所述第二发光元件电连接，对于所述第二薄膜晶体管阵列层，至少一个所述薄膜晶体管与所述第一发光元件电连接。
6.根据权利要求5所述的双面显示面板，其特征在于，所述缓冲层位于所述第一薄膜晶体管阵列层和所述第二薄膜晶体管阵列层之间。
7.根据权利要求1所述的双面显示面板，其特征在于，所述第一发光元件和所述第二发光元件中的至少一者为无机发光二极管。
8.根据权利要求7所述的双面显示面板，其特征在于，所述无机发光二极管对应的发光功能层还包括像素定义层和电极层，所述像素定义层包括多个开口，至少一个所述无机发光二极管位于一个所述开口内，所述电极层包括多个电极块，所述电极块与所述开口对应设置。
9.一种双面显示面板的制作方法，其特征在于，
提供第一基板；
在所述第一基板的一侧设置牺牲层；
在所述牺牲层远离所述第一基板一侧设置缓冲层；
在所述缓冲层远离所述牺牲层一侧设置第一薄膜晶体管阵列层；
在所述第一薄膜晶体管阵列层远离所述缓冲层一侧设置第二发光功能层；
去除所述第一基板和所述牺牲层；
在所述缓冲层远离所述第二发光功能层一侧设置第一发光功能层。
10.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，在去除所述第一基板和所述牺牲层之后还包括：
在所述缓冲层远离所述第二发光功能层的一侧设置第二薄膜晶体管阵列层，所述第一发光功能层位于所述第二薄膜晶体管阵列层远离所述缓冲层一侧。
11.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-8任一项所述的双面显示面板。
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