CN109452156A - 一种提高早梨茎尖脱毒效果的方法 - Google Patents

一种提高早梨茎尖脱毒效果的方法 Download PDF

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尹明华
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    • AHUMAN NECESSITIES
    • A01AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
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Abstract

提高早梨茎尖脱毒效果的方法:用三种含有石墨烯量子点和碳纳米管的培养基依次对早梨试管苗进行培养,热处理后切取茎尖培养90d后,可形成成活率和脱毒率高的健壮试管苗。本发明与现有技术比较,早梨茎尖成活率高,且形成的试管苗脱毒效果好,生长健壮。

Description

一种提高早梨茎尖脱毒效果的方法
技术领域:
本发明涉及一种提高植物茎尖脱毒效果的方法,确切地说是一种提高早梨茎尖脱毒效果的方法。
背景技术:
上饶早梨为蔷薇科蔷薇属植物,主要品种有六月雪和黄皮消等,在江西上饶县主要分布在花厅镇和田墩镇等乡镇。上饶早梨,成熟早,且表皮薄、果肉嫩、香甜可口,具有生津润肺、清热化痰、解热消暑之功效,老少皆宜。上饶早梨营养丰富,据测定,100g含8g苹果酸、8g葡萄糖、10g碳水化合物、1g蛋白质、0.1g脂肪、5mg钙、6mg磷。上饶早梨不但可以鲜食,还可作为中成药“雪梨膏”的绝佳原料。近年来,上饶早梨的种植业已经得到迅速的发展,上饶早梨的农业产业化龙头企业不断增加,上饶早梨生产基地达2.2万亩,产量达三万多吨。目前,上饶早梨存在病毒病害严重、果实产量下降、不耐贮藏、种性退化、品质变劣等问题,有的甚至整株死亡而绝收,严重影响了上饶早梨生产。茎尖脱毒技术是获得脱毒苗最为核心的技术。茎尖脱毒培养的两个关键技术环节是茎尖的成活率和脱毒率。常规的茎尖培养脱毒法容易造成成活率低,脱毒率效果不好。针对这些问题,本发明开发了一种提高早梨茎尖脱毒效果的方法,可为上饶早梨的脱毒提供技术基础。
发明内容:
本发明的目的是提供一种成活率高、脱毒效果好、生长健壮的提高早梨茎尖脱毒效果的方法。实现本发明目的的技术方案是,一种提高早梨茎尖脱毒效果的方法,其特征在于有以下步骤:(1)将早梨试管苗转移到培养基一:MS+0.3-0.5g/L石墨烯量子点+30g/L蔗糖+0g/L琼脂,接种后将材料放入培养室进行常规条件培养;(2)在培养基一上培养30d后,将早梨试管苗转移到培养基二:MS+0.3-0.5g/L碳纳米管+30g/L蔗糖+7.5g/L琼脂,接种后将材料放入培养室进行常规条件培养;(3)在培养基二上培养30d后,将早梨试管苗转移到培养基三:MS+0.3-0.5g/L石墨烯量子点+03-0.5g/L碳纳米管+30g/L蔗糖+7.5g/L琼脂,接种后将材料放入培养室进行常规条件培养;(4)在培养基三上培养30d后,将早梨试管苗转移到光照培养箱进行常规条件热处理;(5)热处理后,将早梨试管苗置于超净工作台内,在显微镜下切取常规长度的茎尖接种到液体培养基四:0.4M蔗糖+0.3-0.5g/L石墨烯量子点+0.3-0.5g/L碳纳米管+0.1M CaCl2,进行常规包埋;(6)包埋后,将茎尖包埋珠接种到常规再生培养基上,后将材料放入培养室进行常规条件培养;(7)培养90d后,早梨形成的试管苗成活率高、生长健壮、脱毒率高。
具体实施方式:
结合下述实施例对本发明作进一步说明:
(1)第一次培养
将早梨试管苗转移到培养基一:MS+0.3-0.5g/L石墨烯量子点+30g/L蔗糖+0g/L琼脂,接种后将材料放入培养室进行常规条件培养,培养室培养条件为:温度25±2℃,光照时间16h/d,光强1500-2500lx。
(2)第二次培养
在培养基一上培养30d后,将早梨试管苗转移到培养基二:MS+0.3-0.5g/L碳纳米管+30g/L蔗糖+7.5g/L琼脂,接种后将材料放入培养室进行常规条件培养,培养室培养条件为:温度25±2℃,光照时间16h/d,光强1500-2500lx。
(3)第三次培养
在培养基二上培养30d后,将早梨试管苗转移到培养基三:MS+0.3-0.5g/L石墨烯量子点+0.3-0.5g/L碳纳米管+30g/L蔗糖+7.5g/L琼脂,接种后将材料放入培养室进行常规条件培养,培养室培养条件为:温度25±2℃,光照时间16h/d,光强1500-2500lx。
(4)热处理
在培养基三上培养30d后,将早梨试管苗转移到光照培养箱进行常规条件热处理,热处理条件:32±1℃下热处理7d(光照时间16h/d,光强1500-2500lx),37±1℃下热处理30d(光照时间16h/d,光强1500-2500lx)。
(5)茎尖切取和包埋
热处理后,将早梨试管苗置于超净工作台内,在显微镜下切取常规长度的茎尖接种到液体培养基四:0.4M蔗糖+0.3-0.5g/L石墨烯量子点+0.3-0.5g/L碳纳米管+0.1MCaCl2,进行常规包埋。
(6)茎尖再生培养
包埋后,将茎尖包埋珠接种到常规再生培养基上,后将材料放入培养室进行常规条件培养,培养室培养条件为:温度25±2℃,光照时间16h/d,光强1500-2500lx;
(7)效果
本发明与现有技术比较,早梨茎尖成活率高,试管苗脱毒效果好,生长健壮。

Claims (1)

1.提高早梨茎尖脱毒效果的方法,其特征在于有以下步骤:(1)将早梨试管苗转移到培养基一:MS+0.3-0.5g/L石墨烯量子点+30g/L蔗糖+0g/L琼脂,接种后将材料放入培养室进行常规条件培养;(2)在培养基一上培养30d后,将早梨试管苗转移到培养基二:MS+0.3-0.5g/L碳纳米管+30g/L蔗糖+7.5g/L琼脂,接种后将材料放入培养室进行常规条件培养;(3)在培养基二上培养30d后,将早梨试管苗转移到培养基三:MS+0.3-0.5g/L石墨烯量子点+0.3-0.5g/L碳纳米管+30g/L蔗糖+7.5g/L琼脂,接种后将材料放入培养室进行常规条件培养;(4)在培养基三上培养30d后,将早梨试管苗转移到光照培养箱进行常规条件热处理;(5)热处理后,将早梨试管苗置于超净工作台内,在显微镜下切取常规长度的茎尖接种到液体培养基四:0.4M蔗糖+0.3-0.5g/L石墨烯量子点+0.3-0.5g/L碳纳米管+0.1M CaCl2,进行常规包埋;(6)包埋后,将茎尖包埋珠接种到常规再生培养基上,后将材料放入培养室进行常规条件培养;(7)培养90d后,早梨形成的试管苗成活率高、生长健壮、脱毒率高。
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JPH06335333A (ja) * 1993-05-31 1994-12-06 Kondo Toshio すみれの組織培養による無菌植物体の増殖法
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Title
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唐红琴 等: "甘蔗茎尖脱毒组织培养技术研究进展", 《南方农业学报》 *

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