CN109445178A - 一种彩膜基板及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提出一种彩膜基板及其制造方法，涉及液晶显示领域，该彩膜基板包括黑色矩阵、由多个色层组成且位于黑色矩阵下方的色阻层、第一隔垫物和第二隔垫物；其中，第一隔垫物包括位于其中一个色层上的隔垫物底柱以及位于隔垫物底柱上的隔垫物主体，隔垫物底柱由另一个色层材料制成，隔垫物主体由黑色矩阵材料制成。这种彩膜基板可有效地降低生产成本，并改善隔垫物的均一性和产品性能。

Description

一种彩膜基板及其制造方法
技术领域
本发明属于液晶显示领域，具体涉及一种彩膜基板及其制造方法。
背景技术
随着科技的进步，如手机、电脑等显示装置已成为人们生活中必不可少的物品，显示装置中的彩膜基板是显示装置的重要组件，目前的彩膜基板制造成本较高、工艺复杂。
图1是现有技术中彩膜基板的示意图，其中，01和02分别是彩膜基板上的第一积层隔垫物和第二积层隔垫物；图2是该彩膜基板的截面图。彩膜基板制备时先在基板03上制作一层黑色矩阵04，然后在黑色矩阵04上利用光罩将不同的色层在黑色矩阵04上堆叠起来制备出积层隔垫物（Post Spacer，简称PS），最后在基板上溅射一层保护层08。其中，第一积层隔垫物01是由黑色矩阵04、第一色层05、第二色层06和第三色层07堆叠形成的，第二积层隔垫物02是由黑色矩阵04、第二色层06和第三色层07堆叠形成的，第一积层隔垫物01和第二积层隔垫物02分别作为彩膜基板的主隔垫物和副隔垫物，第一积层隔垫物01和第二积层隔垫物02之间具有段差∆PSH。
这种制作方法虽然可以节约一道隔垫物制程，降低成本，但是通过色阻层堆积起来所制备的积层隔垫物无法同时保证色度和弹性的要求，且制备主隔垫物和副隔垫物时它们之间的段差不易控制。
发明内容
本发明提供一种彩膜基板及其制造方法，可有效地降低生产成本，并改善隔垫物的均一性和产品性能。
本发明的技术方案如下。
本发明公开了一种彩膜基板的制造方法，包括以下步骤：
S1：在基板上形成第一色层；
S2：在步骤S1形成基板的基础上，形成第二色层，同时在第一色层上堆叠形成由第二色层材料制成的隔垫物底柱；
S3：在步骤S2形成基板的基础上，形成第三色层；
S4：在步骤S3形成基板的基础上，形成一层黑色矩阵，同时在隔垫物底柱上堆叠且由黑色矩阵材料形成的隔垫物主体，隔垫物底柱和隔垫物主体组成第一隔垫物；
S5：在步骤S4形成基板的基础上，形成一层保护层；
S6：在步骤S5形成基板的基础上，形成第二隔垫物。
本发明还公开了一种彩膜基板的制造方法，包括以下步骤：
S1：在基板上形成第一色层；
S2：在步骤S1形成基板的基础上，形成第二色层；
S3：在步骤S2形成基板的基础上，形成第三色层，同时在第一色层上堆叠形成由第三色层材料制成的隔垫物底柱；
S4：在步骤S3形成基板的基础上，形成一层黑色矩阵，同时在隔垫物底柱上堆叠且由黑色矩阵材料形成的隔垫物主体，隔垫物底柱和隔垫物主体组成第一隔垫物；
S5：在步骤S4形成基板的基础上，形成一层保护层；
S6：在步骤S5形成基板的基础上，形成第二隔垫物。
本发明还公开了一种彩膜基板的制造方法，包括以下步骤：
S1：在基板上形成第一色层；
S2：在步骤S1形成基板的基础上，形成第二色层；
S3：在步骤S2形成基板的基础上，形成第三色层，同时在第二色层上堆叠形成由第三色层材料制成的隔垫物底柱；
S4：在步骤S3形成基板的基础上，形成一层黑色矩阵，同时在隔垫物底柱上堆叠且由黑色矩阵材料形成的隔垫物主体，隔垫物底柱和隔垫物主体组成第一隔垫物；
S5：在步骤S4形成基板的基础上，形成一层保护层；
S6：在步骤S5形成基板的基础上，形成第二隔垫物。
本发明还公开了一种彩膜基板的制造方法，包括以下步骤：
S1：在基板上形成第一色层；
S2：在步骤S1形成基板的基础上，形成第二色层，同时在第一色层上堆叠形成由第二色层材料制成的隔垫物底柱；
S3：在步骤S2形成基板的基础上，形成第三色层；
S4：在步骤S3形成基板的基础上，形成第四色层；
S5：在步骤S4形成基板的基础上，形成一层黑色矩阵，同时在隔垫物底柱上堆叠且由黑色矩阵材料形成的隔垫物主体，隔垫物底柱和隔垫物主体组成第一隔垫物；
S6：在步骤S5形成基板的基础上，形成一层保护层；
S7：在步骤S6形成基板的基础上，形成第二隔垫物。
本发明还公开了一种彩膜基板的制造方法，包括以下步骤：
S1：在基板上形成第一色层；
S2：在步骤S1形成基板的基础上，形成第二色层；
S3：在步骤S2形成基板的基础上，形成第三色层，同时在第一色层上堆叠形成由第三色层材料制成的隔垫物底柱；
S4：在步骤S3形成基板的基础上，形成第四色层；
S5：在步骤S4形成基板的基础上，形成一层黑色矩阵，同时在隔垫物底柱上堆叠且由黑色矩阵材料形成的隔垫物主体，隔垫物底柱和隔垫物主体组成第一隔垫物；
S6：在步骤S5形成基板的基础上，形成一层保护层；
S7：在步骤S6形成基板的基础上，形成第二隔垫物。
本发明还公开了一种彩膜基板的制造方法，包括以下步骤：
S1：在基板上形成第一色层；
S2：在步骤S1形成基板的基础上，形成第二色层；
S3：在步骤S2形成基板的基础上，形成第三色层，同时在第二色层上堆叠形成由第三色层材料制成的隔垫物底柱；
S4：在步骤S3形成基板的基础上，形成第四色层；
S5：在步骤S4形成基板的基础上，形成一层黑色矩阵，同时在隔垫物底柱上堆叠且由黑色矩阵材料形成的隔垫物主体，隔垫物底柱和隔垫物主体组成第一隔垫物；
S6：在步骤S5形成基板的基础上，形成一层保护层；
S7：在步骤S6形成基板的基础上，形成第二隔垫物。
本发明还公开了一种彩膜基板的制造方法，包括以下步骤：
S1：在基板上形成第一色层；
S2：在步骤S1形成基板的基础上，形成第二色层；
S3：在步骤S2形成基板的基础上，形成第三色层；
S4：在步骤S3形成基板的基础上，形成第四色层，同时在第一色层上堆叠形成由第四色层材料制成的隔垫物底柱；
S5：在步骤S4形成基板的基础上，形成一层黑色矩阵，同时在隔垫物底柱上堆叠且由黑色矩阵材料形成的隔垫物主体，隔垫物底柱和隔垫物主体组成第一隔垫物；
S6：在步骤S5形成基板的基础上，形成一层保护层；
S7：在步骤S6形成基板的基础上，形成第二隔垫物。
本发明还公开了一种彩膜基板的制造方法，包括以下步骤：
S1：在基板上形成第一色层；
S2：在步骤S1形成基板的基础上，形成第二色层；
S3：在步骤S2形成基板的基础上，形成第三色层；
S4：在步骤S3形成基板的基础上，形成第四色层，同时在第二色层上堆叠形成由第四色层材料制成的隔垫物底柱；
S5：在步骤S4形成基板的基础上，形成一层黑色矩阵，同时在隔垫物底柱上堆叠且由黑色矩阵材料形成的隔垫物主体，隔垫物底柱和隔垫物主体组成第一隔垫物；
S6：在步骤S5形成基板的基础上，形成一层保护层；
S7：在步骤S6形成基板的基础上，形成第二隔垫物。
本发明还公开了一种彩膜基板的制造方法，包括以下步骤：
S1：在基板上形成第一色层；
S2：在步骤S1形成基板的基础上，形成第二色层；
S3：在步骤S2形成基板的基础上，形成第三色层；
S4：在步骤S3形成基板的基础上，形成第四色层，同时在第三色层上堆叠形成由第四色层材料制成的隔垫物底柱；
S5：在步骤S4形成基板的基础上，形成一层黑色矩阵，同时在隔垫物底柱上堆叠且由黑色矩阵材料形成的隔垫物主体，隔垫物底柱和隔垫物主体组成第一隔垫物；
S6：在步骤S5形成基板的基础上，形成一层保护层；
S7：在步骤S6形成基板的基础上，形成第二隔垫物。
本发明还公开了一种彩膜基板，其包括黑色矩阵、由多个色层组成且位于黑色矩阵下方的色阻层、第一隔垫物和第二隔垫物；其中，第一隔垫物包括位于其中一个色层上的隔垫物底柱以及位于隔垫物底柱上的隔垫物主体，隔垫物底柱由另一个色层材料制成，隔垫物主体由黑色矩阵材料制成。
本发明提供的技术方案带来的有益效果具有以下几点：
（1）黑色矩阵采用弹性恢复率很好的BPS材料，可以很好的保证满足黑色矩阵的遮光和隔垫物的弹性要求。
（2）可以任意调整主隔垫物和副隔垫物之间的段差∆PSH，既节约了成本，又减小了工艺难度，同时也改善了隔垫物的均一性，提高了产品性能。
附图说明
下面将以明确易懂的方式，结合附图说明优选实施方式，对本发明予以进一步说明。
图1是现有技术中彩膜基板的示意图；
图2是现有技术中彩膜基板的截面图；
图3是本发明彩膜基板上第一色层的制作示意图；
图4是本发明彩膜基板上第二色层的制作示意图；
图5是本发明彩膜基板上第三色层的制作示意图；
图6是本发明彩膜基板上黑色矩阵的制作示意图；
图7是本发明彩膜基板上保护层的制作示意图；
图8是本发明彩膜基板上第二隔垫物的制作示意图。
具体实施方式
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对照附图说明本发明的具体实施方式。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图，并获得其他的实施方式。
为使图面简洁，各图中只示意性地表示出了与本发明相关的部分，它们并不代表其作为产品的实际结构。另外，以使图面简洁便于理解，在有些图中具有相同结构或功能的部件，仅示意性地绘示了其中的一个，或仅标出了其中的一个。在本文中，“一个”不仅表示“仅此一个”，也可以表示“多于一个”的情形。
下面以具体实施例详细介绍本发明的技术方案。
如图3至图5所示，本发明揭示一种彩膜基板，其包括黑色矩阵04、色阻层、第一隔垫物10和第二隔垫物20；其中色阻层位于黑色矩阵04的下方。
在本实施例中，色阻层为RGB色阻层。第一色层05为R色层，第二色层06为G色层，第三色层07为B色层，当然根据实际生产的需要，R色层、G色层和B色层的顺序可以变换，即第一色层05也可以为G色层或B色层，第二色层06也可以为R色层或B色层，第三色层07也可以为R色层或G色层。
其中，第一隔垫物10包括位于其中一个色层上的隔垫物底柱09以及位于隔垫物底柱09上的隔垫物主体11，隔垫物底柱09由另一个色层材料制成，隔垫物主体11由黑色矩阵材料制成。
如图3至图8所示，本发明提供一种彩膜基板的制造方法，包括以下步骤：
S1：如图3所示，在基板03上形成第一色层05；
S2：如图4所示，在步骤S1形成基板的基础上，形成第二色层06，同时在第一色层05上堆叠形成由第二色层06材料制成的隔垫物底柱09；
S3：如图5所示，在步骤S2形成基板的基础上，形成第三色层07；
S4：如图6所示，在步骤S3形成基板的基础上，形成一层黑色矩阵04，在隔垫物底柱09上堆叠的由黑色矩阵材料形成的隔垫物主体11，隔垫物底柱09和隔垫物主体11组成第一隔垫物10，其中黑色矩阵04的厚度小于隔垫物底柱09的厚度；
S5：如图7所示，在步骤S4形成基板的基础上，形成一层保护层08；
S6：如图8所示，在步骤S5形成基板的基础上，由树脂材料形成第二隔垫物20。
其中，步骤S2中所述的第二色层06通过光罩在第一色层05上堆叠制作出隔垫物底柱09，且隔垫物底柱09的数量由第一隔垫物10的密度需求来定，所述的保护层一般采用铟锡氧化物ITO。
其中，隔垫物底柱09也可以是由第三色层07在第一色层05上堆叠形成，或第三色层07在第二色层06上堆叠形成。
优选地，当隔垫物底柱09由第三色层07在第一色层05上堆叠形成时，本发明彩膜基板的制造方法，包括以下步骤：
S1：在基板上形成第一色层；
S2：在步骤S1形成基板的基础上，形成第二色层；
S3：在步骤S2形成基板的基础上，形成第三色层，同时在第一色层上堆叠形成由第三色层材料制成的隔垫物底柱；
S4：在步骤S3形成基板的基础上，形成一层黑色矩阵，同时在隔垫物底柱上堆叠且由黑色矩阵材料形成的隔垫物主体，隔垫物底柱和隔垫物主体组成第一隔垫物；
S5：在步骤S4形成基板的基础上，形成一层保护层；
S6：在步骤S5形成基板的基础上，形成第二隔垫物。
优选地，隔垫物底柱09由第三色层07在第二色层06上堆叠形成时，本发明彩膜基板的制造方法，包括以下步骤：
S1：在基板上形成第一色层；
S2：在步骤S1形成基板的基础上，形成第二色层；
S3：在步骤S2形成基板的基础上，形成第三色层，同时在第二色层上堆叠形成由第三色层材料制成的隔垫物底柱；
S4：在步骤S3形成基板的基础上，形成一层黑色矩阵，同时在隔垫物底柱上堆叠且由黑色矩阵材料形成的隔垫物主体，隔垫物底柱和隔垫物主体组成第一隔垫物；
S5：在步骤S4形成基板的基础上，形成一层保护层；
S6：在步骤S5形成基板的基础上，形成第二隔垫物。
本发明制备的第一隔垫物10，就是所述的积层隔垫物（Post Spacer），本发明制备的第二隔垫物20，就是普通隔垫物，普通隔垫物一般采用树脂材料制备。其中，所述的黑色矩阵04采用黑色光刻型隔垫物材料（Black Photo Spacer，简称BPS）制备，这种BPS材料可以满足黑色矩阵的遮光和隔垫物的弹性要求。通过在隔垫物底柱09上层堆叠黑色矩阵04形成第一隔垫物10可以有效地改善产品的色偏现象。
其中，当第一隔垫物10制作为副隔垫物时，第二隔垫物20制作为主隔垫物；当第一隔垫物10制作为主隔垫物时，第二隔垫物20制作为副隔垫物。
在本发明中，对于第二隔垫物20的制备不需要采用半色调掩膜版，且制作出的主隔垫物和副隔垫物之间的段差∆PSH可任意调整，可以有效改善隔垫物的均一性，提高了产品性能。
优选地，当色阻层为RGBW时，利用上述相似的步骤进行操作，其区别在于需要多制备一层第四色层。
当色阻层为RGBW时，第一色层为R色层，第二色层为G色层，第三色层为B色层，第四色层为W色层，当然根据实际生产的需要，R色层、G色层、B色层和W色层的顺序可以变换。
本发明还提供一种彩膜基板的制造方法，包括以下步骤：
S1：在基板上形成第一色层；
S2：在步骤S1形成基板的基础上，形成第二色层，同时在第一色层上堆叠形成由第二色层材料制成的隔垫物底柱；
S3：在步骤S2形成基板的基础上，形成第三色层；
S4：在步骤S3形成基板的基础上，形成第四色层；
S5：在步骤S4形成基板的基础上，形成一层黑色矩阵，同时在隔垫物底柱上堆叠且由黑色矩阵材料形成的隔垫物主体，隔垫物底柱和隔垫物主体组成第一隔垫物；
S6：在步骤S5形成基板的基础上，形成一层保护层；
S7：在步骤S6形成基板的基础上，由树脂材料形成第二隔垫物。
其中，隔垫物底柱也可以是由第三色层在第一色层上堆叠形成，或第三色层在第二色层上堆叠形成，或者是由第四色层在第一色层上堆叠形成，或者是由第四色层在第二色层上堆叠形成，或者是由第四色层在第三色层上堆叠形成。
优选地，隔垫物底柱由第三色层在第一色层上堆叠形成时，本发明彩膜基板的制造方法，包括以下步骤：
S1：在基板上形成第一色层；
S2：在步骤S1形成基板的基础上，形成第二色层；
S3：在步骤S2形成基板的基础上，形成第三色层，同时在第一色层上堆叠形成由第三色层材料制成的隔垫物底柱；
S4：在步骤S3形成基板的基础上，形成第四色层；
S5：在步骤S4形成基板的基础上，形成一层黑色矩阵，同时在隔垫物底柱上堆叠且由黑色矩阵材料形成的隔垫物主体，隔垫物底柱和隔垫物主组成第一隔垫物；
S6：在步骤S5形成基板的基础上，形成一层保护层；
S7：在步骤S6形成基板的基础上，形成第二隔垫物。
优选地，隔垫物底柱由第三色层在第二色层上堆叠形成时，本发明彩膜基板的制造方法，包括以下步骤：
S1：在基板上形成第一色层；
S2：在步骤S1形成基板的基础上，形成第二色层；
S3：在步骤S2形成基板的基础上，形成第三色层，同时在第二色层上堆叠形成由第三色层材料制成的隔垫物底柱；
S4：在步骤S3形成基板的基础上，形成第四色层；
S5：在步骤S4形成基板的基础上，形成一层黑色矩阵，同时在隔垫物底柱上堆叠且由黑色矩阵材料形成的隔垫物主体，隔垫物底柱和形成的隔垫物主体组成第一隔垫物；
S6：在步骤S5形成基板的基础上，形成一层保护层；
S7：在步骤S6形成基板的基础上，形成第二隔垫物。
优选地，当隔垫物底柱是由第四色层在第一色层上堆叠形成时，本发明彩膜基板的制造方法，包括以下步骤：
S1：在基板上形成第一色层；
S2：在步骤S1形成基板的基础上，形成第二色层；
S3：在步骤S2形成基板的基础上，形成第三色层；
S4：在步骤S3形成基板的基础上，形成第四色层，同时在第一色层上堆叠形成由第四色层材料制成的隔垫物底柱；
S5：在步骤S4形成基板的基础上，形成一层黑色矩阵，同时在隔垫物底柱上堆叠且由黑色矩阵材料形成的隔垫物主体，隔垫物底柱和隔垫物主体组成第一隔垫物；
S6：在步骤S5形成基板的基础上，形成一层保护层；
S7：在步骤S6形成基板的基础上，形成第二隔垫物。
优选地，当隔垫物底柱是由第四色层在第二色层上堆叠形成时，本发明彩膜基板的制造方法，包括以下步骤：
S1：在基板上形成第一色层；
S2：在步骤S1形成基板的基础上，形成第二色层；
S3：在步骤S2形成基板的基础上，形成第三色层；
S4：在步骤S3形成基板的基础上，形成第四色层，同时在第二色层上堆叠形成由第四色层材料制成的隔垫物底柱；
S5：在步骤S4形成基板的基础上，形成一层黑色矩阵，同时在隔垫物底柱上堆叠且由黑色矩阵材料形成的隔垫物主体，隔垫物底柱和隔垫物主体组成第一隔垫物；
S6：在步骤S5形成基板的基础上，形成一层保护层；
S7：在步骤S6形成基板的基础上，形成第二隔垫物。
优选地，当隔垫物底柱是由第四色层在第三色层上堆叠形成时，本发明彩膜基板的制造方法，包括以下步骤：
S1：在基板上形成第一色层；
S2：在步骤S1形成基板的基础上，形成第二色层；
S3：在步骤S2形成基板的基础上，形成第三色层；
S4：在步骤S3形成基板的基础上，形成第四色层，同时在第三色层上堆叠形成由第四色层材料制成的隔垫物底柱；
S5：在步骤S4形成基板的基础上，形成一层黑色矩阵，同时在隔垫物底柱上堆叠且由黑色矩阵材料形成的隔垫物主体，隔垫物底柱和隔垫物主体组成第一隔垫物；
S6：在步骤S5形成基板的基础上，形成一层保护层；
S7：在步骤S6形成基板的基础上，形成第二隔垫物。
本发明还公开了一种彩膜基板，其包括黑色矩阵04、由多个色层组成且位于黑色矩阵04下方的色阻层、第一隔垫物10和第二隔垫物20； 其中，第一隔垫物10包括位于其中一个色层上的隔垫物底柱09以及位于隔垫物底柱09上的隔垫物主体11，隔垫物底柱09由另一个色层材料制成，隔垫物主体11由黑色矩阵材料制成。
其中，黑色矩阵采用弹性恢复率很好的BPS材料，BPS材料是溴化聚苯乙烯（BPS:Brominated Polystyrene），BPS是一种新型溴系阻燃剂，是PS在催化作用下，经溴化、粉碎而成的白色粉末；其具有高阻燃性、热稳定性好、与工程塑料兼容性好，对材料的机械性能影响小，添加BPS的产品不析出、不迁移、表面不起霜、抗静电性能优良并仍可保留90％以上的力学性能，毒性低、适用范围广。
本发明彩膜基板及其制造方法，通过在形成色阻层之后制作黑色矩阵，将黑色矩阵与部分色阻层一起堆叠形成积层隔垫物，其中，黑色矩阵采用弹性恢复率很好的BPS材料，可以很好的保证满足黑色矩阵的遮光和隔垫物的弹性要求。且对于普通隔垫物的制备不再需要采用半色调掩膜版，可以任意调整主隔垫物和副隔垫物之间的段差∆PSH，既节约了成本，又减小了工艺难度，同时也改善了隔垫物的均一性，提高了产品性能。
应当说明的是，以上所述仅是本发明的优选实施方式，但是本发明并不限于上述实施方式中的具体细节，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在本发明的技术构思范围内，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，对本发明的技术方案进行多种等同变换，这些改进、润饰和等同变换也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1：在基板上形成第一色层；
S2：在步骤S1形成基板的基础上，形成第二色层，同时在第一色层上堆叠形成由第二色层材料制成的隔垫物底柱；
S3：在步骤S2形成基板的基础上，形成第三色层；
S4：在步骤S3形成基板的基础上，形成一层黑色矩阵，同时在隔垫物底柱上堆叠且由黑色矩阵材料形成的隔垫物主体，隔垫物底柱和隔垫物主体组成第一隔垫物；
S5：在步骤S4形成基板的基础上，形成一层保护层；
S6：在步骤S5形成基板的基础上，形成第二隔垫物。
2.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1：在基板上形成第一色层；
S2：在步骤S1形成基板的基础上，形成第二色层；
S3：在步骤S2形成基板的基础上，形成第三色层，同时在第一色层上堆叠形成由第三色层材料制成的隔垫物底柱；
S4：在步骤S3形成基板的基础上，形成一层黑色矩阵，同时在隔垫物底柱上堆叠且由黑色矩阵材料形成的隔垫物主体，隔垫物底柱和隔垫物主体组成第一隔垫物；
S5：在步骤S4形成基板的基础上，形成一层保护层；
S6：在步骤S5形成基板的基础上，形成第二隔垫物。
3.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1：在基板上形成第一色层；
S2：在步骤S1形成基板的基础上，形成第二色层；
S3：在步骤S2形成基板的基础上，形成第三色层，同时在第二色层上堆叠形成由第三色层材料制成的隔垫物底柱；
S4：在步骤S3形成基板的基础上，形成一层黑色矩阵，同时在隔垫物底柱上堆叠且由黑色矩阵材料形成的隔垫物主体，隔垫物底柱和隔垫物主体组成第一隔垫物；
S5：在步骤S4形成基板的基础上，形成一层保护层；
S6：在步骤S5形成基板的基础上，形成第二隔垫物。
4.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1：在基板上形成第一色层；
S2：在步骤S1形成基板的基础上，形成第二色层，同时在第一色层上堆叠形成由第二色层材料制成的隔垫物底柱；
S3：在步骤S2形成基板的基础上，形成第三色层；
S4：在步骤S3形成基板的基础上，形成第四色层；
S5：在步骤S4形成基板的基础上，形成一层黑色矩阵，同时在隔垫物底柱上堆叠且由黑色矩阵材料形成的隔垫物主体，隔垫物底柱和隔垫物主体组成第一隔垫物；
S6：在步骤S5形成基板的基础上，形成一层保护层；
S7：在步骤S6形成基板的基础上，形成第二隔垫物。
5.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1：在基板上形成第一色层；
S2：在步骤S1形成基板的基础上，形成第二色层；
S3：在步骤S2形成基板的基础上，形成第三色层，同时在第一色层上堆叠形成由第三色层材料制成的隔垫物底柱；
S4：在步骤S3形成基板的基础上，形成第四色层；
S5：在步骤S4形成基板的基础上，形成一层黑色矩阵，同时在隔垫物底柱上堆叠且由黑色矩阵材料形成的隔垫物主体，隔垫物底柱和隔垫物主体组成第一隔垫物；
S6：在步骤S5形成基板的基础上，形成一层保护层；
S7：在步骤S6形成基板的基础上，形成第二隔垫物。
6.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1：在基板上形成第一色层；
S2：在步骤S1形成基板的基础上，形成第二色层；
S3：在步骤S2形成基板的基础上，形成第三色层，同时在第二色层上堆叠形成由第三色层材料制成的隔垫物底柱；
S4：在步骤S3形成基板的基础上，形成第四色层；
S5：在步骤S4形成基板的基础上，形成一层黑色矩阵，同时在隔垫物底柱上堆叠且由黑色矩阵材料形成的隔垫物主体，隔垫物底柱和隔垫物主体组成第一隔垫物；
S6：在步骤S5形成基板的基础上，形成一层保护层；
S7：在步骤S6形成基板的基础上，形成第二隔垫物。
7.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1：在基板上形成第一色层；
S2：在步骤S1形成基板的基础上，形成第二色层；
S3：在步骤S2形成基板的基础上，形成第三色层；
S4：在步骤S3形成基板的基础上，形成第四色层，同时在第一色层上堆叠形成由第四色层材料制成的隔垫物底柱；
S5：在步骤S4形成基板的基础上，形成一层黑色矩阵，同时在隔垫物底柱上堆叠且由黑色矩阵材料形成的隔垫物主体，隔垫物底柱和隔垫物主体组成第一隔垫物；
S6：在步骤S5形成基板的基础上，形成一层保护层；
S7：在步骤S6形成基板的基础上，形成第二隔垫物。
8.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1：在基板上形成第一色层；
S2：在步骤S1形成基板的基础上，形成第二色层；
S3：在步骤S2形成基板的基础上，形成第三色层；
S4：在步骤S3形成基板的基础上，形成第四色层，同时在第二色层上堆叠形成由第四色层材料制成的隔垫物底柱；
S5：在步骤S4形成基板的基础上，形成一层黑色矩阵，同时在隔垫物底柱上堆叠且由黑色矩阵材料形成的隔垫物主体，隔垫物底柱和隔垫物主体组成第一隔垫物；
S6：在步骤S5形成基板的基础上，形成一层保护层；
S7：在步骤S6形成基板的基础上，形成第二隔垫物。
9.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
S1：在基板上形成第一色层；
S2：在步骤S1形成基板的基础上，形成第二色层；
S3：在步骤S2形成基板的基础上，形成第三色层；
S4：在步骤S3形成基板的基础上，形成第四色层，同时在第三色层上堆叠形成由第四色层材料制成的隔垫物底柱；
S5：在步骤S4形成基板的基础上，形成一层黑色矩阵，同时在隔垫物底柱上堆叠且由黑色矩阵材料形成的隔垫物主体，隔垫物底柱和隔垫物主体组成第一隔垫物；
S6：在步骤S5形成基板的基础上，形成一层保护层；
S7：在步骤S6形成基板的基础上，形成第二隔垫物。
10.一种彩膜基板，其特征在于，其包括黑色矩阵、由多个色层组成且位于黑色矩阵下方的色阻层、第一隔垫物和第二隔垫物；其中，第一隔垫物包括位于其中一个色层上的隔垫物底柱以及位于隔垫物底柱上的隔垫物主体，隔垫物底柱由另一个色层材料制成，隔垫物主体由黑色矩阵材料制成。
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