CN206696568U - 一种阵列基板、彩膜基板及显示面板 - Google Patents

Abstract

本申请实施例提供了一种阵列基板、彩膜基板和显示面板。所述阵列基板包括第一衬底基板，在所述第一衬底基板上设置有栅极层、栅绝缘层；在所述栅绝缘层上设置有固定图形的有源层、源漏极层；在所述栅极层和栅绝缘层设置有贯穿的凹槽；其中所述源漏极层的顶面和所述凹槽的底面形成段差。通过本实用新型，阵列基板设置有凹槽，由凹槽的底面与源漏极层的顶面形成足够大的段差，降低了制备彩膜基板的工艺难度，由于无需管控彩膜基板各个隔垫物之间的段差，隔垫物高度相同，进一步降低了制作彩膜基板的成本。

Description

一种阵列基板、彩膜基板及显示面板

技术领域

本实用新型涉及显示屏技术领域，特别是涉及一种阵列基板、彩膜基板及显示面板。

背景技术

TFT((Thin Film Transistor，薄膜晶体管)-LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示器)是一种被动发光式平板显示设备，液晶分子本身不能发光，必须搭配背光源才能正常工作。背光源发出的白光，依次经过阵列基板、液晶层和彩色滤光片基板后，最终呈现出全彩色显示和灰阶亮度。

液晶显示器在彩膜滤光片基板表面一般设置多个具有高弹性回复力的柱状隔垫物(PS，Photo Spacer)，见图1。柱状隔垫物的设置，可以提高液晶盒内各区域的盒厚均一性，还提升液晶显示装置对于液晶量波动的容忍度，从而提高液晶显示装置的良率和量产性。

现有技术，柱状隔垫物PS分为主隔垫物Main PS和次隔垫物Sub PS，两者之间通过同一张掩膜版HTM Mask上不同区域曝光量的差异，从而制备出具有段差(ΔH＝H_Main-H_sub高度差)的隔垫物组，见图2，其中高度较高的为Main PS。一般Main PS都处于一定的压缩状态，且压缩量Δh小于段差ΔH，因此Sub PS一般不与阵列基板接触，并保持一定的距离。初始状态处于压缩状态的Main PS，可以保持液晶显示装置不会因为液晶量波动过大而出现重力Mura的不良；当显示装置受到外力压缩时，Main PS首先起支撑作用，随着外力加大，Sub PS逐渐与阵列基板靠近并接触，然后与Main PS一起支撑盒厚。在边缘场显示模式IPS(In Plane Switching，平面方向转换)或者FFS(Fringe Field Switching，边缘场开关技术)中，Main PS和Sub PS之间的段差ΔH越大，初始状态下Sub PS距离阵列基板越远，则暗态不均现象减轻，越有利于液晶显示面板在L0画面下表现，画质更佳。

现有技术中，为了尽可能改善暗态不均，尽可能增大PS的段差ΔH，一般需要在彩膜基板表面制备PS时采用半灰阶掩膜版(HTM:Half-Tone Mask)，利用不同PS位置处透过率的差异，显影时实现Main PS和Sub PS之间的高度和段差管控。但是半灰阶掩膜版成本较为昂贵，而且工艺上管控难度大，管控精度高。

实用新型内容

鉴于上述问题，提出了本申请实施例以便提供一种克服上述问题或者至少部分地解决上述问题的一种阵列基板、彩膜基板及显示面板。

为了解决上述问题，本申请实施例公开了一种阵列基板，所述阵列基板包括第一衬底基板，其特征在于，

在所述第一衬底基板上设置有栅极层、栅绝缘层；

在所述栅绝缘层上设置有固定图形的有源层、源漏极层；

在所述栅极层和栅绝缘层设置有贯穿的凹槽；

其中所述源漏极层的顶面和所述凹槽的底面形成段差。

可选地，所述凹槽设置在栅线的中心区域，或，所述凹槽设置在栅线的边缘区域。

可选地，所述源漏极层的顶面面积和所述凹槽的底面面积均在设定范围内。

可选地，所述凹槽的底面与所述源漏极层的顶面形成的段差为0.1～1.5μm。

为了解决上述问题，本申请实施例还公开了一种彩膜基板，所述彩膜基板包括第二衬底基板，所述彩膜基板还包括黑矩阵、色阻层、多个隔垫物；

其中，所述黑矩阵在所述第二衬底基板上形成多个固定大小的中空网格；

所述色阻层填充在黑矩阵形成的各个中空网格中并与所述第二衬底基板贴合；

所述隔垫物为柱状结构，所述隔垫物的底面与所述色阻层贴合，各隔垫物之间的高度相同无段差。

可选地，所述多个隔垫物包括主隔垫物和次隔垫物，所述次隔垫物对准所述阵列基板的凹槽。

为了解决上述问题，本申请实施例又公开了一种显示面板，所述显示面板由上述的阵列基板和彩膜基板对盒构成；

所述阵列基板的源漏极层的顶面与凹槽的底面形成段差，所述彩膜基板的隔垫物之间无段差。

可选地，所述阵列基板与所述彩膜基板对盒后，所述彩膜基板的主隔垫物的压缩比维持在8％-20％。

本申请实施例包括以下优点：

本申请实施例中，阵列基板设置有凹槽，由凹槽的底面与源漏极层的顶面形成足够大的段差，将制备彩膜基板过程中管控各个隔垫物之间的段差的工艺难度，降低为制备阵列基板过程中形成凹槽的工艺难度。进一步的，由于无需管控彩膜基板各个隔垫物之间的段差，隔垫物高度相同，降低了制作彩膜基板的成本。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对本申请实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是现有技术液晶显示面板的示意图；

图2是现有技术使用半灰阶掩膜版制备隔垫物的示意图；

图3是本申请实施例中阵列基板的示意图；

图4是本申请实施例中阵列基板上凹槽的位置示意图之一；

图5是本申请实施例中阵列基板上凹槽的位置示意图之二；

图6是本申请实施例中掩膜版制备隔垫物的示意图；

图7是本申请实施例中显示面板的示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的一种实施例中，提供了一种阵列基板，图3是本申请实施例中阵列基板的示意图。

在本申请实施例中，所述阵列基板包括第一衬底基板101，其特征在于，

在所述第一衬底基板101上设置有栅极层102、栅绝缘层102；

在所述栅绝缘层102上设置有固定图形的有源层104、源漏极层105；

在所述栅极层101和栅绝缘层102设置有贯穿的凹槽106；

其中所述源漏极层105的顶面和所述凹槽106的底面形成段差。

本实施例中，在制备薄膜晶体管过程中，形成薄膜晶体管的栅极层、栅绝缘层、有源层和源漏极层，可以通过构图工艺使有源层104和源漏极层105形成固定图形。随后可以采用刻蚀工艺制备贯穿栅极层102和栅绝缘层103的凹槽106，凹槽106的底面位于第一衬底基板101的表面。从图3中可以看出，凹槽106的底面与源漏极层105的顶面形成段差。

参照图4，示出了阵列基板上凹槽的位置示意图之一。本实用新型的一种优选实施例中，所述凹槽106设置在栅线107的中心区域。具体地，阵列基板的栅线107的中心区域的面积远远大于凹槽106的底面面积，则可以将凹槽106设置在栅线107的中心区域。

参照图5，示出了阵列基板上凹槽的位置示意图之二。本实用新型的一种优选实施例中，所述凹槽106设置在栅线107的边缘区域。具体地，阵列基板的栅线107的中心区域的面积与凹槽106的底面面积接近或者小于凹槽106的底面面积，则可以将凹槽设置在栅线107的边缘区域。

本实用新型的一种优选实施例中，所述源漏极层105的顶面面积和所述凹槽的底面面积均在设定范围内。具体地，源漏极层的顶面面积可以是彩膜基板中主隔垫物的顶面面积的2～10倍，避免在阵列基板与彩膜基板对盒过程中发生对准位置偏差，而使主隔垫物接触到阵列基板的表面，如接触到阵列基板的薄膜晶体管。凹槽106的底面面积可以是彩膜基板中次隔垫物的顶面面积的2～10倍，避免彩膜基板的次隔垫物接触到阵列基板的表面。

本实用新型的一种优选实施例中，所述凹槽106的底面与所述源漏极层105的顶面形成的段差为0.1～1.5μm。在初始状态时，彩膜基板对准凹槽106的隔垫物远离阵列基板表面，从而减轻显示面板暗态不均现象，使显示面板的画质更佳。

本申请实施例中，阵列基板设置有凹槽，由源漏极层的顶面和凹槽的底面形成足够大的段差，将制备彩膜基板过程中管控各个隔垫物之间段差的工艺难度，降低为制备阵列基板过程中形成凹槽的工艺难度。进一步的，由于无需管控彩膜基板各个隔垫物之间的段差，隔垫物高度相同，因此降低了制作彩膜基板的成本。

在本实用新型的另一种实施例中，提供了一种彩膜基板，所述彩膜基板包括第二衬底基板201，图6是本申请实施例中掩膜版制备隔垫物的示意图。

在本申请实施例中，所述彩膜基板还包括黑矩阵202、色阻层203、多个隔垫物204；

其中，所述黑矩阵202在所述第二衬底基板201上形成多个固定大小的中空网格；

所述色阻层203填充在黑矩阵202形成的各个中空网格中并与所述第二衬底基板201贴合；

所述隔垫物204为柱状结构，所述隔垫物204的底面与所述色阻层203贴合，各隔垫物之间的高度相同无段差。

本实施例中，所述隔垫物204为柱状结构，横截面可以是方形、圆形或椭圆形中的一种，本申请实施例对此不作详细限定，可以根据实际情况进行设置。

现有技术中，隔垫物采用图2中的半灰阶掩膜版(HTM:Half-Tone Mask)206制备，利用半灰阶掩膜版中不同位置的透过率不同，显影时可以实现不同位置的隔垫物的高度不同，控制灰阶掩膜版的透过率从而管控段差。本申请实施例中，由于阵列基板中凹槽106的底面与源漏极层105的顶面形成了足够大的段差，因此无需管控彩膜基板各个隔垫物之间的段差，可以采用普通掩膜版(Nomal Mask)205制备隔垫物，各个隔垫物高度相同，降低了制作彩膜基板的成本和工艺难度。

本实用新型的一种优选实施例中，所述多个隔垫物204包括主隔垫物2041和次隔垫物2042，所述次隔垫物2042对准所述阵列基板的凹槽106。

本申请实施例中，由于阵列基板的源漏极层的顶面和凹槽的底面形成了足够大的段差，因此无需管控彩膜基板中各隔垫物之间的段差，彩膜基板中隔垫物的高度相同无段差，降低了制作彩膜基板的成本和工艺难度。

在本实用新型的又一种实施例中，提供了一种显示面板，图7是本申请实施例中显示面板的示意图。

所述显示面板由上述的阵列基板和彩膜基板对盒构成；

所述阵列基板的源漏极层105的顶面与凹槽106的底面形成段差，所述彩膜基板的隔垫物204之间无段差。

本实用新型的一种优选实施例中，所述阵列基板与所述彩膜基板对盒后，所述彩膜基板的主隔垫物2041的压缩比维持在8％-20％。

本实施例中，彩膜基板中的主隔垫物2041在初始时处于压缩状态，可以保持液晶显示面板不会因为液晶量波动过大而出现重力Mura的不良；当显示面板受到外力压缩时，主隔垫物2041首先起支撑作用，随着外力加大，次隔垫物2042逐渐与阵列基板靠近并接触，然后与主隔垫物2041一起支撑盒厚。

本申请实施例中，由阵列基板的源漏极层的顶面和凹槽的底面形成段差，无需管控彩膜基板各个隔垫物之间的段差，隔垫物高度相同，降低了制作彩膜基板的成本和工艺难度，从而降低了制作显示面板的成本和工艺难度。

尽管已描述了本申请实施例的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例做出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本申请实施例范围的所有变更和修改。

最后，还需要说明的是，在本文中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者终端设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者终端设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者终端设备中还存在另外的相同要素。

以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (8)

1.一种阵列基板，所述阵列基板包括第一衬底基板，其特征在于，

在所述第一衬底基板上设置有栅极层、栅绝缘层；

在所述栅绝缘层上设置有固定图形的有源层、源漏极层；

在所述栅极层和栅绝缘层设置有贯穿的凹槽；

其中所述源漏极层的顶面和所述凹槽的底面形成段差。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述凹槽设置在栅线的中心区域，或，所述凹槽设置在栅线的边缘区域。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述源漏极层的顶面面积和所述凹槽的底面面积均在设定范围内。

4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述凹槽的底面与所述源漏极层的顶面形成的段差为0.1～1.5μm。

5.一种彩膜基板，所述彩膜基板包括第二衬底基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括黑矩阵、色阻层、多个隔垫物；

其中，所述黑矩阵在所述第二衬底基板上形成多个固定大小的中空网格；

所述色阻层填充在黑矩阵形成的各个中空网格中并与所述第二衬底基板贴合；

所述隔垫物为柱状结构，所述隔垫物的底面与所述色阻层贴合，各隔垫物之间的高度相同无段差。

6.根据权利要求5所述的彩膜基板，其特征在于，所述多个隔垫物包括主隔垫物和次隔垫物，所述次隔垫物对准权利要求1-4任一项所述的阵列基板的凹槽。

7.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板由权利要求1-4任一项所述的阵列基板和权利要求5-6任一项所述的彩膜基板对盒构成；

所述阵列基板的源漏极层的顶面与凹槽的底面形成段差，所述彩膜基板的隔垫物之间无段差。

8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板与所述彩膜基板对盒后，所述彩膜基板的主隔垫物的压缩比维持在8％-20％。