CN109426029A - 柔性滤色器基板和包括该基板的柔性发光显示装置 - Google Patents

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Abstract

公开一种柔性滤色器基板和包括该基板的柔性发光显示装置，其中避免黑矩阵图案异常地形成或缺失。柔性滤色器基板包括：柔性基板、设置在柔性基板上的缓冲层、设置在缓冲层上以限定多个像素开口的黑矩阵图案、设置在黑矩阵图案与缓冲层之间的中间层、以及设置在多个像素开口的每一个中的滤色器层。

Description

柔性滤色器基板和包括该基板的柔性发光显示装置
相关申请的交叉引用
本申请要求享有于2017年08月28日提交的韩国专利申请No.10-2017-0108732的优先权及其权益，为了所有目的通过引用将该专利申请整体并入本申请，如同在本申请中被完全描述一样。
技术领域
本发明涉及柔性滤色器基板和包括该柔性滤色器基板的柔性发光显示装置。
背景技术
由于柔性显示装置像纸一样弯曲或卷曲，因此柔性显示装置容易携带和保存，并因而作为下一代显示装置被不断地研究。柔性显示装置的实例可包括使用诸如塑料之类的柔性基板作为基础基板(base substrate)的液晶显示(LCD)装置、发光显示装置、电泳显示装置、微发光二极管显示装置、电润湿显示装置和量子点发光显示装置。
近来，正对其中透射部设置在柔性显示装置中的透明柔性显示装置进行研究和开发。
相关技术的柔性显示装置可包括具有像素阵列层的下基板、包括滤色器阵列层的上基板和在下基板与上基板之间的透明粘合层。
上基板可包括透明柔性基板、设置在透明柔性基板上的缓冲层、在缓冲层上限定像素开口的黑矩阵图案和设置在像素开口中的滤色器。在上基板中，透明柔性基板和缓冲层可以是相关技术的柔性显示装置的基本元件。
通常，缓冲层由无机材料形成以用于避免水经由透明柔性基板的渗透。在黑矩阵图案设置在包括无机材料的缓冲层上的情况中，包括无机材料的缓冲层与黑矩阵之间的粘合力减小，因此，黑矩阵图案形成为异常形状或缺失。也就是说，由于包括无机材料的缓冲层具有亲水性而黑矩阵图案具有疏水性，因此缓冲层与黑矩阵之间的粘合力由于缓冲层与黑矩阵图案之间的表面能量差而减小，为此，当图案化黑矩阵图案(或使黑矩阵图案显影)时，黑矩阵图案在缓冲层上形成为异常形状，或者黑矩阵图案的一部分缺失。
为此，在相关技术的柔性显示装置中，由于黑矩阵图案异常地形成和缺失，因此生产率降低。
发明内容
因此，本发明致力于提供基本上避免了由于相关技术的限制和缺陷导致的一个或多个问题的柔性滤色器基板和包括该柔性滤色器基板的柔性发光显示装置。
本发明的一方面致力于提供一种柔性滤色器基板和包括该柔性滤色器基板的柔性发光显示装置，其中防止了黑矩阵图案异常地形成或缺失。
本发明的附加优点和特征的一部分将阐述于下面的描述中，一部分对于所属领域普通技术人员而言在查阅以下内容后将变得显而易见，或者可从本发明的实践习得。本发明的目的和其他优点可通过在书面描述及其权利要求书以及附图中具体指出的结构而实现和获得。
为了实现这些和其他优点且根据本发明的意图，如本文具体化和概括描述的，提供一种柔性滤色器基板，包括：柔性基板、设置在柔性基板上的缓冲层、设置在缓冲层上以限定多个像素开口的黑矩阵图案、设置在黑矩阵图案与缓冲层之间的中间层、以及设置在多个像素开口的每一个中的滤色器层。
在本发明的另一方面中，提供一种柔性发光显示装置，包括：包括像素阵列层的下基板、包括滤色器的上基板和设置在下基板与上基板之间的透明粘合层，其中上基板包括：柔性基板、设置在柔性基板上的缓冲层、设置在缓冲层上以限定多个像素开口的黑矩阵图案、设置在黑矩阵图案与缓冲层之间的中间层、以及设置在多个像素开口的每一个中的滤色器层。
根据本发明实施方式的中间层可包括疏水材料。
根据本发明实施方式的缓冲层可包括具有无机材料的至少一个无机层，中间层可包括有机材料。
应理解的是，本发明的前面的概括描述和下面的详细描述均是示例性和解释性的，且旨在对要求保护的本发明提供进一步的解释。
附图说明
附图被包括在内以提供对本发明的进一步的理解，它们被并入并构成本申请的一部分；附图示出本发明的实施方式并与说明书一起用于解释本发明的原理。在附图中：
图1是用于描述根据本发明实施方式的柔性滤色器基板的平面图；
图2是沿图1所示的线I-I'截取的截面图；
图3是用于描述根据本发明实施方式的柔性滤色器基板的平面图；
图4是沿图3所示的线II-II'截取的截面图；
图5A是示出形成根据比较例的黑矩阵图案的状态的显微镜照片；
图5B是示出对于图3和4所示的柔性滤色器基板形成黑矩阵图案的状态的显微镜照片；
图6是用于描述根据本发明实施方式的柔性显示装置的截面图；以及
图7是用于描述根据本发明实施方式的柔性显示装置的截面图。
具体实施方式
现在将详细参考本发明的示例性实施方式，实施方式的实例示于附图中。在整个附图中，将尽可能使用相同标号来表示相同或相似的部分。
将通过以下参照附图描述的实施方式来阐明本发明的优点和特征以及这些优点和特征的实现方法。然而，本发明可以不同的形式实施而不应被解释为限制于本文阐述的实施方式。更确切地说，提供这些实施方式是为了使得本发明的公开内容详尽和完整，且将本发明的范围充分传达给所属领域技术人员。此外，本发明仅由权利要求书的范围限定。
附图中公开的用于描述本发明实施方式的形状、尺寸、比例、角度和数量仅是实例，因此本发明不限于图示细节。全文中相似的标号表示相似的元件。在下面的描述中，当确定对相关已知技术的详细描述会不必要地混淆本发明的要点时，将省略该详细描述。
在使用本说明书中描述的“包括”、“具有”和“包含”的情形中，可加入另一部分，除非使用了“仅”。
在解释要素时，即使没有明确描述，要素也被解释为包括误差范围。
在描述位置关系时，例如，当两部件之间的位置关系被描述为“在～上”、“在～之上”、“在～下”和“在～之后”时，一个或多个其他部件可设置在两部件之间，除非使用了“刚好”或“直接”。
在描述时间关系时，例如，当时间顺序被描述为“在～之后”、“接着～”、“然后～”和“在～前”时，可包括不连续的情形，除非使用了“刚好”或“直接”。
将理解的是，虽然本文中可使用术语“第一”、“第二”等来描述不同元件，但这些元件不应受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个元件与另一元件区分开。例如，在不脱离本发明的范围的情况下，第一元件可被称为第二元件，类似地，第二元件可被称为第一元件。
术语“至少一个”应理解为包括所列出的相关项的一个或多个的任意及全部组合。例如，“第一项、第二项和第三项的至少一个”的含义表示从第一项、第二项和第三项的两个或更多个提出的所有项的组合以及第一项、第二项或第三项。
本发明的各实施方式的特征可部分地或完全地彼此结合或组合，且可如所属领域技术人员能充分理解的那样在技术上彼此进行各种互操作和驱动。本发明的实施方式可彼此独立地实施，或者可以相互依赖的关系一起实施。
以下，将详细参照附图描述根据本发明的柔性滤色器基板和柔性发光显示装置的实施方式。在向每个附图的元件添加标号时，虽然相同元件示于其他附图中，但相似标号可表示相似元件。
图1是用于描述根据本发明实施方式的柔性滤色器基板10的平面图，图2是沿图1所示的线I-I'截取的截面图。根据所有实施方式的柔性滤色器基板的所有组件可操作地结合和配置。
参照图1和2，根据本发明实施方式的柔性滤色器基板10可包括柔性基板11、缓冲层13、黑矩阵图案17、中间层15和滤色器层19。
柔性基板11可由能够弯曲或卷曲的透明柔性材料形成。根据一实施方式的柔性基板11可包括透明聚酰亚胺材料，但不限于此。在其他实施方式中，柔性基板11可由诸如聚对苯二甲酸乙二醇酯之类的透明塑料材料形成。例如，包括透明聚酰亚胺材料的柔性基板11可通过固化聚酰亚胺树脂而形成，其中聚酰亚胺树脂在设置在载体玻璃基板上的剥离层(release layer)的前表面上被涂布成具有一定厚度。在此情况中，载体玻璃基板可通过经由激光剥离工艺将剥离层剥离而与柔性基板11分离。可使用其他透明材料。
缓冲层13可设置在柔性基板11的整个前表面上，以避免外部水分或湿气的渗透且可被称为阻挡层。
根据实施方式的缓冲层13可包括至少一个具有无机材料的无机层。例如，缓冲层13可包括下面的至少一种无机材料：硅氧化物(SiOx)、硅氮化物(SiNx)、硅氮氧化物(SiON)、钛氧化物(TiOx)和铝氧化物(AlOx)。可使用其他透明材料。
黑矩阵图案17可设置在缓冲层13上且可限定多个像素开口11a。在此情况中，多个像素开口11a中沿第一方向X彼此相邻的三个像素开口11a可构成一个单元像素区域UPA。如图1所示，可以有多个单元像素区域UPA。此外，在每个单元像素区域UPA中的像素开口的数量可大于三(3)或可小于三(3)。
根据实施方式的黑矩阵图案17可包括多个第一图案和多个第二图案，多个第一图案平行于第一方向X且在与第一方向X交叉的第二方向Y上彼此间隔开，多个第二图案平行于第二方向Y且在第一方向X上彼此间隔开。多个像素开口11a的每一个可被限定为由相应的第一图案和相应的第二图案围绕的区域。这里，第一方向X可定义为平行于柔性基板11的水平长度方向的方向，第二方向Y可定义为平行于柔性基板11的垂直长度方向的方向。然而，本发明的实施方式不限于此，第一方向X和第二方向Y的每一个可定义为与上述方向相反的方向。
根据实施方式的黑矩阵图案17可包括诸如铬(Cr或CrOx)之类的不透明金属材料、树脂材料或吸光材料。黑矩阵图案17可使用其他材料。
根据实施方式的黑矩阵图案17可具有矩形形状、锥形形状或倒锥形形状。可根据形成黑矩阵的光刻工艺中的曝光条件和显影条件而改变黑矩阵图案17的形状。因此，黑矩阵图案17的形状可改变。
中间层15可设置在黑矩阵图案17与缓冲层13之间。中间层15可设置在黑矩阵图案17与缓冲层13之间，以用于避免当黑矩阵图案17直接接触缓冲层13时黑矩阵图案17的粘合力减小。因此，黑矩阵图案17不直接接触缓冲层13。为此，中间层15可由与黑矩阵图案17具有相似疏水性的材料形成，从而增大黑矩阵图案17的粘合力。根据实施方式的中间层15可包括有机材料或经氟化处理的有机材料，与包括无机材料的缓冲层13相比，上述有机材料或经氟化处理的有机材料与黑矩阵图案17具有更高的粘合力。例如，中间层15可包括压克力树脂(acryl resin)、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、苯并环丁烯树脂和含氟树脂中的至少一种有机材料。可使用其他材料。
根据实施方式的中间层15可通过在缓冲层13的整个前表面上形成有机材料的工艺和使用黑矩阵图案17作为掩模的图案化工艺(或灰化工艺)来形成。因此，与多个像素开口11a交叠的缓冲层13可被暴露而不被中间层15覆盖。因此，在本发明的实施方式中，中间层15可设置在黑矩阵图案17与缓冲层13之间，并且，即使没有单独的工艺，缓冲层13也可选择性地暴露。在本发明的实施方式中，中间层15可具有与黑矩阵图案17的厚度大致相同的厚度，但这不是必需的；中间层15可具有大于或小于黑矩阵图案17的厚度的厚度。此外，中间层15在第一方向X上可具有与黑矩阵图案17的宽度大致相同的宽度，使得中间层15和黑矩阵图案17交叠，但这不是必需的；中间层15和黑矩阵图案17的各自宽度可不同。
滤色器层19可设置在多个像素开口11a的每一个中。在此情况中，滤色器层19可直接接触与多个像素开口11a的每一个交叠的缓冲层13。但是，在其他实施方式中，滤色器层19不必直接接触缓冲层13。
根据实施方式的滤色器层19可包括多个第一滤色器19a、多个第二滤色器19b和多个第三滤色器19c。这里，多个第一滤色器19a的每一个可限定为红色滤色器、绿色滤色器和蓝色滤色器中的一种滤色器，多个第二滤色器19b的每一个可限定为红色滤色器、绿色滤色器和蓝色滤色器中的除第一滤色器19a以外的其他滤色器中的一种滤色器，多个第三滤色器19c的每一个可限定为红色滤色器、绿色滤色器和蓝色滤色器中的除第一滤色器19a和第二滤色器19b以外的另一滤色器。例如，第一滤色器19a的每一个可限定为红色滤色器，第二滤色器19b的每一个可限定为绿色滤色器，第三滤色器19c的每一个可限定为蓝色滤色器。可使用其他滤色器，并且滤色器的数量可变化。
第一至第三滤色器19a至19c可在第一方向X中交替布置。也就是说，第一滤色器19a可设置在限定于第一方向X上的多个单元像素区域UPA中的第一像素开口中，第二滤色器19b可设置在多个单元像素区域UPA中的第二像素开口中，第三滤色器19c可设置在多个单元像素区域UPA中的第三像素开口中。
可选地，滤色器层19可包括量子点，量子点根据入射光而再发光以发射具有预定颜色的光。这里，量子点可从CdS、CdSe、CdTe、ZnS、ZnSe、GaAs、GaP、GaAs-P、Ga-Sb、InAs、InP、InSb、AlAs、AlP、AlSb等中选择。例如，第一滤色器19a可均包括发射红色光的CdSe或InP量子点，第二滤色器19b可均包括发射绿色光的CdZnSeS量子点，第三滤色器19c可均包括发射蓝色光的ZnSe量子点。如以上描述的，当滤色器层19包括量子点时，颜色再现率提高。可使用其他材料，包括其他发光材料。在本发明的实施方式中，中间层15和黑矩阵图案17一起可具有与滤色器层19的厚度相同的厚度，但这不是必需的。因此，中间层15和黑矩阵图案17一起可具有大于或小于滤色器层19的厚度的厚度。
在根据本发明实施方式的柔性滤色器基板10中，由于设置在缓冲层13与黑矩阵图案17之间的包括疏水材料的中间层15，黑矩阵图案17的粘合力增大，因此，在图案化黑矩阵图案17时避免了黑矩阵图案17异常地形成和缺失，从而提高了生产率。可使用具有除了疏水性以外的其他特性的材料。
图3是用于描述根据本发明实施方式的柔性滤色器基板的平面图，图4是沿图3所示的线II-II'截取的截面图。图3和4示出其中在图1和2所示的单元像素区域中附加设置白色开口和透射部的实例。因此，在下面的描述中，将仅描述白色开口、透射部和与其相关的元件，并且将简要给出或省略对其他相同元件的描述。
参照图3和4，根据本发明实施方式的柔性滤色器基板10可进一步包括由黑矩阵图案17限定的多个白色开口11b。根据所有实施方式的柔性滤色器基板的所有组件可操作地结合和配置。
多个白色开口11b的每一个可设置在单元像素区域UPA的每一个中，由此增大单元像素区域UPA的每一个的白色亮度。如图3所示，可以有多个单元像素区域UPA。
例如，在每个单元像素区域UPA中，每个白色开口11b可限定为四个相邻开口11a中的一个。多个白色开口11b的每一个可不包括上述滤色器。也就是说，滤色器层19可设置在除多个白色开口11b以外的其他像素开口11a中。因此，多个白色开口11b的每一个可仅包括缓冲层13，因此与多个白色开口11b交叠的缓冲层13可被暴露而不被中间层15和滤色器层19覆盖。
构成一个单元像素区域UPA的三个像素开口11a和一个白色开口11b可沿第二方向Y彼此相邻设置，或者可沿第一方向X彼此相邻设置。此外，在每个单元像素区域UPA中的像素开口的数量可大于四(4)。
根据本发明实施方式的柔性滤色器基板10可包括由黑矩阵图案17限定的多个透射部11c。
多个透射部11c的每一个可设置在单元像素区域UPA的相应单元像素区域中，因此每个单元像素区域UPA的一部分可以是透明的，从而增大每个单元像素区域UPA的透明度。
例如，在每个单元像素区域UPA中，透射部11c可被设置为与包括在相应单元像素区域UPA中的四个相邻像素开口相邻且平行。在此情况中，透射部11c的尺寸可被设定为每个单元像素区域UPA的尺寸的一半以达到优化的光学质量，但可根据每个单元像素区域UPA中设定的透明度而变化，但不限于此。为此，多个透射部11c的每一个可不包括上述滤色器。也就是说，滤色器层19可设置在除多个透射部11c以外的其他像素开口11a中。因此，多个透射部11c的每一个可仅包括缓冲层13，因此与多个白色开口11b交叠的缓冲层13可被暴露而不被中间层15和滤色器层19覆盖。
可选地，在图3和4中，白色开口11b和透射部11c被图示为设置在每个单元像素区域UPA中，但不限于此。在其他实施方式中，根据本发明的每个单元像素区域UPA可包括白色开口11b和透射部11c的至少之一。例如，每个单元像素区域UPA可包括白色开口11b，并且在此情况中，滤色器层19可设置在除白色开口以外的其他像素开口中。作为另一实例，每个单元像素区域UPA可包括透射部11c，并且在此情况中，滤色器层19可设置在除透射部以外的其他像素开口中。
在根据本发明实施方式的柔性滤色器基板10中，黑矩阵图案17的粘合力由于设置在缓冲层13与黑矩阵图案17之间的包括疏水材料的中间层15而增大，因此，在图案化黑矩阵图案17时避免了黑矩阵图案17异常地形成和缺失，从而提高了生产率。此外，根据本发明实施方式的柔性滤色器基板10可由于设置在每个单元像素区域UPA中的透射部11c而具有透明度，因此，柔性滤色器基板10可以是透明柔性显示装置的滤色器基板。
图5A是示出形成根据比较例的黑矩阵图案的状态的显微镜照片，图5B是示出对于图3和4所示的柔性滤色器基板形成黑矩阵图案的状态的显微镜照片。
如图5A所示，在比较例中，能够看到由于黑矩阵图案BM直接设置在包括无机材料的缓冲层上，因此缓冲层与黑矩阵图案BM之间的粘合力由于包括无机材料的缓冲层与黑矩阵图案BM之间的表面能量差而减小，因此，限定白色开口11b和透射部11c的每一个的黑矩阵图案BM的一部分未形成，而是缺失。
另一方面，如图5B所示，能够看到在本发明中，由于具有疏水性的中间层设置在黑矩阵图案17与包括无机材料的缓冲层之间，因此中间层与黑矩阵图案17之间的粘合力增大，因此黑矩阵图案17被形成为具有正常形状。
因此，在根据本发明实施方式的柔性滤色器基板10中，在图案化黑矩阵图案17时避免了黑矩阵图案17异常地形成和缺失，从而提高了生产率。
图6是用于描述根据本发明实施方式的柔性显示装置的截面图，图6示出其中柔性显示装置配置有图1和2所示的柔性滤色器基板的实例。
参照图6以及图1和2，根据本发明实施方式的柔性显示装置可包括下基板100、上基板300和透明粘合层500。根据所有实施方式的柔性显示装置的所有组件可操作地结合和配置。
下基板100可限定为薄膜晶体管(TFT)阵列基板。根据实施方式的下基板100可包括第一柔性基板110和像素阵列层130。
第一柔性基板110可由能够被弯曲或卷曲的不透明柔性材料形成。根据实施方式的第一柔性基板110可包括不透明聚酰亚胺材料，但不限于此。在其他实施方式中，第一柔性基板110可由不透明塑料材料形成。例如，包括不透明聚酰亚胺材料的第一柔性基板110可通过固化聚酰亚胺树脂而形成，其中聚酰亚胺树脂在设置在第一载体玻璃基板上的第一剥离层的前表面上被涂布成具有一定厚度。第一载体玻璃基板可通过经由激光剥离工艺剥离第一剥离层而与第一柔性基板110分离，其中在通过使用透明粘合层500将下基板100接合至上基板300的工艺之后执行激光剥离工艺。
第一柔性基板110可包括显示区域和围绕显示区域的非显示区域。非显示区域可设置在第一柔性基板110的边缘。
第一柔性基板110的显示区域可包括多个单元像素区域。
多个单元像素区域可均包括像素区域PA，像素区域PA包括发光区域EA和电路区域CA。多个像素区域PA可包括在单元像素区域中。
根据实施方式的多个单元像素区域可均包括沿第一方向X彼此相邻设置的第一子像素区域SPA1、第二子像素区域和第三子像素区域。第一子像素区域SPA1、第二子像素区域和第三子像素区域的每一个可包括电路区域CA和发光区域EA。例如，第一子像素区域SPA1可限定为红色子像素，第二子像素区域可限定为绿色子像素，第三子像素区域可限定为蓝色子像素。可使用其他颜色。
根据实施方式的多个单元像素区域可均包括沿第一方向X彼此相邻设置的第一子像素区域SPA1、第二子像素区域、第三子像素区域和第四子像素区域。可使用附加的子像素区域。第一子像素区域SPA1、第二子像素区域、第三子像素区域和第四子像素区域的每一个可包括电路区域CA和发光区域EA。例如，第一子像素区域SPA1可限定为红色子像素，第二子像素区域可限定为白色子像素，第三子像素区域可限定为蓝色子像素，第四子像素区域可限定为绿色子像素。
可选地，缓冲层可设置在第一柔性基板110的前表面上。缓冲层可设置在第一柔性基板110的整个前表面上，以用于避免水分经由第一柔性基板110而渗透到像素阵列层130中。根据实施方式的缓冲层可包括具有无机材料的至少一个无机层。例如，缓冲层可包括SiOx、SiNx、SiON、TiOx和AlOx中的至少一种无机材料。可使用其他材料。缓冲层可被省略。
像素阵列层130可设置在位于第一柔性基板110上的显示区域中。根据实施方式的像素阵列层130可包括多条栅极线、多条数据线、多条驱动电源线、像素驱动电路131、绝缘层132、多个像素电极133、堤图案(bank pattern)134、发光器件层135和公共电极136。
栅极线可设置在第一柔性基板110上，可平行于第一柔性基板110的第一方向X，且可沿第一柔性基板110的第二方向Y彼此间隔开。栅极线可由栅极绝缘层覆盖。
数据线可设置在位于第一柔性基板110上的栅极绝缘层上，可平行于第一柔性基板110的第二方向Y，且可沿第一柔性基板110的第一方向X彼此间隔开。
驱动电源线可与数据线平行地设置在栅极绝缘层上。
像素驱动电路131可设置在位于由栅极线和数据线的交叉限定的多个子像素区域的每一个中的电路区域CA中，且可包括至少一个开关薄膜晶体管TFT、一个驱动TFT和至少一个存储电容器。根据通过相邻栅极线提供的栅极信号、通过相邻驱动电源线提供的驱动电力和通过相邻数据线提供的数据信号，像素驱动电路131可允许发光器件层135发光。可使用附加的TFT。
绝缘层132可设置在第一柔性基板110上以覆盖被设置为多个的像素驱动电路131、数据线和驱动电源线。根据实施方式的绝缘层132可包括SiOx、SiNx、SiON、TiOx和AlOx中的至少一种无机材料。可使用其他材料。绝缘层132可称为钝化层。
多个像素电极133可在多个子像素区域中被单独地图案化，且可称为发光器件层135的阳极电极。多个像素电极133的每一个可通过设置在与相应子像素区域交叠的绝缘层132中的接触孔而电连接至相应驱动电路131的驱动TFT。多个像素电极133的每一个可包括具有高反射率的金属材料。例如，多个像素电极133的每一个可形成为多层结构，比如Al和Ti的堆叠结构(Ti/Al/Ti)、Al和氧化铟锡(ITO)的堆叠结构(ITO/Al/ITO)、APC(Ag/Pd/Cu)合金、或APC合金和ITO的堆叠结构(ITO/APC/ITO)；或者多个像素电极133的每一个可包括单层结构，单层结构包括从银(Ag)、铝(Al)、钼(Mo)、金(Au)、镁(Mg)、钙(Ca)和钡(Ba)中选择的一种材料或两种或更多种合金材料。可使用其他材料。
堤图案134可在多个子像素区域的每一个中限定发光区域EA且可被称为像素限定层(或隔离层)。堤图案134可设置在多个像素电极133的每一个的边缘中且设置在绝缘层132上，以与多个子像素区域的每一个中的电路区域CA交叠且可限定多个子像素区域的每一个中的发光区域EA。例如，堤图案134可包括压克力树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、苯并环丁烯树脂和含氟树脂中的一种有机材料。作为另一实例，堤图案134可由包括黑颜料的光敏材料形成，在此情况中，堤图案134可用作光阻挡图案。
发光器件层135可设置在多个像素电极133上。根据实施方式的发光器件层135可包括用于发射白色光的两个或更多个发光部。例如，发光器件层135可包括第一发光部和第二发光部，用于基于第一光和第二光的组合而发射白色光。这里，第一发光部可发射第一光且可包括蓝色发光部、绿色发光部、红色发光部、黄色发光部和黄绿色发光部中的一个。第二发光部可包括蓝色发光部、绿色发光部、红色发光部、黄色发光部和黄绿色发光部中的、发射与第一光具有互补颜色关系的光的发光部。发光器件层135可发射白色光，因此可设置在第一柔性基板110上以覆盖多个像素电极133和堤图案134，而无需在多个子像素区域的每一个中被单独图案化。
公共电极136可被设置为覆盖发光器件层135且可被称为发光器件层135的阴极电极。根据实施方式的公共电极136可由作为透明导电材料(比如透明导电氧化物(TCO))的ITO或氧化铟锌(IZO)形成，以便使从发光器件层135发出的光透射至上基板300。
在像素阵列层130中，与多个子像素区域的每一个的发光区域EA交叠的发光器件层135可根据从设置在每个子像素区域中的像素驱动电路131提供的数据信号而发光，因此，从发光器件层135发出的光可经由公共电极136传输到上基板300。因此，根据本发明实施方式的像素阵列层130(或柔性显示装置)可具有顶发射结构。
根据本发明实施方式的下基板100可进一步包括钝化层150。
钝化层150可设置在第一柔性基板110上以覆盖像素阵列层130。根据实施方式的钝化层150避免水或氧渗透到发光器件层135中。根据实施方式的钝化层150可包括SiOx、SiNx、SiON、TiOx和AlOx中的至少一种无机材料。可使用其他材料。
可选地，钝化层150可进一步包括至少一个有机层。有机层可形成为具有足够的厚度以用于避免颗粒经由钝化层150渗透到发光器件层135中。根据实施方式的有机层可包括压克力树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、苯并环丁烯树脂和含氟树脂中的一种有机材料。可使用其他材料。
附加地，根据本发明实施方式的子像素区域可在显示区域中以Pentile结构布置。在此情况中，一个单元像素区域可包括平面地布置为多边形的一个红色子像素区域、两个绿色子像素区域和一个蓝色子像素区域。例如，具有Pentile结构的单元像素区域可包括平面地布置为八边形的一个红色子像素区域、两个绿色子像素区域和一个蓝色子像素区域。在此情况中，蓝色子像素区域可具有最大尺寸，两个绿色子像素区域的每一个可具有最小尺寸。可使用各种尺寸的其他颜色的子像素。
上基板300可限定为滤色器阵列基板。根据实施方式的上基板300可形成为图1和2所示的柔性滤色器基板10，且可包括第二柔性基板11、缓冲层13、黑矩阵图案17、中间层15和滤色器层19。除了图1和2所示的术语“柔性滤色器基板10”变成术语“第二柔性基板11”，上基板300的元件与图1和2所示的柔性滤色器基板10的元件相同，因此省略了对它们的重复描述。
在上基板300中，黑矩阵图案17可与设置在下基板100上的堤图案134交叠，由黑矩阵图案17限定的多个像素开口的每一个可与设置在下基板100的多个子像素区域的相应子像素区域中的发光区域EA交叠。因此，分别设置在上基板300的像素开口中的多个滤色器19a至19c的每一个可仅透射从交叠的发光区域EA入射的白色光中的、具有相应像素中设定的颜色的光的波长。
第二柔性基板11可通过固化聚酰亚胺树脂而形成，聚酰亚胺树脂在设置在第二载体玻璃基板上的第二剥离层的前表面上被涂布成具有一定厚度。第二载体玻璃基板可通过经由激光剥离工艺剥离第二剥离层而与第二柔性基板11分离，其中在通过使用透明粘合层500将下基板100接合至上基板300的工艺之后执行激光剥离工艺。
透明粘合层500可设置在上基板300与下基板100之间且可将上基板300相对地接合至下基板100。透明粘合层500可称为填充物。根据实施方式的透明粘合层500可包括能够被填充到下基板100与上基板300之间的区域中的材料且可由能够透射光的透明环氧树脂形成，但不限于此。透明粘合层500可通过诸如喷墨工艺、狭缝涂布工艺或丝网印刷工艺之类的工艺形成在下基板100上，但不限于此，透明粘合层500可形成在上基板300上。
当上基板300包括由黑矩阵图案17限定的多个白色开口以与下基板100的白色子像素交叠时，透明粘合层500可直接接触如图3和4所示的与多个白色开口的每一个交叠的缓冲层13。在此情况中，透明粘合层500可填充到上基板300与下基板100之间的整个区域中，因此，避免了由透明粘合层500的不充分填充(或涂布缺陷)导致的涂污，从而提高生产率。
此外，根据本发明实施方式的柔性显示装置可进一步包括围绕透明粘合层500的外部的坝图案(dam pattern)700。
坝图案700可以闭环(closed loop)形式设置在上基板300的边缘中。根据实施方式的坝图案700可在设置于上基板300上的缓冲层13的边缘中设置为具有一定高度。坝图案700可避免透明粘合层500分散或溢出且可将下基板100接合至上基板300。根据实施方式的坝图案700可通过诸如紫外(UV)光之类的光固化且可由高粘性树脂(例如环氧树脂材料)形成。此外，坝图案700可由包括能够吸收水和/或氧的吸气材料(getter material)的环氧树脂材料形成，但不限于此。坝图案700可避免外部的水和/或氧渗透到接合的下基板100与上基板300之间的空间中，以保护发光器件层135使其免受水和/或氧的影响，从而避免发光器件层135的寿命由于水和/或氧缩短，并提高发光器件层135的可靠性。
如以上描述的，由于根据本发明实施方式的柔性显示装置包括图1和2所示的柔性滤色器基板，因此在图案化黑矩阵图案17时避免了黑矩阵图案17异常地形成和缺失，从而提高了生产率。此外，在根据本发明实施方式的柔性显示装置中，由于包括无机材料的缓冲层13与黑矩阵图案17之间的中间层15，因此基于与黑矩阵图案17交叠的缓冲层13的外部光反射区域被减少。
图7是用于描述根据本发明实施方式的柔性显示装置的截面图，图7示出其中柔性显示装置配置有图3和4所示的柔性滤色器基板的实例。
参照图7以及图3和4，根据本发明实施方式的柔性显示装置可包括下基板100、上基板300和透明粘合层500。根据所有实施方式的柔性显示装置的所有组件可操作地结合和配置。
下基板100可限定为TFT阵列基板。根据实施方式的下基板100可包括第一柔性基板110和像素阵列层130。
第一柔性基板110可包括显示区域和围绕显示区域的非显示区域。非显示区域可设置在第一柔性基板110的边缘中。
第一柔性基板110的显示区域可包括多个单元像素区域UPA。多个单元像素区域UPA可均包括像素区域PA和透射区域TA。
根据实施方式的一个像素区域PA可包括沿第二方向Y彼此相邻设置的第一至第三子像素区域。第一至第三子像素区域的每一个可包括电路区域CA和发光区域EA。例如，第一子像素区域可限定为红色子像素，第二子像素区域可限定为绿色子像素，第三子像素区域可限定为蓝色子像素。
根据另一实施方式的一个像素区域PA可包括沿第二方向Y彼此相邻设置的第一至第四子像素区域。第一至第四子像素区域的每一个可包括电路区域CA和发光区域EA。例如，第一子像素区域可限定为红色子像素，第二子像素区域可限定为白色子像素，第三子像素区域可限定为蓝色子像素，第四子像素区域可限定为绿色子像素。
透射区域TA可与像素区域PA相邻设置。在此情况中，透射区域TA的尺寸可被设定为每个单元像素区域UPA的尺寸的一半以达到优化的光学质量，但并不限于此，透射区域TA的尺寸可根据每个单元像素区域UPA中设定的透明度而变化。
可选地，以上描述的缓冲层可形成或可不形成在110的前表面上。
像素阵列层130可设置在位于第一柔性基板110上的显示区域中。根据实施方式的像素阵列层130可包括多条栅极线、多条数据线、多条驱动电源线、像素驱动电路131、绝缘层132、多个像素电极133、堤图案134、发光器件层135和公共电极136。除了像素驱动电路131被设置在由栅极线和数据线的交叉限定的多个单元像素区域UPA的每一个的像素区域PA中限定的电路区域CA中以外，包括多个元件的像素阵列层130与图6所示的像素阵列层130相同，因此省略其重复描述。因此，由于像素驱动电路131没有设置在多个单元像素区域UPA的每一个的像素区域PA中限定的透射区域TA中，基于多个单元像素区域UPA的每一个中限定的透射区域TA，根据本发明实施方式的像素阵列层130可具有透明度。
在像素阵列层130中，与多个像素区域PA的每一个的发光区域EA交叠的发光器件层135可根据从设置在每个像素区域PA中的像素驱动电路131提供的数据信号而发光，因此，从发光器件层135发出的光可经由公共电极136传输到上基板300。因此，根据本发明实施方式的像素阵列层130(或柔性显示装置)可具有顶发射结构。而且，在柔性显示装置的透射模式中，像素阵列层130可基于设置在每个单元像素区域UPA中的透射区域TA而具有透明度。
根据本发明实施方式的下基板100可进一步包括以上描述的钝化层150，钝化层150可进一步包括以上描述的至少一个有机层。
上基板300可限定为滤色器阵列基板。根据实施方式的上基板300可形成为图3和4所示的柔性滤色器基板10，且可包括第二柔性基板11、缓冲层13、黑矩阵图案17、中间层15和滤色器层19。除了图3和4所示的术语“柔性滤色器基板10”变成术语“第二柔性基板11”以外，上基板300的元件与图3和4所示的柔性滤色器基板10的元件相同，因此省略了它们的重复描述。
在上基板300中，黑矩阵图案17可与设置在下基板100上的堤图案134交叠，由黑矩阵图案17限定的多个像素开口的每一个可与设置在下基板100的像素区域PA的相应像素区域中的发光区域EA交叠。因此，分别设置在上基板300的像素开口中的多个滤色器19a至19c的每一个可仅透射从交叠的发光区域EA入射的白色光中的、具有相应像素中设定的颜色的光的波长。
此外，在上基板300中，由黑矩阵图案17限定的多个透射部11c可与设置在下基板100的每个单元像素区域UPA中的透射区域TA交叠。因此，在透射模式中，柔性显示装置可基于彼此交叠的下基板100的透射区域TA和上基板300的透射部11c而具有透明度。
第二柔性基板11可通过固化聚酰亚胺树脂而形成，聚酰亚胺树脂在设置在第二载体玻璃基板上的第二剥离层的前表面上被涂布成具有一定厚度。第二载体玻璃基板可通过经由激光剥离工艺剥离第二剥离层而与第二柔性基板11分离，其中在通过使用透明粘合层500将下基板100接合至上基板300的工艺之后执行激光剥离工艺。
透明粘合层500可设置在上基板300与下基板100之间且可将上基板300相对地接合至下基板100。透明粘合层500可称为填充物。根据实施方式的透明粘合层500可包括能够被填充到下基板100与上基板300之间的区域中的材料且可由能够透射光的透明环氧树脂形成，但不限于此。透明粘合层500可通过诸如喷墨工艺、狭缝涂布工艺或丝网印刷工艺之类的工艺形成在下基板100上，但不限于此，透明粘合层500可形成在上基板300上。
透明粘合层500可填充到上基板300的透射部11c中，且可直接接触与上基板300的透射部11c交叠的缓冲层13。在此情况中，透明粘合层500可由具有亲水性的材料形成，缓冲层13也可由具有亲水性的材料形成，由此透明粘合层500与缓冲层13之间的粘合力增大。因此，透明粘合层500可填充到上基板300与下基板100之间的整个区域中，因此避免了由透明粘合层500的不充分填充(或涂布缺陷)导致的涂污。
此外，根据本发明实施方式的柔性显示装置可进一步包括围绕透明粘合层500的外部的坝图案700。坝图案700可以闭环形式设置在上基板300的边缘中，可避免透明粘合层500分散或溢出，且可将下基板100接合至上基板300。坝图案700可避免外部的水和/或氧渗透到接合的下基板100与上基板300之间的空间中，以保护发光器件层135使其免受水和/或氧的影响，从而避免发光器件层135的寿命由于水和/或氧缩短，并提高发光器件层135的可靠性。
由于根据本发明实施方式的柔性发光显示装置包括图3和4所示的柔性滤色器基板，因此在图案化黑矩阵图案17时避免了黑矩阵图案17异常地形成或缺失，透明粘合层500被填充到上基板300与下基板100之间的整个区域中。因此，避免了由透明粘合层500的不充分填充(或涂布缺陷)导致的涂污，从而提高了生产率。
根据本发明实施方式的柔性发光显示装置可包括包含像素阵列层的下基板、包括滤色器的上基板和设置在下基板与上基板之间的透明粘合层，其中上基板可包括设置在柔性基板上的缓冲层、设置在缓冲层上以限定多个像素开口的黑矩阵图案、和设置在黑矩阵图案与缓冲层之间的中间层。
在本发明的实施方式中，像素阵列层可包括多个单元像素区域，每一个单元像素区域包括第一至第四子像素区域，第一至第四子像素区域的每一个包括电路区域和发光区域，限定在上基板上的多个像素开口的每一个可与第一至第三子像素区域的每一个的发光区域交叠，上基板可进一步包括多个白色开口，多个白色开口由黑矩阵图案限定以与设置在多个单元像素区域的每一个中的第四子像素区域的发光区域交叠，滤色器层可设置在除了多个白色开口以外的其他像素开口中。
在本发明的实施方式中，透明粘合层可直接接触与多个白色开口的每一个交叠的缓冲层。
在本发明的实施方式中，由像素阵列层限定的多个单元像素区域的每一个可进一步包括与第一至第四子像素区域相邻的透射区域，上基板可进一步包括由黑矩阵图案限定的多个透射部，多个透射部与设置在多个单元像素区域的每一个中的透射区域交叠，滤色器层可设置在除了多个透射部以外的其他像素开口中。
在本发明的实施方式中，透明粘合层可直接接触与多个透射部的每一个交叠的缓冲层。
在本发明的实施方式中，像素阵列层可包括多个单元像素区域，每一个单元像素区域包括第一至第三子像素区域和与第一至第三子像素区域相邻的透射区域，第一至第三子像素区域的每一个包括电路区域和发光区域，限定在上基板上的多个像素开口的每一个可与第一至第三子像素区域的每一个的发光区域交叠，上基板可进一步包括多个透射部，多个透射部由黑矩阵图案限定以与设置在多个单元像素区域的每一个中的透射区域交叠，滤色器层可设置在除了多个透射部以外的其他像素开口中。
在本发明的实施方式中，透明粘合层可直接接触与多个透射部的每一个交叠的缓冲层。
根据本发明实施方式的柔性滤色器基板包括：柔性基板；设置在所述柔性基板上的缓冲层；设置在所述缓冲层上以限定多个像素开口的黑矩阵图案，所述黑矩阵图案不与所述缓冲层直接接触；和设置在所述多个像素开口的每一个中的滤色器层。
如以上描述的，在根据本发明实施方式的柔性滤色器基板和包括柔性滤色器基板的柔性发光显示装置中，在图案化黑矩阵图案时避免了黑矩阵图案异常地形成或缺失，透明粘合层被填充到上基板与下基板之间的整个区域中。因此，避免了由透明粘合层的不充分填充(或涂布缺陷)导致的涂污，因而提高了生产率。
对所属领域技术人员将显而易见的是，在不脱离本发明的精神或范围的情况下，可在本发明中进行各种修改和变化。因此，本发明旨在涵盖落在所附权利要求书的范围及其等同范围内的对本发明的修改和变化。

Claims (21)

1.一种柔性滤色器基板，包括：
柔性基板；
设置在所述柔性基板上的缓冲层；
设置在所述缓冲层上以限定多个像素开口的黑矩阵图案；
设置在所述黑矩阵图案与所述缓冲层之间的中间层；和
设置在所述多个像素开口的每一个中的滤色器层。
2.如权利要求1所述的柔性滤色器基板，其中所述中间层包括疏水材料。
3.如权利要求1所述的柔性滤色器基板，其中所述缓冲层包括具有无机材料的至少一个无机层，并且
其中所述中间层包括有机材料。
4.如权利要求3所述的柔性滤色器基板，其中所述中间层包括压克力树脂、环氧树脂、酚醛树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、苯并环丁烯树脂和含氟树脂中的至少一种有机材料。
5.如权利要求3所述的柔性滤色器基板，其中所述中间层包括经氟化处理的有机材料。
6.如权利要求1所述的柔性滤色器基板，其中所述滤色器层直接接触与所述多个像素开口的每一个交叠的缓冲层。
7.如权利要求1所述的柔性滤色器基板，其中所述缓冲层设置在所述柔性基板的整个前表面上以用作阻挡层。
8.如权利要求1至7中的一项所述的柔性滤色器基板，还包括由所述黑矩阵图案限定的多个白色开口，其中
所述多个像素开口中的三个相邻像素开口构成一个单元像素区域，
所述多个白色开口的每一个设置在多个单元像素区域的相应单元像素区域中，并且
所述滤色器层设置在除了所述多个白色开口以外的其他像素开口中。
9.如权利要求8所述的柔性滤色器基板，还包括由所述黑矩阵图案限定的多个透射部，其中
所述多个透射部的每一个设置在所述多个单元像素区域的相应单元像素区域中，并且
所述滤色器层设置在除了所述多个透射部以外的其他像素开口中。
10.如权利要求1至7中的一项所述的柔性滤色器基板，还包括由所述黑矩阵图案限定的多个透射部，其中
所述多个像素开口中的三个相邻像素开口构成一个单元像素区域，
所述多个透射部的每一个设置在多个单元像素区域的相应单元像素区域中，并且
所述滤色器层设置在除了所述多个透射部以外的其他像素开口中。
11.一种柔性发光显示装置，包括：
包括像素阵列层的下基板；
包括滤色器的上基板；和
设置在所述下基板与所述上基板之间的透明粘合层，其中
所述上基板包括如权利要求1至7中的一项所述的柔性滤色器基板。
12.如权利要求11所述的柔性发光显示装置，其中
所述像素阵列层包括多个单元像素区域，每个所述单元像素区域包括第一子像素区域至第四子像素区域，第一子像素区域至第四子像素区域的每一个包括电路区域和发光区域，
在所述上基板上限定的多个像素开口的每一个与第一子像素区域至第三子像素区域的每一个的发光区域交叠，
所述上基板还包括多个白色开口，所述多个白色开口由所述黑矩阵图案限定以与设置在所多个单元像素区域的每一个中的第四子像素区域的发光区域交叠，并且
所述滤色器层设置在除了所述多个白色开口以外的其他像素开口中。
13.如权利要求12所述的柔性发光显示装置，其中所述透明粘合层直接接触与所述多个白色开口的每一个交叠的缓冲层。
14.如权利要求12所述的柔性发光显示装置，其中
由所述像素阵列层限定的多个单元像素区域的每一个还包括与第一子像素区域至第四子像素区域相邻的透射区域，
所述上基板还包括多个透射部，所述多个透射部由所述黑矩阵图案限定以与设置在所述多个单元像素区域的每一个中的透射区域交叠，并且
所述滤色器层设置在除了所述多个透射部以外的其他像素开口中。
15.如权利要求14所述的柔性发光显示装置，其中所述透明粘合层直接接触与所述多个透射部的每一个交叠的缓冲层。
16.如权利要求11所述的柔性发光显示装置，其中
所述像素阵列层包括多个单元像素区域，所述多个单元像素区域的每一个包括第一子像素区域至第三子像素区域和与第一子像素区域至第三子像素区域相邻的透射区域，所述第一子像素区域至所述第三子像素区域的每一个包括电路区域和发光区域，
在所述上基板上限定的多个像素开口的每一个与第一子像素区域至第三子像素区域的每一个的发光区域交叠，
所述上基板还包括多个透射部，所述多个透射部由所述黑矩阵图案限定以与设置在所述多个单元像素区域的每一个中的透射区域交叠，并且
所述滤色器层设置在除了所述多个透射部以外的其他像素开口中。
17.如权利要求16所述的柔性发光显示装置，其中所述透明粘合层直接接触与所述多个透射部的每一个交叠的缓冲层。
18.如权利要求11所述的柔性发光显示装置，其中所述透明粘合层填充在所述上基板与所述下基板之间的整个区域中。
19.如权利要求11所述的柔性发光显示装置，其中在所述下基板上设置有用于限定发光区域的堤图案，所述堤图案与所述黑矩阵图案交叠。
20.如权利要求11所述的柔性发光显示装置，还包括围绕所述透明粘合层的外部的坝图案，所述坝图案以闭环形式设置在所述上基板的边缘中。
21.如权利要求14或16所述的柔性发光显示装置，其中所述透射区域的尺寸被设定为每个单元像素区域的尺寸的一半。
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