CN109358459A - 一种显示面板、制作方法和显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种显示面板、制作方法和显示装置。显示面板划分为显示区和非显示区,显示面板包括:第一基板、和第一基板对置第二基板以及金球;所述第一基板包括透明电极层和公共线,所述第二基板包括公共电极;金球设置在所述显示面板的非显示区,用于导通所述第一基板的公共线和第二基板的公共电极;所述公共线包括转接板,所述转接板设置在对应金球的位置,所述透明电极层和所述转接板贴合导通,所述转接板通过所述透明电极层和所述金球导通,所述透明电极层覆盖的面积大于所述转接板覆盖的面积。由于透明电极层的覆盖面积比较大,第一基板的公共线和第二基板的公共电极之间的导通不受影响,提高显示面板的质量。

Description

一种显示面板、制作方法和显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示面板、制作方法和显示装置。
背景技术
显示面板,如薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transis-tor-Liquid CrystalDisplay,TFT-LCD),制程包括阵列基板、彩膜基板及液晶成盒,其中液晶成盒是在阵列基板及彩膜基板制作完成之后一起移送液晶成盒完成的。在液晶成盒中,除了各种清洗工艺外,主要工艺制程包括液晶取向层的涂布、液晶滴注、边框胶涂布(必要的金球涂布)、真空组立成盒、切割等。
真空组立成盒以及金球涂布时,会有误差的存在,进而影响彩膜基板和阵列基板之间电位的传送。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种提高显示质量的显示面板、制作方法和显示装置。
为实现上述目的,本发明提供了一种显示面板,显示面板划分为显示区和非显示区,包括:第一基板、与所述第一基板对置第二基板以及金球,所述金球设置在所述第一基板和第二基板之间;所述第一基板包括透明电极层和公共线,所述第二基板包括公共电极;所述金球设置在所述显示面板的非显示区,用于导通所述第一基板的公共线和第二基板的公共电极;所述公共线包括转接板,所述转接板设置在对应金球的位置,所述透明电极层和所述转接板贴合导通,所述转接板通过所述透明电极层和所述金球导通,所述透明电极层覆盖的面积大于所述转接板覆盖的面积。
可选的,所述公共线还包括公共线走线,所述公共线走线为网格状镂空,所述公共线走线与所述转接板连通,所述透明电极层覆盖转接板并部分覆盖转接板外围的公共线走线。
可选的,所述第一基板包括第一金属层,所述第一金属层和所述公共线同层设置。
可选的,所述第一基板上还设置有第一信号线,所述公共线的讯号和第一信号线的讯号不同,所述透明电极层覆盖对应所述第一信号线的区域;所述第一基板还设有绝缘层,所述绝缘层设置在所述第一信号线与所述透明电极层之间。
可选的,所述第一基板的公共线形成在所述第一基板的第一金属层,所述绝缘层包括第一绝缘层和钝化层,所述第一绝缘层设置在所述第一金属层上,所述钝化层设置在所述绝缘层上。
可选的,在对应金球的位置,所述第一绝缘层和钝化层通过同一光罩制程形成相同的图案形状。
可选的,所述第一信号线与所述透明电极层之间设置有所述绝缘层,对应公共线区域的透明电极层与所述转接板之间直接贴合。
可选的,所述第一金属层包括公共线和第一信号线,所述公共线和第一信号线传输不同的讯号,所述透明电极层不覆盖所述第一信号线对应的区域,沿所述公共线往第一信号线的方向,所述透明电极层凸出于所述转接板的宽度为d,所述第一信号线与公共线之间的间隔为w,w<d。
可选的,沿所述公共线往所述第一信号方向上,所述透明电极层凸出于所述转接板一侧的宽度为d1,凸出于另一侧的宽度为d4;沿与公共线往第一信号方向垂直的方向上,所述透明电极层凸出于所述转接板一侧的宽度为d2,凸出于另一侧的宽度为d3,其中,d1=d4<d2=d3。
本发明还公开了一种显示面板的制作方法,包括:
形成第一基板的步骤;形成第二基板的步骤,其中所述第二基板上形成有公共电极;把形成的第二基板和第一基板对置,通过在显示面板的非显示区设置的金球,导通所述第一基板和第二基板的步骤;
其中,在形成所述第一基板的步骤中,包括以下步骤:
形成公共线及公共线的转接板,所述转接板设置在对应金球的位置;形成透明电极层,形成的所述透明电极层和形成的转接板贴合导通,公共线的转接板通过透明电极层和金球导通,其中,形成的透明电极层的覆盖面积大于转接板的覆盖面积。
本发明还公开了一种显示装置,包括如上述的显示面板。
相对于透明电极层的设置是透明电极层的覆盖面积等于转接板的覆盖面积的方案来说,本申请所述透明电极层覆盖的面积大于所述转接板覆盖的面积,即使因为各种误差使得金球的位置发生偏移,由于透明电极层的覆盖面积比较大,第一基板的公共线和第二基板的公共电极之间的导通不受影响,提高显示面板的显示质量。
附图说明
所包括的附图用来提供对本申请实施例的进一步的理解,其构成了说明书的一部分,用于例示本申请的实施方式,并与文字描述一起来阐释本申请的原理。显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。在附图中:
图1是本发明的一实施例的一种显示面板的结构的示意图;
图2是本发明的一实施例的一种显示面板的俯视图的示意图;
图3是本发明的一实施例的第一金属层的俯视图的示意图;
图4是本发明的一实施例的第一金属层的剖面图的示意图;
图5是本发明的另一实施例的第一金属层的俯视图的示意图;
图6是本发明的另一实施例的第一金属层的剖面图的示意图;
图7是本发明的一实施例的一种显示面板的制作方法流程的示意图;
图8是本发明的一实施例第一基板的制作方法流程的示意图;
图9是本发明的一实施例的一种显示装置的框图示意图;
图10是本发明一实施例的第一金属层工艺流程示意图;
图11是本发明一实施例绝缘层和钝化层工艺流程示意图;
图12是本发明一实施例透明电极层工艺流程示意图。
其中,10、显示装置;100、显示面板;110、第一基板;111、玻璃基板;112、透明电极层;113、公共线;114、转接板;115、第一金属层;116、第一信号线;117、绝缘层;118、第一绝缘层;119、钝化层;120、第二基板;121、公共电极;130、金球;131、公共线走线。
具体实施方式
需要理解的是,这里所使用的术语、公开的具体结构和功能细节,仅仅是为了描述具体实施例,是代表性的,但是本申请可以通过许多替换形式来具体实现,不应被解释成仅受限于这里所阐述的实施例。
在本申请的描述中,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示相对重要性,或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,除非另有说明,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征;“多个”的含义是两个或两个以上。术语“包括”及其任何变形,意为不排他的包含,可能存在或添加一个或更多其他特征、整数、步骤、操作、单元、组件和/或其组合。
另外,“中心”、“横向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系的术语,是基于附图所示的方位或相对位置关系描述的,仅是为了便于描述本申请的简化描述,而不是指示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。
此外,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,或是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
金球涂布工艺使用在扭曲向列型面板(Twisted Nematic,TN)和垂直配向技术(Vertical Alignment,VA)显示模式的产品中,目的是把TFT基板的公共线(COM)电压传送到彩膜基板(Color Filter,CF)的透明导电膜(ITO)上。涂布金球的位置在框胶(Seal)的外侧,TFT基板的COM线通过接触孔引出,在涂上金球后利用金球的导电能力把COM电位传送到CF基板。定义金球涂布对应在TFT基板上的图案为转接区(transfer pad)。在实际设计薄膜晶体管基板(Thin Film Transistor,TFT)布线(layout)时,布线空间有限致使转接区的大小(transfer pad size)设计受到限制。液晶盒组立时会有组立误差,金球涂布时有涂布误差,再结合transfer pad size受到限制,这都对TFT基板COM电压传到ITO电极产生不利影响。Transfer pad大小只能根据实际产品的设计做设计,可变性不大,那如何消除涂布误差及组立误差就直接关系到COM电压传导好坏。即把第一金属层(Metal1,M1)上的栅极绝缘层(GI)与钝化层(PV)干刻出一个孔(hole),然后涂布上透明导电薄膜ITO。
下面参考附图和可选的实施例对本发明作进一步说明。
如图1至图12所示,本发明在一实施例中,如图1所示,公开了一种显示面板100,划分为显示区和非显示区,所述显示面板100包括:第一基板110、和所述第一基板110对置的第二基板120、以及金球130,所述第一基板110包括透明电极层112和公共线113,所述第二基板120包括公共电极121;所述金球130设置在所述显示面板100的非显示区,用于导通所述第一基板110的公共线113和第二基板120的公共电极121。所述公共线113包括转接板114,所述转接板114设置在对应金球130的位置,所述透明电极层112和所述转接板114贴合导通,所述转接板114通过所述透明电极层112和所述金球130导通,所述透明电极层112覆盖的面积大于所述转接板114覆盖的面积。
所述第一基板110包括透明电极层112和公共线113,公共线113包括转接板114,透明电极层112和转接板114贴合导通,所述转接板114通过所述透明电极层112和所述金球130导通,进一步通过金球130与第二基板120的公共电极121导通。透明电极层112的设置决定了转接板114与金球130之间能否正常导通,进一步决定了第一基板110的公共线113和第二基板120的公共电极121能否正常导通。
相对于如图2所示的方案来说,透明电极层112的设置是透明电极层112的覆盖面积等于转接板114的覆盖面积。然而由于在工艺制程中,会有误差的存在,例如当第一基板110和第二基板120对盒的时候,对位的时存在误差,称为组立误差;在金球130涂布的时候,会存在误差,称为涂布误差;同时还存在其他的误差,称为其他误差,这些误差使得金球130与透明电极层112的接触发生偏离,从而使得接触不良,第一基板110的公共线113与第二基板120的公共电极121导通受到影响。本方案中,所述透明电极层112覆盖的面积大于所述转接板114的面积,即使因为各种误差使得金球130的位置发生偏移,由于透明电极层112的覆盖面积比较大,第一基板110的公共线113和第二基板120的公共电极121之间的导通不受影响,提高显示面板100的显示质量。
如图3所示,在一实施例中,所述公共线还包括公共线走线131,所述公共线走线131为网格状镂空,所述公共线走线131与所述转接板连通,所述透明电极层112覆盖转接板并部分覆盖转接板外围的公共线走线131。
本方案中,所述公共线还包括网格状镂空的公共线走线131,所述公共线走线131和转接板连通,且所述透明电极层112覆盖转接板,以及转接板外围的公共线走线131,因此透明电极层112覆盖的面积变大。当存在误差时,导致金球与透明电极层112的接触面积减少,而透明电极层112覆盖转接板,以及转接板外围的公共线走线131,可接触的面积相对于透明电极层112只覆盖转接板区域的方案来说,可接触的面积增大,因此第一基板的公共线和第二基板的公共电极导通受的影响不大。
在一实施例中,所述第一基板110包括第一金属层115,所述第一金属层115和公共线113处于同一层。
本方案中,所述第一基板110的公共线113与所述第一金属层115同层设置,显示区的信号与公共线113直接导通,不需要其他走线的设置,减少了布线,节约了成本,另外,第一基板110的公共线113与所述第一金属层115同层设置同层形成,通过同一光罩制程形成,减少了光罩,提高生产效率。
当然,公共线113也可以不和第一金属层115同一层,公共线113也可以在第二金属层,公共线113设置在第二金属层时,也是可以实现金球130导通的效果的。当然,公共线113也可以既在第一金属层115又同时在第二金属层,第一金属层115和第二金属层时同时形成所述的公共线113时,所述的公共线为双层结构,增加了金属的整体厚度,使得电阻的阻值减少,有利于信号的传输。对于公共线113的设定位置不进行限定,只要公共线113设置在金属层上即可。
如图3所示,在一实施例中,所述第一基板上还设置有第一信号线116,所述公共线113的讯号和第一信号线116的讯号不同,所述透明电极层112覆盖对应所述第一信号线116的区域,所述第一信号线形成在第一金属层,在同一层。所述第一基板110还设有绝缘层117,所述绝缘层117设置在所述第一信号线116与所述透明电极层112。
本方案中,第一金属层115包括公共线113,而所述公共线113的讯号和所述第一信号线116的讯号不同,对应第一信号线116区域的透明电极层112设置在绝缘层117上。在对盒时,由于对应第一信号线116区域的透明电极层112设置在绝缘层117上,金球130压在转接区(transfer pad),透明电极层112(ITO)即使被压穿还有绝缘层挡着,绝缘层117能抵消部分金球130的压力,防止绝缘层117被压穿,进而防止透明电极层112和对应的金属层导通,由于讯号不同,导通之后会造成讯号的串扰。因而,对应第一信号线116区域的透明电极层112设置在绝缘层117上,绝缘层117可以起到保护的作用,防止透明电极层112和第一信号线116的讯号导通,造成讯号的串扰。
如图4所示,在一实施例中,所述第一基板的公共线形成在所述第一基板的第一金属层,所述绝缘层117包括第一绝缘层118和钝化层(PV)119,所述第一绝缘层118设置在所述第一金属层115上,所述钝化层119设置在所述第一绝缘层118上。
本方案中,绝缘层117包括第一绝缘层118和钝化层119两层,相对于只设有一层绝缘层117的方案来说,层数增加导致整体的厚度增加,金球130压穿绝缘层117的几率降低。因此,可以很好的防止讯号的串扰,提高显示面板100的质量。
当然,绝缘层117可以为第一绝缘层118或者为钝化层119一层结构,只有一层结构的时候,也是可以起到保护作用的,防止不同讯号之间的串扰,绝缘层117的设置,只要与透明电极层112能实现绝缘的效果也是可以的。
如图4所示,在一实施例中,在对应所述金球的位置,所述第一绝缘层118和钝化层119是通过同一光罩制程形成相同的图案形状。本方案中,所述第一绝缘层118和钝化层119通过同一光罩制程形成,节省了光罩的数量及时间,提高了生产效率,减少生产成本。当然,第一绝缘层118和钝化层119也可以不用同一道光罩制程形成,第一绝缘层118和钝化层119可以用不同的光罩分开形成,只要能实现有两层作为绝缘层117也是可以的。另外,第一绝缘层118和钝化层119同一光罩制程形成时,第一绝缘层118和钝化层119形成的图案也可以是不同的,第一绝缘层118形成孔的大小可以和钝化层119形成孔的大小不一样。
沿所述公共线往所述第一信号方向上,所述透明电极层112凸出于所述转接板一侧的宽度为d1,凸出于另一侧的宽度为d4;沿与公共线往第一信号方向垂直的方向上,所述透明电极层112凸出于所述转接板一侧的宽度为d2,凸出于另一侧的宽度为d3,其中,d1=d4>d2=d3。
如图4所示,在一实施例中,所述第一信号线与所述透明电极层112之间设置有绝缘层,对应公共线113区域的透明电极层112与所述转接板114之间直接贴合。
本方案中,对应公共线113区域的透明电极层112与所述转接板114直接贴合,使得透明电极层112和公共线113信号之间直接导通,信号传输的可靠性好;另外,对应第一信号线116区域的透明电极层112设置有两层绝缘层117,而对应公共线113区域的透明电极层112未设置有绝缘层117,而是直接接触的,由于公共线113区域的讯号与透明电极层112的讯号相同,讯号相同没有影响,所以不设置有绝缘层117也是可以的,减少了材料的使用。
当然,对应公共线113区域的透明电极层112也可以设置在绝缘层117上,绝缘层117可以为第一绝缘层118或钝化层119,或者同时都有第一绝缘层118和钝化层119,这样设置也是可以实现透明电极层112的与公共线113导通的效果的。
其中,透明电极层112(ITO)在同一讯号方向上延伸的宽度大于在不同讯号方向延伸的宽度。如图5所示,在一实施例中,所述第一金属层115包括公共线113和第一信号线116,所述公共线113和第一信号线116传输不同的讯号,所述透明电极层112不覆盖所述第一信号线116对应的区域,沿所述公共线往第一信号线的方向,所述透明电极层112凸出于所述转接板的宽度为d,所述第一信号线与公共线之间的间隔为w,w<d。不同的讯号之间若有重叠区域,则会有电容耦合,电容耦合导致传输的讯号失真。
本方案中,设置第一信号线与公共线之间的间隔w小于所述透明电极层112凸出于所述转接板的宽度的,使得透明电极层112不覆盖所述第一信号线116对应的区域。透明电极层112和公共线113的转接板114导通,公共线113和第一信号线116传输的讯号不同,因此透明电极层112和第一信号线116的讯号不同。所述透明电极层112和所述第一信号线对应区域不重叠,避免了电容耦合,进而减少了讯号之间的相互影响。
如图5和图6所示,在一实施例中,沿所述公共线往所述第一信号方向上,所述透明电极层112凸出于所述转接板一侧的宽度为d1,凸出于另一侧的宽度为d4;沿与公共线往第一信号方向垂直的方向上,所述透明电极层112凸出于所述转接板一侧的宽度为d2,凸出于另一侧的宽度为d3,其中,d1=d4<d2=d3。
本方案中,所述透明电极层112在同一讯号传输的方向上延伸的宽度为d1,所述透明电极层112在不同讯号方向之间延伸的宽度为d2,d1<d2,透明电极层112的向四周方向延伸,加宽了透明电极层112的覆盖面积,当存在各种误差时,金球130的导通不受影响,保证了显示面板100的质量;另外,d1<d2,透明电极层112和所述第一信号线对应区域不重叠,避免了电容耦合,进而减少了讯号之间的相互影响。
其中,由于在工艺制程中,会有误差的存在,例如当第一基板110和第二基板120对盒的时候,对位的时存在误差,称为组立误差x;x的值的范围0≤x<10μm,在金球130涂布的时候,会存在误差,称为涂布误差y,y的值的范围为0≤y<500μm;同时还存在其他的误差,称为其他误差z,z的值的范围为0≤y<100μm,d1、d2、d3、d4的值的范围为:d1>x+y+z;d2>x+y+z;d3>x+y+z;d4>x+y+z,因此0≤d1<610μm,0≤d2<610μm,0≤d3<610μm,0≤d4<610μm。
如图7和图8所示,在一实施例中,公开了一种显示面板100的制作方法,包括:
S71:形成第一基板110的步骤;
S72:形成第二基板120的步骤,其中所述第二基板120上形成有公共电极121;
S73:把形成的第二基板120和第一基板110对置,通过在显示面板100的非显示区设置的金球130,导通所述第一基板110和第二基板120的步骤;
其中,在S71形成所述第一基板110的步骤中,包括以下步骤:
S711:形成公共线113及公共线113的转接板114,所述转接板114设置在对应金球130的位置;
S712:形成透明电极层112,形成的所述透明电极层112和形成的转接板114贴合导通,公共线113的转接板114通过透明电极层112和金球130导通,其中,形成的透明电极层112的覆盖面积大于转接板114的覆盖面积。
如图9所示,在一实施例中,公开了一种显示装置10,包括上述的显示面板100。
如图10、图11和图12所示,在一实施例中,公开了一种显示面板100,划分为显示区和非显示区,显示面板包括:第一基板110、和所述第一基板110对置的第二基板120以及金球130,所述第一基板110为阵列基板,所述第二基板120为彩膜基板,所述阵列基板和彩膜基板通过所述金球导通。所述阵列基板包括公共线113、第一信号线、透明电极层112,公共线包括转接板,所述公共线的讯号和第一信号线的讯号不同。所述透明电极层112覆盖的面积大于所述转接板覆盖的面积。沿所述公共线往所述第一信号线方向上,所述透明电极层112凸出于所述转接板一侧的宽度为d1,凸出于另一侧的宽度为d4;沿与公共线往第一信号线方向垂直的方向上,所述透明电极层112凸出于所述转接板一侧的宽度为d2,凸出于另一侧的宽度为d3,其中,d1=d4<d2=d3。所述第一信号线与所述透明电极层112之间设置有第一绝缘层和钝化层119,对应金球的位置,公共线和透明电极层112之间设置有第一绝缘层和钝化层119。
所述彩膜基板包括公共电极,所述透明电极层112和所述转接板贴合导通,所述转接板通过所述透明电极层112和所述金球导通,金球导通所述阵列基板的公共线和彩膜基板的公共电极。
所述显示面板100的制作方法,包括:
形成阵列基板的步骤;形成彩膜基板的步骤,形成彩膜基板的步骤包括同时形成公共电极121;成盒,把形成的阵列基板和彩膜基板对置,通过在显示面板100的非显示区设置的金球130,导通所述阵列基板和彩膜基板的步骤;
其中在形成所述阵列基板的步骤中,包括以下步骤:
在玻璃基板111上镀一层金属材料,然后涂布光阻,经过曝光、显影、湿刻,再去光阻,同时形成第一金属层115的公共线113第一信号线和公共线的转接板114;在形成的第一金属层115上镀GI层、PV层,然后涂布光阻,经过曝光、显影、干刻,再去光阻,经过同一光罩制程形成第一绝缘层118和钝化层119;在形成的钝化层119上镀ITO层,然后涂布光阻,经过曝光、显影、湿刻,再去光阻,形成透明电极层112。
其中,形成的透明电极层112覆盖的面积大于形成的转接板覆盖的面积,形成的透明电极层112凸出于形成的转接板一侧的宽度为d1,凸出于另一侧的宽度为d4;沿与公共线往第一信号线方向垂直的方向上,形成的透明电极层112凸出于形成的转接板一侧的宽度为d2,凸出于另一侧的宽度为d3,其中,d1=d4<d2=d3;形成的透明电极层112和形成的转接板贴合导通,形成的转接板通过形成的透明电极层112和金球导通,金球导通阵列基板的公共线和彩膜基板的公共电极。形成的转接板114和所述透明电极层112导通。
本方案中,由于透明电极层112覆盖的面积增加,当存在组立误差、金球130误差或其他误差时,透明电极层112与金球130可接触的面积增大,因此阵列基板的公共线113和彩膜基板的公共电极121导通不受影响。
需要说明的是,本方案中涉及到的各步骤的限定,在不影响具体方案实施的前提下,并不认定为对步骤先后顺序做出限定,写在前面的步骤可以是在先执行的,也可以是在后执行的,甚至也可以是同时执行的,只要能实施本方案,都应当视为属于本发明的保护范围。
本发明的技术方案可以广泛用于各种显示面板,如TN型显示面板(全称为TwistedNematic,即扭曲向列型面板)、IPS型显示面板(In-Plane Switching,平面转换)、VA型显示面板(Vertical Alignment,垂直配向技术)、MVA型显示面板(Multi-domain VerticalAlignment,多象限垂直配向技术),当然,也可以是其他类型的显示面板,均可适用上述方案。
以上内容是结合具体可选的实施方式对本发明所作的进一步详细说明,不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干简单推演或替换,都应当视为属于本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种显示面板,划分为显示区和非显示区,其特征在于,所述显示面板包括:
第一基板;
第二基板,和所述第一基板对盒设置;
金球,设置在所述第一基板和第二基板之间;
所述第一基板包括透明电极层和公共线,所述第二基板包括公共电极;
所述金球设置在所述显示面板的非显示区,导通所述公共线和公共电极;
所述公共线包括转接板,所述转接板设置在对应金球的位置,所述透明电极层和所述转接板贴合导通,所述转接板通过所述透明电极层和所述金球导通,所述透明电极层覆盖的面积大于所述转接板覆盖的面积。
2.如权利要求1所述的一种显示面板,其特征在于,所述公共线包括公共线走线,所述公共线走线为网格状镂空,所述公共线走线与所述转接板连通,所述透明电极层覆盖所述转接板并部分覆盖所述转接板外围的公共线走线。
3.如权利要求1所述的一种显示面板,其特征在于,所述第一基板设置有第一信号线,所述公共线的讯号和所述第一信号线的讯号不同,所述透明电极层覆盖对应所述第一信号线的区域;
所述第一基板还设有绝缘层,所述绝缘层设置在所述第一信号线与所述透明电极层之间。
4.如权利要求3所述的一种显示面板,其特征在于,所述第一基板的公共线形成在所述第一基板的第一金属层,所述绝缘层包括第一绝缘层和钝化层,所述第一绝缘层设置在所述第一金属层上,所述钝化层设置在所述第一绝缘层上。
5.如权利要求4所述的一种显示面板,其特征在于,在对应所述金球的位置,所述第一绝缘层和所述钝化层通过同一光罩制程形成相同的图案形状。
6.如权利要求3所述的一种显示面板,其特征在于,所述第一信号线与所述透明电极层之间设置有所述绝缘层,对应所述公共线区域的所述透明电极层与所述转接板之间直接贴合。
7.如权利要求1所述的一种显示面板,其特征在于,所述第一基板包括第一金属层,所述第一金属层包括公共线和第一信号线,所述公共线和所述第一信号线传输不同的讯号,所述透明电极层不覆盖所述第一信号线对应的区域,沿所述公共线往所述第一信号线的方向,所述透明电极层凸出于所述转接板的宽度为d,所述第一信号线与公共线之间的间隔为w,w<d。
8.如权利要求7所述的一种显示面板,其特征在于,沿所述公共线往所述第一信号线方向上,所述透明电极层凸出于所述转接板一侧的宽度为d1,凸出于另一侧的宽度为d4;沿与所述公共线往所述第一信号线方向垂直的方向上,所述透明电极层凸出于所述转接板一侧的宽度为d2,凸出于另一侧的宽度为d3,其中,d1=d4<d2=d3。
9.一种显示面板的制作方法,其特征在于,包括:
形成第一基板的步骤;
形成第二基板的步骤,其中所述第二基板上形成有公共电极;
把形成的第二基板和第一基板对盒设置,通过在显示面板的非显示区设置的金球,导通所述第一基板和第二基板的步骤;
其中,在形成所述第一基板的步骤中,包括以下步骤:
形成公共线及公共线的转接板,所述转接板设置在对应金球的位置;
形成透明电极层,形成的所述透明电极层和形成的转接板贴合导通,公共线的转接板通过透明电极层和金球导通,其中,形成的透明电极层的覆盖面积大于转接板的覆盖面积。
10.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1至8任意一项所述的显示面板。
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