CN109343313A - 一种实现多台浸润式光刻机共用的液浸水过滤系统及方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种实现多台浸润式光刻机共用的液浸水过滤系统及方法，属于半导体制造技术领域，包括：调节第一调压阀和第三调压阀，以使液浸水过滤装置的工作参数符合第三分流前参数值和第一光刻机组件的工作参数符合第一分流前参数值；步骤S2、调节第一调压阀、第二调压阀以及第三调压阀，以保持第一光刻机组件的工作参数符合第一分流后参数值，并增大液浸水过滤装置向第二光刻机组件输送的已过滤液浸水的实时流量，使第二光刻机组件的工作参数符合第二分流后参数值，并保持液浸水过滤装置的工作参数符合第三分流后参数值。本发明的有益效果：通过机台参数设定、管路连接实现一台液浸水过滤装置为多台浸润式光刻机提供超纯水过滤。
Description
技术领域
本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种实现多台浸润式光刻机共用的液浸水过滤系统及方法。
背景技术
目前一台液浸水过滤装置只单独为一台浸润式光刻机进行超纯水过滤，满足流量压力基本工作参数从而正常工作，如图1所示，主要流程如下：
工厂厂务进水至液浸水过滤装置后一部分进入A设备冷却水控制装置(用于马达等发热模块的冷却)，一部分进入A设备溶氧装置(特定机台装置)用于为浸润式光刻机提供液浸水。
目前，液浸水过滤装置无法同时为多台浸润式光刻机提供超纯水过滤功能。
发明内容
针对现有技术中存在的问题，本发明涉及一种基于液浸水过滤装置的能够实现多台浸润式光刻机共用的液浸水供给系统及方法。
本发明采用如下技术方案：
一种实现多台浸润式光刻机共用的液浸水过滤系统，包括：
厂务进水组件，用于输送未过滤液浸水；
液浸水过滤装置，用于对上述未过滤液浸水进行过滤处理以得到已过滤液浸水，所述液浸水过滤装置具有连接第一光刻机组件并用于向所述第一光刻机组件输出所述已过滤液浸水第一管路预留口以及连接所述厂务进水组件并用于接收所述未过滤液浸水的第三管路预留口；
所述第一光刻机组件，用于通过所述已过滤液浸水进行光刻操作；
所述液浸水过滤系统还包括：
所述液浸水过滤装置还包括至少一个连接第二光刻机组件并用于向至少一个第二光刻机组件输出所述已过滤液浸水的第二管路预留口；
第一控制组件，包括设置在所述第一管理预留口的第一调压阀和第一流量及压力监控装置；
多个第二控制组件，每个所述第二管路预留口分别设置一所述第二控制组件，所述第二控制组件包括设置在所述第二管理预留口的第二调压阀和第二流量及压力监控装置；
第三控制组件，包括设置在所述第三管理预留口的第三调压阀和第三流量及压力监控装置。
优选的，所述液浸水过滤系统还包括：连接设备冷却水控制装置并用于向所述设备冷却水控制装置输出所述已过滤液浸水第四管路预留口；
所述设备冷却水控制装置，用于通过所述已过滤液浸水进行冷却操作。
优选的，所述第一光刻机组件包括
第一设备溶氧装置，用于接收所述液浸水并进行溶氧处理，以得到目标液浸水并输出；
第一光刻机，连接所述第一设备溶氧装置，用于接收所述目标液浸水并进行所述光刻操作。
优选的，所述第二光刻机组件包括
第二设备溶氧装置，用于接收所述液浸水并进行所述溶氧处理，以得到所述目标液浸水并输出；
第二光刻机，连接所述第二设备溶氧装置，用于接收所述目标液浸水并进行所述光刻操作。
一种实现多台浸润式光刻机共用的液浸水过滤方法，基于上述液浸水过滤系统，包括：
步骤S1、调节所述第一调压阀和所述第三调压阀，以使所述液浸水过滤装置的工作参数符合第三分流前参数值和所述第一光刻机组件的工作参数符合第一分流前参数值；
步骤S2、调节所述第一调压阀、所述第二调压阀以及所述第三调压阀，以保持所述第一光刻机组件的工作参数符合所述第一分流后参数值，并增大所述液浸水过滤装置向所述第二光刻机组件输送的所述已过滤液浸水的实时流量，使所述第二光刻机组件的工作参数符合第二分流后参数值，并保持所述所述液浸水过滤装置的工作参数符合所述第三分流后参数值。
优选的，第二分流后参数值包括第二分流后流量值；
所述第二分流后流量值为3L/min。
优选的，第三分流前参数值包括第三分流前压力值；
所述第三分流前压力值的范围为40Kpa～280Kpa。
优选的，第三分流后参数值包括第三分流后压力值；
所述第三分流后压力值为350Kpa。
优选的，第三分流后参数值包括第三分流后流量值；
所述第三分流后流量值不大于6L/min。
本发明的有益效果：通过机台参数设定、管路连接实现一台液浸水过滤装置为多台浸润式光刻机提供超纯水过滤。
附图说明
图1为现有技术中，液浸水过滤系统分流前供水示意图；
图2为本发明一种优选的实施例中，液浸水过滤系统分流后供水示意图；
图3为本发明一种优选的实施例中，液浸水过滤方法的流程图。
具体实施方式
需要说明的是，在不冲突的情况下，下述技术方案，技术特征之间可以相互组合。
下面结合附图对本发明的具体实施方式作进一步的说明：
如图2所示，一种实现多台浸润式光刻机共用的液浸水过滤系统，包括：
厂务进水组件5，用于输送未过滤液浸水；
液浸水过滤装置3，用于对上述未过滤液浸水进行过滤处理以得到已过滤液浸水，液浸水过滤装置3具有连接第一光刻机组件并用于向第一光刻机组件输出已过滤液浸水第一管路预留口、连接厂务进水组件5并用于接收未过滤液浸水的第三管路预留口以及连接设备冷却水控制装置4并用于向设备冷却水控制装置4输出已过滤液浸水第四管路预留口；
设备冷却水控制装置4，用于通过已过滤液浸水进行冷却操作；
第一光刻机组件，用于通过已过滤液浸水进行光刻操作；
液浸水过滤系统还包括：
液浸水过滤装置3还包括至少一个连接第二光刻机组件并用于向至少一个第二光刻机组件输出已过滤液浸水的第二管路预留口；
第一控制组件，包括设置在第一管理预留口的第一调压阀和第一流量及压力监控装置；
多个第二控制组件，每个第二管路预留口分别设置一第二控制组件，第二控制组件包括设置在第二管理预留口的第二调压阀和第二流量及压力监控装置；
第三控制组件，包括设置在第三管理预留口的第三调压阀和第三流量及压力监控装置。
在本实施例中，首先通过评估液浸水过滤装置3和浸润式光刻机的相关供水结构和主要机台参数，然后通过机台参数设定、管路连接实现一台液浸水过滤装置3为多台浸润式光刻机提供超纯水过滤，从而实现一台液浸水过滤器为多台浸润式光刻机进行超纯水过滤。
具体的，在保证第一光刻机组件(A浸润式光刻设备1)正常工作条件的前提下，分出至少一路路管路提供给第二光刻机组件(B浸润式光刻设备2)，且满足B设备的正常使用需求；
在保证压力稳定的前提下，通过调整液浸水过滤装置3为B浸润式光刻设备2预留的第二管路预留口的第二调压阀从而增大流量，直至满足B浸润式光刻设备2的供水流量需求，同时观察液浸水过滤装置3自身泵(pump)的工作状态以及供给A浸润式光刻设备1的第二管路预留口(液浸水进口)的流量压力等指标从而判断A浸润式光刻设备1处于正常工作状态；
由于A浸润式光刻设备1的液浸水供给管路进端设有第一调压阀，配合恒定转速的pump进行进水压力和流量的调节控制从而满足正常液浸水供给的要求。
较佳的实施例中，第一光刻机组件包括
第一设备溶氧装置，用于接收液浸水并进行溶氧处理，以得到目标液浸水并输出；
第一光刻机，连接第一设备溶氧装置，用于接收目标液浸水并进行光刻操作。
较佳的实施例中，第二光刻机组件包括
第二设备溶氧装置，用于接收液浸水并进行溶氧处理，以得到目标液浸水并输出；
第二光刻机，连接第二设备溶氧装置，用于接收目标液浸水并进行光刻操作。
如图2-3所示，一种实现多台浸润式光刻机共用的液浸水过滤方法，基于上述液浸水过滤系统，包括：
步骤S1、调节第一调压阀和第三调压阀，以使液浸水过滤装置3的工作参数符合第三分流前参数值和第一光刻机组件的工作参数符合第一分流前参数值；
步骤S2、调节第一调压阀、第二调压阀以及第三调压阀，以保持第一光刻机组件的工作参数符合第一分流后参数值，并增大液浸水过滤装置3向第二光刻机组件输送的已过滤液浸水的实时流量，使第二光刻机组件的工作参数符合第二分流后参数值，并保持液浸水过滤装置3的工作参数符合第三分流后参数值。
在本实施例中，首先通过评估液浸水过滤装置3和浸润式光刻机的相关供水结构和主要机台参数，然后通过机台参数设定、管路连接实现一台液浸水过滤装置3为多台浸润式光刻机提供超纯水过滤，从而实现一台液浸水过滤器为多台浸润式光刻机进行超纯水过滤。
具体的，在保证第一光刻机组件(A浸润式光刻设备1)正常工作条件的前提下，分出至少一路路管路提供给第二光刻机组件(B浸润式光刻设备2)，且满足B设备的正常使用需求；
在保证压力稳定的前提下，通过调整液浸水过滤装置3为B浸润式光刻设备2预留的第二管路预留口的第二调压阀从而增大流量，直至满足B浸润式光刻设备2的供水流量需求，同时观察液浸水过滤装置3自身泵(pump)的工作状态以及供给A浸润式光刻设备1的第二管路预留口(液浸水进口)的流量压力等指标从而判断A浸润式光刻设备1处于正常工作状态；
由于A浸润式光刻设备1的液浸水供给管路进端设有第一调压阀，配合恒定转速的pump进行进水压力和流量的调节控制从而满足正常液浸水供给的要求。
较佳的实施例中，第二分流后参数值包括第二分流后流量值；
第二分流后流量值为3L/min。
较佳的实施例中，第三分流前参数值包括第三分流前压力值；
第三分流前压力值的范围为40Kpa～280Kpa。
较佳的实施例中，第三分流后参数值包括第三分流后压力值；
第三分流后压力值为350Kpa。
较佳的实施例中，第三分流后参数值包括第三分流后流量值；
第三分流后流量值不大于6L/min。
在一个具体实施例中，满足B浸润式光刻设备2液浸水的正常使用需求，流量3L/min；
保持原有A浸润式光刻设备1的正常工作指标；
光刻机液浸水供给压力稳定，分流前后，液浸水过滤装置3的第三分流前压力值范围为40～280Kpa；
光刻机液浸水供给压力稳定，分流前后，液浸水过滤装置3的第三分流后流量值范围为40～280Kpa；
在保证液浸水过滤装置3(LLG4)进水压力350Kpa稳定的前提下，通过调整液浸水过滤装置3为B浸润式光刻设备2管路预留口的阀门从而增大流量至4.6L/min(1.6L/min为过滤装置最小工作流量需求,3L为B设备供水需求流量)，同时观察液浸水过滤装置3自身pump的工作状态(转速控制在低于7500rpm)以及供给A浸润式光刻设备1(UWTC)液浸水进口的流量压力等指标从而判断A设备处于正常工作状态；
表格1为开启第三调压阀前后即分流前后液浸水过滤装置3和A浸润式光刻设备1的参数值变化。
表1开启第三调压阀前后即分流前后液浸水过滤装置3和A浸润式光刻设备1的参数值变化
第三分流后流量值不大于6L/min，A浸润式光刻设备1处于绿色工作范围，第一调压阀有效控制液浸水进口UWTC流量。
通过说明和附图，给出了具体实施方式的特定结构的典型实施例，基于本发明精神，还可作其他的转换。尽管上述发明提出了现有的较佳实施例，然而，这些内容并不作为局限。
对于本领域的技术人员而言，阅读上述说明后，各种变化和修正无疑将显而易见。因此，所附的权利要求书应看作是涵盖本发明的真实意图和范围的全部变化和修正。在权利要求书范围内任何和所有价的范围与内容，都应认为仍属本发明的意图和范围内。
Claims (9)
1.一种实现多台浸润式光刻机共用的液浸水过滤系统，包括：
厂务进水组件，用于输送未过滤液浸水；
液浸水过滤装置，用于对上述未过滤液浸水进行过滤处理以得到已过滤液浸水，所述液浸水过滤装置具有连接第一光刻机组件并用于向所述第一光刻机组件输出所述已过滤液浸水的第一管路预留口以及连接所述厂务进水组件并用于接收所述未过滤液浸水的第三管路预留口；
所述第一光刻机组件，用于通过所述已过滤液浸水进行光刻操作；
其特征在于，所述液浸水过滤系统还包括：
所述液浸水过滤装置还包括至少一个连接第二光刻机组件并用于向至少一个第二光刻机组件输出所述已过滤液浸水的第二管路预留口；
第一控制组件，包括设置在所述第一管理预留口的第一调压阀和第一流量及压力监控装置；
多个第二控制组件，每个所述第二管路预留口分别设置一所述第二控制组件，所述第二控制组件包括设置在所述第二管理预留口的第二调压阀和第二流量及压力监控装置；
第三控制组件，包括设置在所述第三管理预留口的第三调压阀和第三流量及压力监控装置。
2.根据权利要求1的液浸水过滤系统，其特征在于，所述液浸水过滤系统还包括：连接设备冷却水控制装置并用于向所述设备冷却水控制装置输出所述已过滤液浸水第四管路预留口；
所述设备冷却水控制装置，用于通过所述已过滤液浸水进行冷却操作。
3.根据权利要求1的液浸水过滤系统，其特征在于，所述第一光刻机组件包括
第一设备溶氧装置，用于接收所述液浸水并进行溶氧处理，以得到目标液浸水并输出；
第一光刻机，连接所述第一设备溶氧装置，用于接收所述目标液浸水并进行所述光刻操作。
4.根据权利要求1的液浸水过滤系统，其特征在于，所述第二光刻机组件包括
第二设备溶氧装置，用于接收所述液浸水并进行所述溶氧处理，以得到所述目标液浸水并输出；
第二光刻机，连接所述第二设备溶氧装置，用于接收所述目标液浸水并进行所述光刻操作。
5.一种实现多台浸润式光刻机共用的液浸水过滤方法，基于如权利要求1-4中任意一项所述的液浸水过滤系统，其特征在于，包括：
步骤S1、调节所述第一调压阀和所述第三调压阀，以使所述液浸水过滤装置的工作参数符合第三分流前参数值和所述第一光刻机组件的工作参数符合第一分流前参数值；
步骤S2、调节所述第一调压阀、所述第二调压阀以及所述第三调压阀，以保持所述第一光刻机组件的工作参数符合所述第一分流后参数值，并增大所述液浸水过滤装置向所述第二光刻机组件输送的所述已过滤液浸水的实时流量，使所述第二光刻机组件的工作参数符合第二分流后参数值，并保持所述所述液浸水过滤装置的工作参数符合所述第三分流后参数值。
6.根据权利要求5的液浸水过滤系统，其特征在于，第二分流后参数值包括第二分流后流量值；
所述第二分流后流量值为3L/min。
7.根据权利要求5的液浸水过滤系统，其特征在于，第三分流前参数值包括第三分流前压力值；
所述第三分流前压力值的范围为40Kpa～280Kpa。
8.根据权利要求5的液浸水过滤系统，其特征在于，第三分流后参数值包括第三分流后压力值；
所述第三分流后压力值为350Kpa。
9.根据权利要求5的液浸水过滤系统，其特征在于，第三分流后参数值包括第三分流后流量值；
所述第三分流后流量值不大于6L/min。
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Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101443276A (zh) * | 2005-10-18 | 2009-05-27 | 液化空气电子美国有限公司 | 一种生产超高纯水的方法和装置 |
| CN104308649A (zh) * | 2014-10-27 | 2015-01-28 | 苏州华冲精密机械有限公司 | 多台机床共用的供水装置 |
| US20160089622A1 (en) * | 2014-09-29 | 2016-03-31 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Method of purifying liquid chemical for semiconductor photolithography, purification device of liquid chemical for semiconductor photolithography, and liquid chemical for semiconductor photolithography |
| CN105527797A (zh) * | 2014-09-28 | 2016-04-27 | 上海微电子装备有限公司 | 浸液系统及其供给控制方法 |
-
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Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101443276A (zh) * | 2005-10-18 | 2009-05-27 | 液化空气电子美国有限公司 | 一种生产超高纯水的方法和装置 |
| CN105527797A (zh) * | 2014-09-28 | 2016-04-27 | 上海微电子装备有限公司 | 浸液系统及其供给控制方法 |
| US20160089622A1 (en) * | 2014-09-29 | 2016-03-31 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Method of purifying liquid chemical for semiconductor photolithography, purification device of liquid chemical for semiconductor photolithography, and liquid chemical for semiconductor photolithography |
| CN104308649A (zh) * | 2014-10-27 | 2015-01-28 | 苏州华冲精密机械有限公司 | 多台机床共用的供水装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
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Application publication date: 20190215 |