CN109307945A

CN109307945A - 显示面板

Info

Publication number: CN109307945A
Application number: CN201710622403.3A
Authority: CN
Inventors: 潘柏宏; 王兴龙; 蔡佳龙; 吴东峰
Original assignee: Himax Display Inc
Current assignee: Himax Display Inc
Priority date: 2017-07-27
Filing date: 2017-07-27
Publication date: 2019-02-05
Anticipated expiration: 2037-07-27
Also published as: CN109307945B

Abstract

本发明公开一种显示面板，其包括上基板、显示层、图案化遮光层以及图案化氧化物层。上基板具有外表面。显示层被上基板覆盖。图案化遮光层配置于上基板的外表面上且位于第一区域内。图案化氧化物层配置于上基板的外表面上。外表面包括第一区域与位于第一区域旁的第二区域。图案化遮光层的边缘至少部分地重叠第一区域与第二区域之间的边界。图案化氧化物层位于第一区域与第二区域的其中之一区域内，且暴露第一区域与第二区域的另外一区域。

Description

显示面板

技术领域

本发明涉及一种电子装置，且特别是涉及一种显示面板。

背景技术

为了划分与定义出显示区域，显示面板通常配置有例如黑矩阵的图案化遮光层，其中图案化遮光层可以具有框状图案或矩阵状图案，且由被框状图案或矩阵状图案环绕的区域作为显示区域。黑矩阵层不仅可以定义显示区域，也可以防止不必要的漏光。

对于液晶显示面板而言，包括液晶材料的显示层配置于上基板与下基板之间，而上基板与下基板经由框胶(sealant)或粘合剂而相互贴附或组装。当框胶或粘合剂为光固化材料，则上基板需为透光材质，使固化用的光线穿过上基板且照射于光固化框胶或光固化粘合剂。此外，在上基板与下基板组装之后，遮光层经由诸如喷墨印刷制作工艺(ink-jetprinting process)、网版印刷制作工艺(screen printing process)、凸版印刷制作工艺(APR printing process)或其他类似制作工艺的湿式制作工艺以形成于上基板的顶表面上。遮光层配置于非显示区域上，用以屏蔽不必要的漏光并有助于改善显示对比度。然而，通过使用湿式制作工艺所形成的遮光层的图案通常不清晰，其可能影响遮光层的预期遮光效果。

发明内容

本发明涉及一种显示面板，其包括具有清晰图案的遮光层。

本发明提供的一种显示面板，其包括上基板、显示层、图案化遮光层以及图案化氧化物层。上基板具有外表面。显示层由上基板所覆盖。图案化遮光层配置于上基板的外表面上且位于第一区域内。图案化氧化物层配置于上基板的外表面上。外表面包括第一区域与位于第一区域旁的第二区域。图案化遮光层的边缘至少部分地重叠第一区域与第二区域之间的边界。图案化氧化物层位于第一区域与第二区域的其中之一区域内，而暴露第一区域与第二区域的另外一区域。

在本发明的一实施例中，图案化氧化物层位于第一区域中且配置于上基板与图案化遮光层之间。

在本发明的一实施例中，图案化氧化物层具有与图案化遮光层接触的改质表面。

在本发明的一实施例中，上基板的外表面第二区域经受改质以形成改质外表面，且改质外表面相较于图案化氧化物层的改质表面具有较好的疏水性。

在本发明的一实施例中，上基板的外表面更第一区域受到改质，改质外表面位于第一区域与第二区域，且图案化氧化物层配置于在第一区域的改质外表面上。

在本发明的一实施例中，图案化氧化物层直接接触于图案化遮光层。

在本发明的一实施例中，上述的显示面板还包括底氧化物层。底氧化物层配置于上基板的外表面上且位于第二区域。

在本发明的一实施例中，底氧化物层露出第一区域。

在本发明的一实施例中，底氧化物层还位于第一区域且配置于上基板与图案化氧化物层之间。

在本发明的一实施例中，底氧化物层具有带有疏水特性的改质表面。

在本发明的一实施例中，图案化氧化物层的材料异于底氧化物层的材料。

在本发明的一实施例中，上基板的外表面被改质以形成改质外表面，且图案化氧化物层配置于改质外表面上。

在本发明的一实施例中，图案化氧化物层的材料包括具有表面羟基的氧化物。

在本发明的一实施例中，氧化物包括选自热蒸镀的氧化硅、氧化铟锡、二氧化钛以及氧化铝的至少一种。

在本发明的一实施例中，图案化氧化物层位于第二区域中且暴露出第一区域。

在本发明的一实施例中，图案化氧化物层具有带有疏水特性的改质表面。

在本发明的一实施例中，外表面在第一区域被改质以形成改质外表面，且改质外表面相较于图案化氧化物层的改质表面具有较差的疏水性。

在本发明的一实施例中，图案化遮光层在第一区域直接接触上基板。

在本发明的一实施例中，上述的显示面板还包括下基板。下基板相对于上基板配置，其中显示层配置于上基板与下基板之间。

在本发明的一实施例中，上述的显示面板还包括框胶。框胶配置于上基板与下基板之间且环绕显示层。

在本发明的一实施例中，图案化遮光层的材料包括墨水材料。

基于上述，图案化遮光层配置于基板的外表面上且位于第一区域，其具有相较于第二区域相对地亲水的特性。当图案化遮光层经由湿式制作工艺形成于上基板上，图案化遮光层的图案较为清晰且其边缘具有良好的线性度。据此，显示面板的图案化遮光层提供理想的遮光功能，用以改善显示面板的品质。

为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附的附图作详细说明如下。

附图说明

图1为本发明一实施例的一种显示面板的上视示意图；

图2至13为本发明其他实施例的一种显示面板的横截面示意图。

符号说明：

100、100A、100B、100C、100D、100E、100F、100G、100H、100I、100J、200A、200B：显示面板

102、202：第一区域

104、204：第二区域

110、210：图案化遮光层

120A、120B、120C、220A、220B：上基板

130、230：下基板

140、240：显示层

150、250：框胶

160A、160B、260：图案化氧化物层

170A、170B、170C：底氧化物层

BN：边界

HB、HB’：疏水性材料

S1A、S1B、S4A、S4B：外表面

S2、S3A、S3B：表面

具体实施方式

现将详细地参考本发明的示范性实施例，示范性实施例的实例说明于附图中。只要有可能，相同元件符号在附图和描述中用来表示相同或相似部分。

图1是依照本发明一实施例的一种显示面板的上视示意图。请参考图1，显示面板100具有第一区域102与在第一区域102旁的第二区域104。在上视图中，第一区域102具有框状图案且环绕第二区域104。此外，显示面板100包括位于第一区域102内的图案化遮光层110。具体来说，在本实施例中的图案化遮光层110具有框状图案，而第一区域102可以被视为配置有图案化遮光层110的区域。图案化遮光层110的边缘重叠于第一区域102与第二区域104之间的边界BN。图案化遮光层110具有遮光效果，且显示面板100的显示光由图案化遮光层110阻隔或屏蔽，而使显示画面呈现于第二区域104且第二区域104可以被视为显示区域。在替代实施例中，图案化遮光层110的图案可以依据设计需求而有其他的图案。

在一实施例中，图案化遮光层110经由例如是喷墨印刷制作工艺、网版印刷制作工艺、APR印刷制作工艺或其他类似制作工艺的湿式制作工艺而形成于显示面板100的外表面。为了使图案化遮光层110的图案具有较好的边缘线性度，用以形成图案化遮光层110的表面可以经处理或改质，以呈现出在第一区域102的表面相对地亲水，而在第二区域104的表面相对地疏水。

举例来说，图2是依照本发明一实施例的一种显示面板的横截面示意图。如图2所示，显示面板100A包括图案化遮光层110、上基板120A、下基板130、显示层140、框胶150以及图案化氧化物层160A。图案化遮光层110配置于显示面板100A的顶部上，其中在上视角度的图案化遮光层110的图案可以相同或近似于图1所绘示的图案化遮光层110。具体来说，图案化遮光层110具有框状图案，且显示面板100A具有第一区域102和第二区域104，其类似于图1所绘示的第一区域102与第二区域104。换句话说，上视角度的显示面板100A相似于显示面板100。

上基板120A和下基板130彼此相对的配置，且框胶150配置于上基板120A和下基板130之间。具体来说，上基板120A和下基板130经由框胶150而相互组装。显示层140配置于上基板120A与下基板130之间且由框胶150环绕。显示层140的材料可以为液晶材料，使得上基板120A、下基板130、显示层140以及框胶150可以作为液晶单元(liquid crystal cell)。

在本实施例中，上基板120A具有外表面S1A，且外表面S1A可以完全地经处理或改质以带有疏水特性。举例来说，外表面S1A可以进行硅烷(silane)表面处理。在微观下，外表面S1A上可以包括具有疏水特性的疏水性材料HB。在一实施例中，疏水性材料HB包括硅烷(silanes)、氟化硅烷(fluorinated silanes)、长链醇或酸。具体来说，疏水性材料HB可以包括羟基，以与图2的外表面S1A或图案化氧化物层160A反应。

此外，图案化氧化物层160A形成且配置于在第一区域102的上基板120A的外表面S1A上。图案化遮光层110还配置于图案化氧化物层160A上，使得图案化氧化物层160A配置于图案化遮光层110和上基板120A之间且图案化氧化物层160A直接接触于图案化遮光层110。图案化氧化物层160A的材料包括具有表面羟基的氧化物，其可以进一步与疏水性材料HB反应。更具体地说，具有表面羟基的氧化物可以包括选自热蒸镀的氧化硅(SiO_x)、氧化铟锡(ITO)、二氧化钛(TiO₂)以及氧化铝(Al₂O₃)的至少一种。当图案化氧化物层160A为热蒸镀的氧化硅所制成，图案化氧化物层160A由于疏水性材料HB与热蒸镀的氧化硅之间的反应而可以具有小的水滴接触角，使得用于形成图案化遮光层110的墨水可以较好的分布于图案化氧化物层160A的上方，以获得图案化遮光层110的理想图案。也就是说，相较于疏水性材料HB，图案化氧化物层160A的材料具有相对地较差的疏水性或较好的亲水性。据此，形成于图案化氧化物层160A上的图案化遮光层110可以具有明确或清晰的图案，且图案化遮光层110的图案可以具有良好的边缘线性度。

具体来说，当图案化遮光层110经由例如是喷墨印刷制作工艺的湿式制作工艺以制造于图案化氧化物层160A上，墨水材料滴落于在第一区域102中的图案化氧化物层160A上。由于图案化氧化物层160A相较于在第二区域104的外表面S1A具有较好的亲水特性，使墨水材料可以均匀地分布于在第一区域102中的图案化氧化物层160A的上方，而不会溢出至第二区域104。因此，墨水材料可以均匀地分布且稳定地限位于第一区域102内。此外，墨水材料在第一区域102与第二区域104之间的边界可以具有较大的接触角。其后，执行固化制作工艺以固化墨水材料，而形成具有清晰图案的图案化遮光层110。特别地，图案化遮光层110的图案可以具有良好的边缘线性度。

图3是依照本发明另一实施例的一种显示面板的横截面示意图。请参考图3，在本实施例中，显示面板100B似于显示面板100A，因此相同或近似的元件以相同或近似的标号表示。具体来说，显示面板100B包括图案化遮光层110、上基板120A、下基板130、显示层140、框胶150以及图案化氧化物层160B，其中图案化遮光层110、上基板120A、下基板130、显示层140以及框胶150的功效与配置关系可以参考先前实施例的详细说明，于此不再赘述。在本实施例中，图案化氧化物层160B配置于具有疏水性材料HB的上基板120A的外表面S1A上。此外，图案化氧化物层160B经处理或改质以使其上包括疏水性材料HB’，且图案化遮光层110配置于具有疏水性材料HB’的图案化氧化物层160B的表面S2上。换句话说，改质表面S2接触于图案化遮光层110。于此，尽管图案化氧化物层160B包括疏水性材料HB’，但仍相较于在第二区域104的上基板120A的外表面S1A具有较差的疏水性，而使图案化遮光层110可以具有包括良好的边缘线性度的清晰图案。

显示面板100B的制造过程可以包括以下步骤，但不以此为限。经由框胶150组装上基板120A与下基板130之后，在上基板120A的整个外表面S1A上执行表面处理或改质制作工艺，使得外表面S1A具有疏水特性。其后，图案化氧化物层160B配置于在第一区域102的改质的外表面S1A上。在上基板120A的外表面S1A与图案化氧化物层160B的表面S2上执行另一次表面处理或改质制作工艺。接着。图案化遮光层110形成于图案化氧化物层160B上，以制造出显示面板110B。举例来说，表面处理或改质制作工艺可以为硅烷表面处理制作工艺。

在本实施例中，图案化氧化物层160B的材料包括具有表面羟基的氧化物，其可以进一步与疏水性材料HB反应。更具体地说，具有表面羟基的氧化物可以选自包括热蒸镀的氧化硅、氧化铟锡、二氧化钛或氧化铝的至少一种，且上基板120A的材料可以为玻璃、石英或其他类似材料。相较于图案化氧化物层160B的材料，上基板120A的材料对于表面处理或改质的制作工艺更为有效，且图案化氧化物层160的表面S2受到一次表面处理或改质制作工艺，而上基板120A的外表面S1A受到两次表面处理或改质制作工艺。据此，在第二区域104的改质的外表面S1A上的疏水性材料HB的分布密度相较于在图案化氧化物层160B的表面S2上的疏水性材料HB’的分布密度较好，且改质的外表面S1A相较于图案化氧化物层160B的改质表面S2具有较好的疏水性。因此，形成于相较于外表面S1A具有较差的疏水性的表面S2上的图案化遮光层110具有良好的边缘线性度的清晰图案。

图4是依照本发明另一实施例的一种显示面板的横截面示意图。请参考图4，在本实施例中，显示面板100C似于显示面板100A，因此相同或近似的元件以相同或近似的标号表示。具体来说，显示面板100C包括图案化遮光层110、上基板120B、下基板130、显示层140、框胶150以及图案化氧化物层160A，其中图案化遮光层110、下基板130、显示层140、框胶150以及图案化氧化物层160A的功效与配置关系可以参考图2实施例的详细说明，于此不再赘述。在本实施例中，上基板120B经由框胶150与下基板130组装，且在第二区域104的上基板120B的外表面S1B包括疏水性材料HB，而在第一区域102的上基板120B的外表面S1B不包括疏水性材料HB。因此，图案化氧化物层160A相较于在第二区域104的上基板120B的外表面S1B具有较差的疏水性，使得图案化遮光层110可以具有良好的边缘线性度的清晰图案。

具体来说，显示面板100C的制造过程可以包括以下步骤，但不以此为限。经由框胶150组装上基板120B与下基板130之后，在上基板120B的外表面S1B上执行表面处理或改质制作工艺，使得外表面S1B具有疏水特性。接着，执行图案化制作工艺以图案化具有疏水特性的区域，使得在第二区域104的外表面S1B包括疏水性材料HB，而在第一区域102不包括疏水性材料HB。其后，图案化氧化物层160A配置于在第一区域102的外表面S1B上，也就是没有疏水性材料HB分布的外表面S1B上。接着，图案化遮光层110通过例如是喷墨印刷制作工艺的湿式制作工艺以形成于图案化氧化物层160A上。于此，在第二区域104的外表面S1B相较于图案化氧化物层160A具有较好的疏水性。因此，在上视角度的图案化遮光层110的图案可以具有清晰图案。

举例来说，表面处理或改质制作工艺可以为硅烷表面处理制作工艺，且图案化制作工艺可以经由光罩屏蔽第二区域104且通过光罩照射电磁波于外表面S1B以执行。电磁波照射第一区域102，而未照射第二区域104。举例来说，电磁波可以为紫外光(ultraviolet)或超紫外光(Extreme Ultraviolet)，其具有足够的能量以分解在照射区域上的疏水性材料。因此，执行图案化制作工艺之后，在第二区域104的疏水性材料HB保持不变，而第一区域102的疏水性材料HB被分解，使得在第二区域104的外表面S1B具有疏水性材料HB，而第一区域102没有。

图5是依照本发明另一实施例的一种显示面板的横截面示意图。请参考图5，在本实施例中，显示面板100D似于显示面板100A，因此相同或近似的元件以相同或近似的标号表示。具体来说，显示面板100D包括图案化遮光层110、上基板120B、下基板130、显示层140、框胶150以及图案化氧化物层160B，其中图案化遮光层110、下基板130、显示层140以及框胶150的功效与配置关系可以参考图2实施例的详细说明，于此不再赘述。在本实施例中，上基板120B经由框胶150与下基板130组装，且在第二区域104的上基板120B的外表面S1B包括疏水性材料HB，而在第一区域102的上基板120B的外表面S1B没有包括疏水性材料HB。于此，图案化氧化物层160B配置于在第一区域102的上基板120B的外表面S1B上。此外，图案化氧化物层160B可以经处理或改质而使其上包括疏水性材料HB’。图案化遮光层110配置于具有疏水性材料HB’的图案化氧化物层160B的表面S2上。于此，尽管图案化氧化物层160B包括疏水性材料HB’，但仍相较于在第二区域104的上基板120B的外表面S1B具有较差的疏水性，使得图案化遮光层110可以包括具有良好的边缘线性度的清晰图案。具体来说，图案化氧化物层160B的形成步骤可以参考图3的实施例的详细说明，且上基板120B的外表面S1B的形成步骤可以参考图4的实施例的详细说明。

图6是依照本发明另一实施例的一种显示面板的横截面示意图。请参考图6，显示面板100E包括图案化遮光层110、上基板120C、下基板130、显示层140、框胶150、图案化氧化物层160A以及底氧化物层170A。显示面板100E似于显示面板100A，因此相同或近似的元件以相同或近似的标号表示。具体来说，图案化遮光层110、下基板130、显示层140、框胶150以及图案化氧化物层160A的功效与配置关系可以参考图2的实施例的详细说明，于此不再赘述。

在本实施例中，经由环绕于显示层140的框胶150组装上基板120C与下基板130。底氧化物层170A配置于上基板120C的顶部上，且底氧化物层170A位于第一区域102与第二区域104。图案化氧化物层160A配置于在第一区域102的底氧化物层170A上，且图案化遮光层110配置于图案化氧化物层160A上。此外，底氧化物层170A的表面S3可经处理或改质，使其上包括疏水性材料HB。在本实施例中，疏水性材料HB分布于底氧化物层170A的整个表面S3A。

显示面板100E的制造过程可以包括以下步骤，但不以此为限。经由环绕于显示层140的框胶150组装上基板120C与下基板130之后，底氧化物层170A形成于上基板120C的顶部上。进一步在底氧化物层170A的表面S3A执行表面处理或改质制作工艺，使得改质表面S3A具有疏水特性。其后，图案化氧化物层160A配置于在第一区域102的外表面S3A上。接着，图案化遮光层110形成于图案化氧化物层160A上。

底氧化物层170A的材料可以包括氧化铝，表面处理或改质制作工艺可以为硅烷表面处理制作工艺，且底氧化物层170A的材料可以异于图案化氧化物层160A的材料。举例来说，图案化氧化物层160A的材料可以包括具有表面羟基的氧化物，其可以进一步与疏水性材料HB反应。更具体地说，具有表面羟基的氧化物可以包括选自热蒸镀的氧化硅、氧化铟锡、二氧化钛以及氧化铝的至少一种。举例来说，底氧化物层170A的材料相较于图案化氧化物层160A的材料于本质上而言可以具有较好的疏水性，但不以此为限。图案化氧化物层160A使得第一区域102相较于第二区域104具有较差的疏水性。当图案化遮光层110经由湿式制作工艺形成于第一区域102，则图案化遮光层110的图案可以为具有良好的边缘线性度的清晰图案。

图7是依照本发明另一实施例的一种显示面板的横截面示意图。请参考图7，在本实施例中，显示面板100F似于显示面板100E，因此相同或近似的元件以相同或近似的标号表示。具体来说，显示面板100F包括图案化遮光层110、上基板120C、下基板130、显示层140、框胶150、图案化氧化物层160B以及底氧化物层170A，其中图案化遮光层110、上基板120C、下基板130、显示层140以及框胶150的功效与配置关系可以参考先前实施例的详细说明，于此不再赘述。

在本实施例中，图案化氧化物层160B配置于具有疏水性材料HB的底氧化物层170A的表面S3A上且位于第一区域102内。图案化氧化物层160B可以进行处理或改质以使其上包括疏水性材料HB’，且图案化遮光层110配置于具有疏水性材料HB’的图案化氧化物层160B的表面S2上。图案化氧化物层160B的制造过程可以参考图3的实施例的详细说明，于此不再赘述。据此，尽管图案化氧化物层160B包括疏水性材料HB’，但仍相较于底氧化物层170A的表面S3A具有较差的疏水性，使得图案化遮光层110可以包括具有良好的边缘线性度的清晰图案。

图8是依照本发明另一实施例的一种显示面板的横截面示意图。请参考图8，在本实施例中，显示面板100G似于显示面板100E，因此相同或近似的元件以相同或近似的标号表示。具体来说，显示面板100G包括图案化遮光层110、上基板120C、下基板130、显示层140、框胶150、图案化氧化物层160A以及底氧化物层170B，其中图案化遮光层110、上基板120C、下基板130、显示层140、框胶150以及图案化氧化物层160A的功效与配置关系可以参考图6的实施例的详细说明，于此不再赘述。

在本发明中，在第二区域104的底氧化物层170B的表面S3B包括疏水性材料HB，而在第一区域102的底氧化物层170B的表面S3B没有包括疏水性材料HB。此外，图案化氧化物层160A形成于在第一区域102的底氧化物层170B上且相较于在第二区域104的底氧化物层170B的表面S3B具有较差的疏水性，使得图案化遮光层110可以具有边缘线性度良好的清晰图案。

显示面板100G的制造过程可以包括以下步骤，但不以此为限。经由环绕显示层140的框胶150组装上基板120C与下基板130之后，底氧化物层170B形成于上基板120C的顶部上。进一步于底氧化物层170B的表面S3B上执行表面处理或改质制作工艺，使得表面S3B具有疏水特性。接着，执行图案化制作工艺以图案化具有疏水特性的区域，使得表面S3B在第二区域104包括疏水性材料HB，而在第一区域102没有包括疏水性材料HB。其后，图案化氧化物层160A配置于在第一区域102不具有疏水性材料HB的底氧化物层170B上。接着，图案化遮光层110经由湿式制作工艺形成于图案化氧化物层160A上。

由于在第二区域104的底氧化物层170B具有疏水性材料HB且图案化氧化物层160A形成于第一区域102中，使第一区域102提供较好的亲水特性，且第二区域104提供较好的疏水特性，其有助于墨水材料通过湿式制作工艺均匀地分布于第一区域102内形成图案化遮光层110，而没有溢出至第二区域104。因此，可以使图案化遮光层110具有清晰图案。

图9是依照本发明另一实施例的一种显示面板的横截面示意图。请参考图9，在本实施例中，显示面板100H似于显示面板100G，因此相同或近似的元件以相同或近似的标号表示。具体来说，显示面板100H包括图案化遮光层110、上基板120C、下基板130、显示层140、框胶150、图案化氧化物层160B以及底氧化物层170B，其中图案化遮光层110、上基板120C、下基板130、显示层140以及框胶150的功效与配置关系可以参考先前实施例的详细说明，于此不再赘述。

在本实施例中，图案化氧化物层160B配置于具有疏水性材料HB的底氧化物层170B的表面S3B上。图案化氧化物层160B可以经处理或改质而使其上包括疏水性材料HB’，且图案化遮光层110配置于具有疏水性材料HB’的图案化氧化物层160B的表面S2上。图案化氧化物层160B的制造过程可以参考图3的实施例的详细说明，于此不再赘述。于此，尽管图案化氧化物层160B的表面S2包括疏水性材料HB’，但仍相较于底氧化物层170的表面S3B具有较差的疏水性，使得图案化遮光层110可以具有良好的边缘线性度的清晰图案。

图10是依照本发明另一实施例的一种显示面板的横截面示意图。请参考图10，在本实施例中，显示面板100I似于显示面板100E，因此相同或近似的元件以相同或近似的标号表示。具体来说，显示面板100I包括图案化遮光层110、上基板120C、下基板130、显示层140、框胶150、图案化氧化物层160A以及底氧化物层170C，其中图案化遮光层110、上基板120C、下基板130、显示层140、框胶150以及图案化氧化物层160A的功效与配置关系可以参考图6的实施例的详细说明，于此不再赘述。

在本实施例中，图案化的底氧化物层170C位于第二区域104内且暴露第一区域102。底层氧化物170C上包括疏水性材料HB，用以在第二区域104提供疏水特性。图案化氧化物层160A配置于第一区域102且相较于底氧化物层170C的表面具有较差的疏水性，使得图案化遮光层110可以具有良好的边缘线性度的清晰图案。

显示面板100I的制造过程包括以下步骤，但不以此为限。经由框胶150组装上基板120C与下基板130之后，底氧化物层170C形成于上基板120C的顶部上。于底氧化物层170C的表面上执行表面处理或改质制作工艺，用以在第二区域10提供4疏水特性。接着，执行图案化制作工艺以移除在第一区域102的底氧化物层170C。底氧化物层170C的移除可以通过执行光刻蚀刻制作工艺(lithographic-etching process)而达成，但不以此为限。其后，图案化氧化物层160A配置于在第一区域102的上基板120C上。接着，图案化遮光层110经由湿式制作工艺形成于图案化氧化物层160A上。

在本实施例中，底氧化物层170C可以仅配置于第二区域104内并暴露出第一区域102，且图案化氧化物层160A直接配置于在第一区域102的上基板120C的顶部上。由于底氧化物层170C经处理或改质而具有疏水性且已被图案化而限位于第二区域104内，而图案化氧化物层160A位于第一区域102内，使得用于形成图案化遮光层110的墨水材料可以通过湿式制作工艺均匀地分布于第一区域102上方，而不会溢出至第二区域104，而使固化的图案化遮光层110的边缘可以具有良好的边缘线性度与清晰图案。

图11是依照本发明另一实施例的一种显示面板的横截面示意图。请参考图11，在本实施例中，显示面板100J似于显示面板100I，因此相同或近似的元件以相同或近似的标号表示。具体来说，显示面板100J包括图案化遮光层110、上基板120C、下基板130、显示层140、框胶150、图案化氧化物层160B以及底氧化物层170C，其中图案化遮光层110、上基板120C、下基板130、显示层140以及框胶150的功效与配置关系可以参考先前实施例的详细说明，于此不再赘述。

在本实施例中，图案化氧化物层160B配置于在第一区域102的上基板120C上，而底氧化物层170C仅位于第二区域104且暴露第一区域102。图案化氧化物层160B可以经处理或改质，使其上包括疏水性材料HB’，且图案化遮光层110配置于具有疏水性材料HB’的图案氧化层160B的表面S2上。图案化氧化物层160B的制造过程可以参考图3的实施例的详细说明，于此不再赘述。于此，尽管图案化氧化物层160B的表面S2包括疏水性材料，但仍相较于底氧化物层170C的表面具有较差的疏水性，使得图案化遮光层110可以具有良好的边缘线性度的清晰图案。

图12是依照本发明另一实施例的一种显示面板的横截面示意图。请参考图12，显示面板200A包括图案化遮光层210、上基板220A、下基板230、显示层240、框胶250以及图案化氧化物层260。图案化遮光层210配置于显示面板200A的上基板220A上，且图案化遮光层210直接接触于显示面板200A的上基板220A，其中在上视角度的图案化遮光层210的图案可以相同或近似于图1所绘示的图案化遮光层110且具有框状图案。具体来说，显示面板200A具有第一区域202与第二区域204，其相似于图1所绘示的第一区域102与第二区域104。换句话说，在上视角度的显示面板200A相似于显示面板100，且第一区域202作为非显示区域，而第二区域204作为显示区域。

上基板220A与下基板230彼此相对配置，且框胶250配置于上基板220A与下基板230之间。具体来说，上基板220A与下基板230经由框胶250相互组装。显示层240配置于上基板220A与下基板230之间且由框胶250环绕。显示层240的材料可以为液晶材料，使得上基板220A、下基板230、显示层240以及框胶250可以作为液晶单元。

在本实施例中，上基板220A具有外表面S4A，且图案化氧化物层260配置于外表面S4A上。配置于上基板220A的外表面S4A上的图案化氧化物层260位于第二区域204内且暴露出第一区域202。图案化遮光层210形成于在第一区域202的上基板220A的表面S4A上，而没有位于第二区域204中。也就是说，图案化氧化物层260仅配置于第二区域204，而图案化遮光层210仅配置于第一区域202。

在本实施例中，显示面板200A的制造过程可以包括以下的步骤，但不以此为限。经由环绕显示层240的框胶250组装上基板220A与下基板230之后，可以将图案化氧化物层260形成于上基板220A上。具体来说，可以形成氧化层于上基板220A的整个外表面上，在氧化层上执行表面处理或改质制作工艺，且进一步将氧化层图案化以暴露出第一区域202，使得具有疏水性材料HB的经改质表面的图案化氧化物层260形成于第二区域204。因此，图案化遮光层210经由湿式制作工艺形成于在第一区域202的上基板220A上。

在本实施例中，图案化氧化物层260可以通过湿式制作工艺来处理或改质以具有疏水特性。举例来说，图案化氧化物层260可以进行硅烷表面处理。在微观上，图案化氧化物层260可以于其上包括疏水性材料HB以具有疏水特性。疏水性材料HB包括硅烷、氟化硅烷、长链醇或酸。具体来说，疏水性材料HB可以包含羟基。此外，图案化氧化物层260的材料可以包括在表面处理或改质制作工艺中能够有效被活化的材料。举例来说，图案化氧化物层260的材料包括氧化铝。

当图案化遮光层210经由例如是喷墨印刷制作工艺的湿式制作工艺而制造于上基板220上，会将墨水材料滴落于在第一区域202的上基板220A上。由于图案化氧化物层150使第二区域204相较于第一区域202具有较好的疏水特性，使墨水材料可以均匀地分布于第一区域202上方，而不会溢出至第二区域204。此后，执行固化制作工艺以固化墨水材料，而形成具有清晰图案的图案化遮光层210。特别地，图案化遮光层210的图案可以具有良好的边缘线性度。

图13是依照本发明另一实施例的一种显示面板的横截面示意图。请参考图13，在本实施例中，显示面板200B似于显示面板200A，因此相同或近似的元件以相同或近似的标号表示。具体来说，显示面板200B包括图案化遮光层210、上基板220B、下基板230、显示层240、框胶250以及图案化氧化物层260A，其中图案化遮光层210、下基板230、显示层240、框胶150以及图案化氧化物层160A的功效与配置关系可以参考图12实施例的详细说明，于此不再赘述。

在本实施例中，图案化遮光层210配置于在第一区域202的上基板220B上，而图案化氧化物层260仅位于第二区域204且暴露第一区域202。上基板220B的外表面S4B可以经处理或改质以使其上包括疏水性材料HB’，且图案化遮光层210配置于具有改质材料HB’的上基板220B的改质外表面S4B上。尽管上基板220B的外表面S4B包括疏水性材料HB’，但仍相较于图案化氧化物层260的表面具有较差的疏水性，使得图案化遮光层210可以具有良好的边缘线性度的清晰图案。

显示面板200B的制造过程可以包括以下步骤，但不以此为限。经由环绕显示层240的框胶250组装上基板220B与下基板230之后，图案化氧化物层260形成于上基板220B上。图案化氧化物层260的形成方法可以参考图12的实施例的详细描述，于此不再赘述。形成暴露第一区域202的图案化氧化物层260之后，进一步执行表面处理或改质制作工艺，使得在第一区域202的上基板220B包括疏水性材料HB’，且在第二区域204的图案化氧化物层260包括疏水性材料HB。其后，图案化遮光层210经由湿式制作工艺以形成于在第一区域202的上基板220B上。

在一实施例中，图案化氧化物层260的材料相较于上基板220B在表面处理或改质制作工艺中可以有效地被活化，因此疏水性材料HB’在第一区域202的分布密度相较于疏水性材料HB的分布密度较小。举例来说，图案化氧化物层260的材料包括氧化铝。据此，当图案化遮光层210经由例如是喷墨印刷制作工艺的湿式制作工艺以形成于上基板220B上，墨水材料滴落在第一区域202的上基板220B上。由于图案化氧化物层260使第二区域204相较于第一区域202具有较好的疏水特性，墨水材料可以均匀地分布于第一区域202上，而不会溢出至第二区域204。其后，可照射电磁波以执行固化制作工艺以固化墨水材料，而形成具有清晰图案的图案化遮光层210。具体来说，图案化遮光层210的图案可以具有良好的边缘线性度。

综上所述，本发明实施例的显示面板包括图案化遮光层与图案化氧化物层。图案化氧化物层配置于图案化遮光层配置的区域，以提供相对地亲水表面，且暴露图案化遮光层没有配置的另一区域。图案化氧化物层设置于图案化遮光层未设置的区域，以提供相对地疏水表面，且暴露出设置有图案化遮光层的区域。据此，显示面板的图案化遮光层可以通过湿式制作工艺而形成于显示面板的顶部上且具有清晰图案以提供理想的遮光效果

虽然结合以上实施例公开了本发明，然而其并非用以限定本发明，任何所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本发明的精神和范围内，可作些许的更动与润饰，故本发明的保护范围应当以附上的权利要求所界定的为准。

Claims

1.一种显示面板，具有第一区域和位于该第一区域旁的第二区域，该显示面板包括：

上基板，具有一外表面；

显示层，该上基板覆盖该显示层；

图案化遮光层，配置于该上基板的外表面上且位于该第一区域内，其中该图案化遮光层的一边缘至少部分地重叠该第一区域与该第二区域之间的一边界，以及

图案化氧化物层，配置于该上基板的该外表面上且位于该第一区域与该第二区域的其中之一者内，而露该第一区域与该第二区域的另外一者。

2.如权利要求1所述的显示面板，其中该图案化氧化物层位于该第一区域中且配置于该上基板与该图案化遮光层之间。

3.如权利要求2所述的显示面板，其中该图案化氧化物层具有与该图案化遮光层接触的一改质表面。

4.如权利要求3所述的显示面板，其中该上基板的该外表面在该第二区域经受改质以形成一改质外表面，且该改质外表面相较于该图案化氧化物层的该改质表面具有较好的疏水性。

5.如权利要求4所述的显示面板，其中该上基板的该外表面还在该第一区域经受改质，该改质外表面位于该第一区域与该第二区域，且该图案化氧化物层配置于该第一区域的该改质外表面上。

6.如权利要求2所述的显示面板，其中该图案化氧化物层直接接触于该图案化遮光层。

7.如权利要求2所述的显示面板，还包括底氧化物层，该底氧化物层配置于该上基板的该外表面上且位于该第二区域。

8.如权利要求7所述的显示面板，其中该底氧化物层暴露该第一区域。

9.如权利要求7所述的显示面板，其中该底氧化物层还位于该第一区域且配置于该上基板与该图案化氧化物层之间。

10.如权利要求7所述的显示面板，其中该底氧化物层具有带有疏水特性的一改质表面。

11.如权利要求7所述的显示面板，其中该图案化氧化物层的材料异于该底氧化物层的材料。

12.如权利要求2所述的显示装置，其中该上基板的该外表面被改质以形成一改质外表面，且该图案化氧化物层配置于该改质外表面上。

13.如权利要求2所述的显示装置，其中该图案化氧化物层的材料包括具有表面羟基的一氧化物

14.如权利要求13所述的显示面板，其中该氧化物包括选自热蒸镀的氧化硅、氧化铟锡、二氧化钛以及氧化铝的至少一种。

15.如权利要求1所述的显示面板，其中该图案化氧化物层位于该第二区域中且暴露该第一区域。

16.如权利要求15所述的显示面板，其中该图案化氧化物层具有带有疏水特性的一改质表面。

17.如权利要求16所述的显示面板，其中该外表面在该第一区域被改质以形成一改质外表面，且该改质外表面相较于该图案化氧化物层的该改质表面具有较差的疏水性。

18.如权利要求15所述的显示面板，其中该图案化遮光层在该第一区域直接接触该上基板。

19.如权利要求1所述的显示面板，还包括一下基板，该下基板相对于该上基板配置，其中该显示层配置于该上基板与该下基板之间。

20.如权利要求19所述的显示面板，还包括框胶，该框胶配置于该上基板与该下基板之间且环绕该显示层。

21.如权利要求1所述的显示面板，其中该图案化遮光层的材料包括墨水材料。