CN109298590A - 用于制作衬垫式bps的光罩和液晶显示面板 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种用于制作衬垫式BPS的光罩和液晶显示面板。该用于制作衬垫式BPS的光罩设有用于形成主隔垫物色阻衬垫的衬垫图案，所述衬垫图案包括透光区域以及设于所述透光区域中的具有小关键尺寸的遮光图案；所述具有小关键尺寸的遮光图案为某一特征方向上线度足够小的规则图案；所述关键尺寸小于等于5um。本发明还提供了一种液晶显示面板。本发明用于制作衬垫式BPS的光罩能够增大在后续BPS材料涂敷时的段差转化率，最终可以向上调节主隔垫物和辅助隔垫物间的实际段差；本发明的液晶显示面板的衬垫式BPS具有较大的段差。

Description

用于制作衬垫式BPS的光罩和液晶显示面板
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种用于制作衬垫式BPS的光罩和液晶显示面板。
背景技术
液晶显示面板(Liquid Crystal Display，LCD)具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛地应用，如：液晶电视、智能手机、数字相机、平板电脑、计算机屏幕、或笔记本电脑屏幕等，在平板显示领域中占主导地位。
BPS(Black Photo Spacer)技术是整合常规LCD中的黑色矩阵(BM)和隔垫物(PS)两道独立制程为一道，利用黑色遮光光敏树脂形成高度不一的三种功能结构，从高到底分别是主隔垫物(Main PS)/辅助隔垫物(Sub PS)和黑色矩阵，形成多种段差。图1和图2所示为现有技术中BPS技术的两种主要结构设计，不同于传统的黑色矩阵和隔垫物分离的架构，BPS技术将黑色矩阵和隔垫物用同一种材料经一道曝光工艺形成。其中色阻可以形成衬垫，成为隔垫物的一部分；通过衬垫厚度或BPS层膜厚差异，形成主隔垫物和辅助隔垫物间的段差。
现有技术中BPS技术的第一种结构设计如图1所示，BPS层所在的基板1表面地势平坦，涂敷对不同透光率敏感的BPS材料后，利用半色调掩膜(HTM)经一道曝光工艺形成主隔垫物2、辅助隔垫物3和黑色矩阵4，高度分别为H1、H2及H3，从而形成主隔垫物2和辅助隔垫物3间的段差；现有技术中BPS技术的第二种结构设计如图2所示，利用色阻衬垫16、16’和薄膜晶体管11、11’等结构分别形成主隔垫物衬垫和辅助隔垫物衬垫，主隔垫物衬垫和辅助隔垫物衬垫组成衬垫台阶，使由主隔垫物13、辅助隔垫物14和黑色矩阵15组成的BPS层在下层玻璃基板10表面具有不同高度，色阻衬垫16、16’可以由一层或多层色阻组成(图2中为一层蓝色(B)色阻)，色阻衬垫16、16’上覆盖无机钝化层12，最终涂敷单透过率的BPS材料，利用全色调掩膜(FTM)经一道曝光工艺形成即可形成主隔垫物13、辅助隔垫物14和黑色矩阵15，并且相互之间具有段差，上方再设置上层玻璃基板20和透明电极21。
比较第一种结构设计和第二种结构设计，对BPS材料和光罩要求较小的第二种结构设计相对更有应用前景；第二种结构设计中形成RGB色阻后覆盖无机钝化层，如SiNx，利用单层色阻形成下层基板上的衬垫台阶(辅助隔垫物下的色阻衬垫利用半色调掩膜(HTM)/灰色调掩膜(GTM)等工艺降低成膜高度)的BPS技术结构中，段差一般较小，而且受到制程曝光量和下层衬垫材料等影响。
段差较小，在某些应用中，容易导致成盒液晶范围(LC Margin)窗口偏小，容错率低，容易出现真空气泡等制程风险。
如图3所示，其为色阻衬垫俯视示意图。除RGB色阻30以外，色阻于薄膜晶体管31处经FTM工艺形成岛状的色阻衬垫32和经GTM工艺形成岛状的色阻衬垫33后，即形成有段差的衬垫台阶，色阻衬垫32和色阻衬垫33可分别作为主隔垫物和辅助隔垫物的色阻衬垫，然后涂敷BPS材料，流平后经曝光显影，形成长条纹型BPS图案，即可得到最终的隔垫物结构。
实验证明，当衬垫设置在薄膜晶体管等金属图案上时，由于利用GTM工艺形成辅助隔垫物衬垫时所受反射受光量增大，导致最终的衬垫台阶的段差减小。形成色阻衬垫后的段差与制程条件相关性很高，制程波动影响大；即使将辅助隔垫物移至存储电容区，仍然有金属反光，提高段差效果有限；而且主隔垫物和辅助隔垫物摆放位置不同会对隔垫物比率(PS Ratio)讨论引入不便因素。
图4为现有色阻衬垫表面平坦度对比示意图，左侧为主隔垫物色阻衬垫401，右侧为辅助隔垫物色阻衬垫402。主隔垫物色阻衬垫401对应的光罩采用全透开孔设计，辅助隔垫物色阻衬垫402对应的光罩采用狭缝(Silt)设计，形成色阻衬垫后可以看到明显的平坦度区别，主隔垫物色阻衬垫401将下部薄膜晶体管地势抹平，辅助隔垫物色阻衬垫402由本身狭缝和薄膜晶体管的电极凸起引起了起伏。图5为现有主隔垫物和辅助隔垫物表面粗糙度对比示意图，左侧为主隔垫物501的主视图、俯视图及右视图，右侧为辅助隔垫物502的主视图、俯视图及右视图，在图4所示的色阻衬垫上使BPS成膜后，主隔垫物501依旧平坦，辅助隔垫物502的粗糙度被一定程度平坦化，但仍有起伏。现有技术中，由于金属反光，辅助隔垫物色阻衬垫402成膜厚度大于预期，导致最终的段差变小，影响液晶范围。
发明内容
因此，本发明的目的在于提供一种用于制作衬垫式BPS的光罩，增大在后续BPS材料涂敷时的段差转化率。
本发明的另一目的在于提供一种液晶显示面板，其衬垫式BPS具有较大的段差。
为实现上述目的，本发明提供了用于制作衬垫式BPS的光罩，所述光罩设有用于形成主隔垫物色阻衬垫的衬垫图案，所述衬垫图案包括透光区域以及设于所述透光区域中的具有小关键尺寸的遮光图案；所述具有小关键尺寸的遮光图案为某一特征方向上线度足够小的规则图案；所述关键尺寸小于等于5um。
其中，所述衬垫图案的透光面积占比大于等于70％。
其中，所述遮光图案为方块形，三角形，圆形，方块形的阵列排布，线条形，网格形，或回字形。
其中，所述小关键尺寸小于等于2微米。
其中，所述遮光图案为单一图案，或者是单一图案的一维或二维阵列排布。
其中，所述遮光图案为透过率为0％的完全遮光图案，或者为降低透过率的遮光图案。
本发明还提供了一种液晶显示面板，包括上基板、下基板以及设于所述下基板上的衬垫式BPS；所述衬垫式BPS包括隔垫物和位于所述下基板上并与所述隔垫物对应设置的隔垫物衬垫，所述隔垫物衬垫中的色阻层的表面设有微坑。
其中，所述衬垫式BPS包括主隔垫物、辅助隔垫物、黑色矩阵、主隔垫物衬垫和辅助隔垫物衬垫；所述主隔垫物衬垫和辅助隔垫物衬垫设于下基板上，所述主隔垫物衬垫高度高于所述辅助隔垫物衬垫；所述主隔垫物衬垫上方对应设有所述黑色矩阵和主隔垫物，所述辅助隔垫物衬垫上方对应设有所述黑色矩阵和辅助隔垫物；所述主隔垫物衬垫包括主隔垫物色阻衬垫，所述主隔垫物色阻衬垫的上表面设有微坑。
其中，所述微坑呈沟槽或点阵凸起凹陷状，位于所述色阻层上靠近所述隔垫物的表面且其局部粗糙度大于0.1um，小于0.3um。
其中，所述隔垫物顶部形成四周高、中部略微凹陷的凹槽结构，所述凹槽结构波峰波谷值大于0.1um，小于0.5um。
其中，所述隔垫物衬垫中的色阻层形成隔垫物色阻衬垫，所述隔垫物色阻衬垫包括一层或多层色阻。
其中，所述隔垫物衬垫还包括无机平坦层或有机平坦层，或者包括薄膜晶体管。
综上，本发明用于制作衬垫式BPS的光罩能够增大在后续BPS材料涂敷时的段差转化率，最终可以向上调节主隔垫物和辅助隔垫物间的实际段差；本发明的液晶显示面板的衬垫式BPS具有较大的段差。
附图说明
下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其他有益效果显而易见。
附图中，
图1为现有技术中BPS技术的第一种结构设计示意图；
图2为现有技术中BPS技术的第二种结构设计示意图；
图3为色阻衬垫俯视示意图；
图4为现有色阻衬垫表面平坦度对比示意图；
图5为现有主隔垫物和辅助隔垫物表面粗糙度对比示意图；
图6A为现有用于制作衬垫式BPS的光罩的俯视图，图6B为应用图6A所示光罩所形成的色阻图案的俯视图，图6C为应用图6A所示光罩所形成的主隔垫物色阻衬垫剖面图；
图6D为本发明用于制作衬垫式BPS的光罩一较佳实施例的俯视图，图6E为应用图6D所示光罩所形成的色阻图案的俯视图，图6F为应用图6D所示光罩所形成的主隔垫物色阻衬垫剖面图；
图7为本发明用于制作衬垫式BPS的光罩的原理示意图；
图8为本发明用于制作衬垫式BPS的光罩的具有小关键尺寸的遮光图案示意图；
图9为本发明液晶显示面板一较佳实施例的结构示意图。
具体实施方式
图6A所示为现有用于制作衬垫式BPS的光罩40的俯视图，图6B为应用光罩40所对应形成的色阻图案的俯视图，图6C为应用光罩40所形成的主隔垫物色阻衬垫41的剖面图。光罩40设有用于形成主隔垫物色阻衬垫41的衬垫图案42，衬垫图案42为大开口透光区域；光罩40进一步还包括RGB色阻图案43以用于形成RGB色阻44，RGB色阻图案43为大开口透光区域。现有的RGB色阻图案43和衬垫图案42设计是整体做透光处理，即透光率T＝100％，在基板100上形成的主隔垫物色阻衬垫41的高度为H。
图6D为本发明光罩50的俯视图，图6E为应用光罩50所对应形成的色阻图案的俯视图，涂6F为应用光罩50所形成的主隔垫物色阻衬垫51的剖面图。本发明的光罩50可在图6A所示光罩40的基础上做出。本发明的光罩50包括用于形成主隔垫物色阻衬垫51的衬垫图案52，衬垫图案52主要包括大开口透光区域，衬垫图案52还包括用于在主隔垫物色阻衬垫51上表面形成小范围微坑54的具有小关键尺寸(Critical Dimension，CD)的遮光图案53，遮光图案53设于衬垫图案52的透光区域中。在本申请中，关键尺寸也就是指设计尺寸大小，具有小关键尺寸的遮光图案为某一特征方向上线度足够小的规则图案。光罩50进一步还包括RGB色阻图案55以用于形成RGB色阻56，RGB色阻图案55为大开口透光区域。
本发明在衬垫图案52的大开口透光区域中加入具有小关键尺寸的遮光图案53，保证衬垫图案52的透光面积占比不低于70％，即透光区域占整个衬垫图案52的比例不低于70％，防止遮光条纹过多，透光率下降严重，降低成膜高度。
本发明利用遮光图案53在衬垫图案52的小区域中降低透光率以增大主隔垫物色阻衬垫51表面粗糙度，且几乎不减小在基板100上形成的主隔垫物色阻衬垫51的高度H。以完全遮光的透光率为0％Cr的金属膜所形成的遮光图案53为例，由于遮光图案53设置为具有小关键尺寸，一般不大于5um，则遮光图案53总的面积占衬垫图案52总开口区域的比例可以低于30％。
本发明通过对光罩中用于形成主隔垫物色阻衬垫的衬垫图案做特殊设计，包括具有小关键尺寸的遮光图案(色阻一般为负型材料，曝光成膜)，例如点/线(Dot/Line)，在不降低整体高度(大部分或最高点)的情形下，提高主隔垫物色阻衬垫表面粗糙度。本发明中，辅助隔垫物色阻衬垫可以与原来设计保持不变，或者变化位置等。
利用本发明的光罩使主隔垫物色阻衬垫形成粗糙上表面，具有小关键尺寸的遮光图案使得主隔垫物色阻衬垫上表面粗糙度提升，但主隔垫物色阻衬垫整体高度不变，由于后续BPS材料涂敷流平，可以提升BPS材料在主隔垫物色阻衬垫上的留存厚度，即可以提高主隔垫物高度，相应地也就增大了隔垫物间的段差，有利于制程范围。
图7为本发明用于制作衬垫式BPS的光罩的原理示意图；图7左侧所示为在一般光罩70下曝光基板100上的有机光阻101，光罩70设有透光区域71；图7右侧所示为在本发明的光罩72下曝光基板100上的有机光阻102，光罩72设有透光区域73，透光区域73中加入具有小关键尺寸的遮光图案74。本发明利用的基本原理是：有机光阻(色阻)在曝光中，接收透过光罩透光区域的光能量进行图形化，但有机光阻实际的图形是具有斜坡的，在本发明中，有机光阻在图形化时，其图形边界斜坡在水平面的投影距离用EF表示，投影距离大小用EF值来表示；EF值越小，代表图形边界剖面越陡直，坡度(Taper)角越大；EF值与图形边界的膜厚减薄区对应，膜厚减薄区互相叠加流平也能形成一定厚度薄膜，其程度视材料性质和制程条件而定。
当光罩中用于形成主隔垫物色阻衬垫的衬垫图案的遮光图案的关键尺寸和面积比达到本技术方案要求时，可以在不降低膜厚的前提下增高主隔垫物色阻衬垫表面粗糙度；将表面粗糙的主隔垫物色阻衬垫用于主隔垫物下方的衬垫设计，可以提高最终衬垫段差转化率或者隔垫物段差。
本发明针对使用下层衬垫的BPS技术架构，尤其是针对有机光阻形成的色阻衬垫，可以通过在光罩上引入具有小关键尺寸的遮光图案(某一维度关键尺寸不大于5um的规则图形，且总遮光面积占比小于30％)，利用有机光阻膜厚减薄区交叠(Overlay)，即可以在几乎不降低整体膜厚的前提下，增大色阻衬垫上表面的粗糙度，进而增大在后续BPS材料涂敷时的段差转化率(隔垫物段差/衬垫段差)，即最终可以向上调节主隔垫物和辅助隔垫物间的实际段差。通过使用本发明的光罩，可以充分利用制程中的有机材料，利用率高；缩减现有制程。
参见图8，其为本发明用于制作衬垫式BPS的光罩的具有小关键尺寸的遮光图案示意图。光罩中用于形成主隔垫物色阻衬垫的衬垫图案主要包括大开口透光区域，还包括用于在主隔垫物色阻衬垫上表面形成小范围微坑的具有小关键尺寸的遮光图案，具有小关键尺寸的遮光图案具体是指某一特征方向上线度足够小的规则图案，如图8所示，遮光图案可以为透光区域中的方块形，三角形，圆形，方块形的阵列排布，网格形，或回字形等；关键尺寸不大于5um，更优的，关键尺寸不大于2um。关键尺寸指遮光图案中最小的轴向关键尺寸，即两个维度关键尺寸不一致时，以最小的为准；而异形的遮光图案，如三角形和圆形，则分别为边长和直径；图8中用CD分别标注了各遮光图案的具体关键尺寸所指。具有小关键尺寸的遮光图案可以为单一设计或者是一维及二维阵列排布。可用于本发明的具有小关键尺寸的遮光图案包括但不限于图8所示图案，除图8所示图案以外，还可以为线条形等形状，本发明中具有小关键尺寸的遮光图案除可以为透过率为0％的完全遮光图案外，还可以是HTM等降低透过率的设计。
参见图9，其为本发明液晶显示面板一较佳实施例的结构示意图。本发明的液晶显示面板主要包括上基板201、下基板101以及设于上基板201、下基板101之间的衬垫式BPS；所述衬垫式BPS包括主隔垫物131、辅助隔垫物141、黑色矩阵151、主隔垫物衬垫132和辅助隔垫物衬垫142；所述主隔垫物衬垫132和辅助隔垫物衬垫142设于下基板101上，所述主隔垫物衬垫132高度高于所述辅助隔垫物衬垫142；所述主隔垫物衬垫142上方对应设有所述黑色矩阵151和主隔垫物131，所述辅助隔垫物衬垫142上方对应设有所述黑色矩阵151和辅助隔垫物141；所述主隔垫物衬垫132包括主隔垫物色阻衬垫161，所述主隔垫物色阻衬垫161的上表面设有微坑163。主隔垫物色阻衬垫161的上表面设有微坑163使得主隔垫物色阻衬垫161的上表面变粗糙，并且使得整个主隔垫物衬垫142上表面粗糙。上基板201与主隔垫物131、辅助隔垫物141之间还设有透明电极211；与透明电极211相对，在色阻上设有像素电极212。在一般的液晶显示面板结构中，上基板201和下基板101之间还夹入液晶层，外侧还贴附偏光膜片等，在此不再赘述。
本发明的液晶显示面板中，主隔垫物色阻衬垫可以包括一层或若干层色阻，由一层或若干层色阻组成主隔垫物色阻衬垫；主隔垫物衬垫包括主隔垫物色阻衬垫，还可以包括但不限于无机平坦层或有机平坦层等，或者还可以包括薄膜晶体管，关键在于在下基板上主隔垫物衬垫高度高于辅助隔垫物衬垫。在图9所示实施例中，主隔垫物色阻衬垫161包括一层蓝色色阻，主隔垫物衬垫132包括主隔垫物色阻衬垫161，还包括薄膜晶体管111和无机钝化层121，主隔垫物色阻衬垫161设于薄膜晶体管111上，无机钝化层121覆盖于主隔垫物色阻衬垫161上。
辅助隔垫物衬垫142的结构可以类似于主隔垫物衬垫132，关键在于在下基板101上主隔垫物衬垫132高度高于所述辅助隔垫物衬垫142。在此实施例中，辅助隔垫物衬垫142包括辅助隔垫物色阻衬垫162，还包括薄膜晶体管112和无机钝化层121，辅助隔垫物色阻衬垫162设于薄膜晶体管112上，无机钝化层121覆盖于辅助隔垫物色阻衬垫162上。主隔垫物衬垫132和辅助隔垫物衬垫142在下基板101上形成衬垫台阶，使包括主隔垫物131、辅助隔垫物141和黑色矩阵151的BPS层在下基板101表面具有不同高度。在此实施例中，针对使用衬垫式BPS的技术架构，在设有薄膜晶体管111和薄膜晶体管112等的阵列基板上，同时制备有彩色滤光片，即形成COA基板，最后沉积无机钝化层121作为保护膜；主隔垫物衬垫132和辅助隔垫物衬垫142在欲制作主隔垫物131和辅助隔垫物141的位置形成衬垫台阶，其中，彩色滤光片所包括的主隔垫物色阻衬垫161和辅助隔垫物色阻衬垫162分别作为主隔垫物衬垫132和辅助隔垫物衬垫142的组成部分，在主隔垫物131和辅助隔垫物141上涂敷单透过率的BPS材料，利用全色调掩膜经一道曝光工艺形成即可形成主隔垫物131、辅助隔垫物141、黑色矩阵151。
主隔垫物色阻衬垫161的上表面所设有的小范围的微坑163，可以利用本发明前述的光罩制作，可以通过在光罩上引入小关键尺寸遮光图案的特殊设计，同时利用膜厚减薄区的交叠，可以在几乎不降低整体膜厚的前提下，增大主隔垫物色阻衬垫161上表面的粗糙度，进而增大主隔垫物衬垫132上表面的粗糙度，进而增大在后续BPS材料涂敷时的段差转化率，即最终可以向上调节主隔垫物131和辅助隔垫物141间的实际段差。主隔垫物色阻衬垫161的上表面所设有的小范围的微坑163可以呈沟槽或点阵凸起凹陷状；主隔垫物色阻衬垫161的上表面局部粗糙度可以设置为大于0.1um，小于0.3um。主隔垫物131顶部形成四周高、中部略微凹陷的凹槽结构，所述凹槽结构波峰波谷值大于0.1um，小于0.5um。
综上，本发明用于制作衬垫式BPS的光罩能够增大在后续BPS材料涂敷时的段差转化率，最终可以向上调节主隔垫物和辅助隔垫物间的实际段差；本发明的液晶显示面板的衬垫式BPS具有较大的段差。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明后附的权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种用于制作衬垫式BPS的光罩，其特征在于，所述光罩设有用于形成主隔垫物色阻衬垫的衬垫图案，所述衬垫图案包括透光区域以及设于所述透光区域中的具有小关键尺寸的遮光图案；所述具有小关键尺寸的遮光图案为某一特征方向上线度足够小的规则图案；所述关键尺寸小于等于5um。
2.如权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述衬垫图案的透光面积占比大于等于70％。
3.如权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述遮光图案为方块形，三角形，圆形，方块形的阵列排布，线条形，网格形，或回字形。
4.如权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述小关键尺寸小于等于2微米。
5.一种液晶显示面板，其特征在于，包括上基板、下基板以及设于所述下基板上的衬垫式BPS；所述衬垫式BPS包括隔垫物和位于所述下基板上并与所述隔垫物对应设置的隔垫物衬垫，所述隔垫物衬垫中的色阻层的表面设有微坑。
6.如权利要求5所述的液晶显示面板，其特征在于，所述衬垫式BPS包括主隔垫物、辅助隔垫物、黑色矩阵、主隔垫物衬垫和辅助隔垫物衬垫；所述主隔垫物衬垫和辅助隔垫物衬垫设于下基板上，所述主隔垫物衬垫高度高于所述辅助隔垫物衬垫；所述主隔垫物衬垫上方对应设有所述黑色矩阵和主隔垫物，所述辅助隔垫物衬垫上方对应设有所述黑色矩阵和辅助隔垫物；所述主隔垫物衬垫包括主隔垫物色阻衬垫，所述主隔垫物色阻衬垫的上表面设有微坑。
7.如权利要求5所述的液晶显示面板，其特征在于，所述微坑呈沟槽或点阵凸起凹陷状，位于所述色阻层上靠近所述隔垫物的表面且其局部粗糙度大于0.1um，小于0.3um。
8.如权利要求5所述的液晶显示面板，其特征在于，所述隔垫物顶部形成四周高、中部略微凹陷的凹槽结构，所述凹槽结构波峰波谷值大于0.1um，小于0.5um。
9.如权利要求5所述的液晶显示面板，其特征在于，所述隔垫物衬垫中的色阻层形成隔垫物色阻衬垫，所述隔垫物色阻衬垫包括一层或多层色阻。
10.如权利要求5所述的液晶显示面板，其特征在于，所述隔垫物衬垫还包括无机平坦层或有机平坦层，或者包括薄膜晶体管。
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110568718A (zh) * 2019-08-06 2019-12-13 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 灰阶光罩及显示基板的制作方法
CN111123588A (zh) * 2020-02-16 2020-05-08 南京中电熊猫平板显示科技有限公司 一种彩膜基板及其制造方法
CN111158193A (zh) * 2020-03-10 2020-05-15 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及其制备方法
CN111969029A (zh) * 2020-08-31 2020-11-20 江苏仕邦柔性电子研究院有限公司 一种用于oled显示面板的tft器件结构
CN112083606A (zh) * 2019-06-14 2020-12-15 夏普株式会社 液晶显示装置、以及、液晶显示装置的制造方法
CN113077715A (zh) * 2021-03-17 2021-07-06 Tcl华星光电技术有限公司 显示面板及其制作方法、显示装置
CN113138488A (zh) * 2021-04-13 2021-07-20 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板
CN113534600A (zh) * 2021-06-28 2021-10-22 上海华虹宏力半导体制造有限公司 暗场图形的辅助图形及其设计方法

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210147123A (ko) * 2020-05-27 2021-12-07 삼성디스플레이 주식회사 표시패널 및 표시패널의 제조방법
US11754886B1 (en) * 2020-12-01 2023-09-12 Apple Inc. Pixel layouts for electronic device displays

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104298011A (zh) * 2014-09-05 2015-01-21 深圳市华星光电技术有限公司 一种掩模板及使用掩模板制作光阻间隔物的方法
CN104483773A (zh) * 2014-12-12 2015-04-01 深圳市华星光电技术有限公司 一种曲面液晶显示面板及其制作方法
CN107039352A (zh) * 2017-04-12 2017-08-11 深圳市华星光电技术有限公司 Tft基板的制作方法及tft基板
CN107505778A (zh) * 2017-07-20 2017-12-22 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种显示器及其制程
CN107741673A (zh) * 2017-10-13 2018-02-27 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种液晶显示面板中的间隙子的制备方法及液晶显示面板

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201044081A (en) * 2009-06-11 2010-12-16 Chi Mei Optoelectronics Corp Liquid crystal panel, application and manufacturing method thereof
CN103852969A (zh) * 2012-12-05 2014-06-11 上海广电富士光电材料有限公司 掩模版、滤光板的制造方法、液晶显示装置
JP6514143B2 (ja) * 2016-05-18 2019-05-15 Hoya株式会社 フォトマスクの製造方法、フォトマスク、及び表示装置の製造方法
JP6573591B2 (ja) * 2016-09-13 2019-09-11 Hoya株式会社 フォトマスクの製造方法、フォトマスク、及び表示装置の製造方法
CN108535909A (zh) * 2018-04-17 2018-09-14 深圳市华星光电技术有限公司 Bps型阵列基板的制作方法及bps型阵列基板

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104298011A (zh) * 2014-09-05 2015-01-21 深圳市华星光电技术有限公司 一种掩模板及使用掩模板制作光阻间隔物的方法
CN104483773A (zh) * 2014-12-12 2015-04-01 深圳市华星光电技术有限公司 一种曲面液晶显示面板及其制作方法
CN107039352A (zh) * 2017-04-12 2017-08-11 深圳市华星光电技术有限公司 Tft基板的制作方法及tft基板
CN107505778A (zh) * 2017-07-20 2017-12-22 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种显示器及其制程
CN107741673A (zh) * 2017-10-13 2018-02-27 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种液晶显示面板中的间隙子的制备方法及液晶显示面板

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112083606A (zh) * 2019-06-14 2020-12-15 夏普株式会社 液晶显示装置、以及、液晶显示装置的制造方法
CN110568718A (zh) * 2019-08-06 2019-12-13 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 灰阶光罩及显示基板的制作方法
CN110568718B (zh) * 2019-08-06 2020-09-01 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 灰阶光罩及显示基板的制作方法
CN111123588A (zh) * 2020-02-16 2020-05-08 南京中电熊猫平板显示科技有限公司 一种彩膜基板及其制造方法
CN111158193A (zh) * 2020-03-10 2020-05-15 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及其制备方法
CN111969029A (zh) * 2020-08-31 2020-11-20 江苏仕邦柔性电子研究院有限公司 一种用于oled显示面板的tft器件结构
CN113077715A (zh) * 2021-03-17 2021-07-06 Tcl华星光电技术有限公司 显示面板及其制作方法、显示装置
CN113138488A (zh) * 2021-04-13 2021-07-20 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板
CN113534600A (zh) * 2021-06-28 2021-10-22 上海华虹宏力半导体制造有限公司 暗场图形的辅助图形及其设计方法

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