CN109290287A - 一种干式清洗装置及清洗方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种干式清洗装置，用于在移动过程中对玻璃基板表面进行清洗，干式清洗装置包括沿移动路径相邻设置的第一清洗机构和第二清洗机构，第一清洗机构用于清除玻璃基板上的第一异物，第二清洗机构用于清除玻璃基板上的第二异物，其中，第一异物的直径大于第二异物的直径。本发明还公开了一种采用上述所述的干式清洗装置对液晶显示器的玻璃基板进行清洗的方法。本发明的一种干式清洗装置通过第一清洗机构和第二清洗机构的设置，使得在其移动过程中可同时对玻璃基板表明的颗粒状异物、有机物、细菌类异物同时进行清除，避免了异物阻挡刻蚀，提升了清洗效果和产品良率；且其结构简单，便于操作，可在较小投资的情况下获得较大收益。

Description

一种干式清洗装置及清洗方法
技术领域
本发明涉及一种清洗装置，更具体的说，涉及一种干式清洗装置及采用该清洗装置进行清洗的清洗方法。
背景技术
在液晶显示器的生产过程中多次涉及清洗工艺，整个制备工艺中清洗工艺的工作量占总工作量的30％～40％，而且随着液晶显示技术的不断进步，对工件的表面洁净度要求极高。
目前的清洗工艺主要涉及两种，一种是干式洗净技术，一种是湿式洗净技术。但是湿式清洗技术由于清洗过程中需要用到大量的纯水和有毒化学溶剂，易造成作业人员危害及环境污染的问题，所需要的高纯度化学药品及去离子水费用昂贵，也形成废水处理及安全问题，因此，现多采用干式法进行清洗，但是目前所使用的干法清洗设备只能处理直径≥1um的颗粒物，对1um以下颗粒或者有机物、细菌类异物无法处理，影响产品良率。
发明内容
鉴于现有技术存在的缺陷，本发明提供了一种干式清洁装置，以实现清洗过程中同时处理表面颗粒和有机物的目的。
为了实现上述的目的，本发明采用了如下的技术方案：
本发明的目的在于提供了一种干式清洗装置，用于在移动过程中对玻璃基板表面进行清洗，所述干式清洗装置包括沿移动路径相邻设置的第一清洗机构和第二清洗机构，所述第一清洗机构用于清除玻璃基板上的第一异物，所述第二清洗机构用于清除玻璃基板上的第二异物，其中，所述第一异物的直径大于所述第二异物的直径。
优选地，所述第二清洗机构设有两个，两个所述第二清洗机构沿所述清洗装置移动路径相邻设于所述第一清洗机构的两侧。
优选地，所述第一异物的直径大于等于1μm。
优选地，所述第一清洗机构为超声波清洗机构，所述第二清洗机构为EUV清洗机构或大气压等离子清洗机构。
优选地，所述EUV清洗机构包括EUV灯管及罩设于所述EUV灯管上的罩体，所述罩体上设有一照射口，所述照射口朝向玻璃基板表面。
优选地，所述第一清洗机构包括壳体、形成于所述壳体内且通有高压气流的超声腔、设于所述超声腔内的超声波发生器及贯通所述超声腔的喷道，其中，所述喷道口朝向玻璃基板表面。
优选地，所述第一清洗机构还包括形成于所述壳体内的吸附腔及贯通所述吸附腔的吸附道，其中，所述吸附道口朝向所述玻璃基板表面，且所述吸附道靠近所述喷道设置。
优选地，所述第一清洗机构还包括换气机构，所述换气机构通过第一气道与所述吸附腔相通，用于抽取所述吸附腔内的空气以形成真空腔吸走异物；所述换气机构还通过第二气道与所述超声腔相通，以向所述超声腔内通入高压气流。
优选地，所述第一清洗机构还包括设于所述第一气道上的过滤器。
本发明的另一目的在于提供一种采用上述所述的干式清洗装置对液晶显示器的玻璃基板进行清洗的方法。
与现有技术相比，本发明的一种干式清洗装置通过第一清洗机构和第二清洗机构的设置，使得在其移动过程中可同时对玻璃基板表明的颗粒状异物、有机物、细菌类异物同时进行清除，避免了异物阻挡刻蚀，提升了清洗效果和产品良率；且其结构简单，便于操作，可在较小投资的情况下获得较大收益。
附图说明
图1是本发明实施例的干式清洁装置的结构示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
如图1所示，为本发明实施例的一种干式清洗装置，所述的干式清洗装置用于在移动过程中对玻璃基板A表面进行清洗，所述干式清洗装置包括沿移动路径相邻设置的第一清洗机构1和第二清洗机构2，所述第一清洗机构1用于清除玻璃基板A上的第一异物a，所述第二清洗机构2用于清除玻璃基板A上的第二异物b，其中，所述第一异物a的直径大于所述第二异物b的直径。
其中，本实施例的第一异物a主要为玻璃基板表面的大颗粒物，而第二异物b主要为玻璃基板表面小的颗粒物、有机物、细菌类异物。为了进一步的对第一异物a与第二异物b进行区分，优选的，所述第一异物a为直径大于等于1μm的颗粒物，第二异物b为1μm以下颗粒或者有机物、细菌类异物。因此，本实施例的第一清洗机构1主要用于清除玻璃基板表面直径大于等于1μm的颗粒物，第二清洗机构对主要用于对玻璃基板表面的1μm以下颗粒或者有机物、细菌类异物进行清除。
由于本实施例的干式清洗装置是通过移动对玻璃基板A表面的异物进行清除，因此，若干式清洗装置为单方向运动时，且当第二清洗机构2只设有一个时，优选的，第二清洗机构2位于第一清洗机构1移动的下游(但并不限于此)，这样可首先通过第一清洗机构1对玻璃基板表面较大的颗粒物进行清除，然后再通过设于第一清洗机构1下游且与第一清洗机构1相邻的第二清洗机构2进一步对已清除较大颗粒物的所述玻璃基板进行进一步清除，此次清除主要针对玻璃基板表面较小的颗粒物、有机物、细菌类异物，从而达到清洗过程中同时处理玻璃基板表面颗粒异物、有机物、细菌类异物的目的，提升清洗效果和产品良率。
进一步为了提升清洗效果，所述第二清洗机构2设有两个，两个所述第二清洗机构2沿所述清洗装置移动路径相邻设于所述第一清洗机构1的两侧，优选的，第二清洗机构2对称设于第一清洗机构1的两侧，且均与第一机构1相邻设置，相邻设置不仅确保了在移动清洗过程中的连续性，且有效的减小了整个干式清洗装置的体积，便于移动；同时两个第二清洗机构2的设置有效的保证了清洗的效果，可理解的是，这样的设置使得对干式清洗装置的移动方位并不做限制，不论干式清洗装置为单向的移动、还是来回反复的清洗，都可对玻璃基板表面异物进行有效的去除。
作为本发明干式清洗装置的一种实现方式，所述的第一清洗机构1可为超声波清洗机构，所述第二清洗机构2可为EUV清洗机构或大气压等离子清洗机构。
其中，当所述第二清洗机构2为EUV清洗机构时，作为EUV清洗机构实现的一种方式，参照图1所示，所述EUV清洗机构包括EUV灯管22，通过EUV灯管22进行紫外灯照射，生成臭氧以去除玻璃基板上的有机物，优选的，可将EUV灯管22设于干式清洗装置的清洗头的一端，使得EUV灯管22距离玻璃基板A更近。进一步为了对EUV灯管22进行一定的保护，EUV清洗机构还包括罩设于所述EUV灯管22上的罩体21，所述罩体21上设有一照射口23，所述照射口23朝向玻璃基板A表面。EUV灯管22照射的紫外光通过照射口23穿出，进而清除与照射口23相对的玻璃基板A表面的第二异物b。
参照图1所示，作为本发明实施例的干式清洗装置中第一清洗机构1的一种实现方式，本实施例的第一清洗机构1包括壳体10、设于壳体10内的超声腔11、设于壳体10内的吸附腔12、换气机构13、连通吸附腔12与换气机构13的第一气道14、连通超声腔11与换气机构13的第二气道15、设于所述第一气道14上的过滤器16。其中，超声腔11与吸附腔12之间设有挡墙。
其中，超声腔11内设有超声波发生器111，壳体10上设有贯通所述超声腔11的喷道112，其中，所述喷道112口朝向玻璃基板A表面。其中，所述超声腔11内还设有用于传输超声波并放大超声波能量的流道(未示出)。
其中，壳体10上还设有贯通所述吸附腔12的吸附道121，其中，所述吸附道121口朝向所述玻璃基板A表面，且所述吸附道121靠近所述喷道112设置。
基于上述结构设置，所述的第一清洗机构1的工作过程为：
换气机构13向超声腔11内供入高压气流，使得超声波发生器111产生的超声波通过高压气流及流道设计将超声波能量放大(120倍以上)后通过喷道112喷出，从而轰击玻璃基板A表面的第一异物a，剥离异物的粘附。其中，所述高压气流大约为5个大气压。
于此同时，换气机构13抽取吸附腔12内的空气以使吸附腔12内形成真空腔从而吸走玻璃基板A表面上已经剥离的第一异物a，由于第一气道14上设有过滤器16，过滤器16过滤颗粒物后空气进入换气机构13，换气机构13通过空气压缩再向超声腔11内供入高压气流，形成循环系统。吸附道121与喷道112的相邻设置，保证了吸附的及时性，使得剥离的第一异物a能及时被吸附腔12通过吸附道121吸入。
继续参照图1，为了进一步保证吸附效果，吸附腔12可设置多个，优选的，设置两个，两个吸附腔12分别设于超声腔11的两侧，则显然的是，吸附道121设有两个，每个分别与吸附腔12贯通，且优选的是，两个吸附腔12位于喷道112的两侧，使得喷道112喷出后剥离的第一异物a可通过两侧的吸附腔12被吸附掉，有效的保证了吸附清洗的效果，进一步提升产品良率。
需要说明的是，当吸附腔12设有两个时，则对应的第一气道14设有两个，其中，两个第一气道14可分别连通至换气机构13，也可是两个第一气道14汇集后再连通至换气机构13，对此并不做限制。当然，当两个第一气道14分别连通至换气机构13时，则两个第一气道14上分别设置一个过滤器16。
本发明实施例还提供了一种采用上述的干式清洗装置对液晶显示器的玻璃基板A进行清洗的方法。该方法通过上述的干式清洗装置对玻璃基板A表面的异物进行清洗；其可通过使干式清洗装置与玻璃基板A之间发生相对移动的方式进行，即移动干式清洗装置，保持玻璃基板A不动；或移动玻璃基板A，保持干式清洗装置不动；或两者均移动的方式，但并不限于此。
本发明的一种干式清洗装置通过第一清洗机构和第二清洗机构的设置，使得在其移动过程中可同时对玻璃基板表明的颗粒状异物、有机物、细菌类异物同时进行清除，避免了异物阻挡刻蚀，提升了清洗效果和产品良率；且其结构简单，便于操作，可在较小投资的情况下获得较大收益。
以上仅是本申请的具体实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。

Claims (10)

1.一种干式清洗装置，其特征在于，用于在移动过程中对玻璃基板(A)表面进行清洗，所述干式清洗装置包括沿移动路径相邻设置的第一清洗机构(1)和第二清洗机构(2)，所述第一清洗机构(1)用于清除玻璃基板(A)上的第一异物(a)，所述第二清洗机构(2)用于清除玻璃基板(A)上的第二异物(b)，其中，所述第一异物(a)的直径大于所述第二异物(b)的直径。
2.根据权利要1所述的干式清洗装置，其特征在于，所述第二清洗机构(2)设有两个，两个所述第二清洗机构(2)沿所述清洗装置移动路径相邻设于所述第一清洗机构(1)的两侧。
3.根据权利要1所述的干式清洗装置，其特征在于，所述第一异物(a)的直径大于等于1μm。
4.根据权利要求1～3任一所述的干式清洗装置，其特征在于，所述第一清洗机构(1)为超声波清洗机构，所述第二清洗机构(2)为EUV清洗机构或大气压等离子清洗机构。
5.根据权利要求4所述的干式清洗装置，其特征在于，所述EUV清洗机构包括EUV灯管(22)及罩设于所述EUV灯管(22)上的罩体(21)，所述罩体(21)上设有一照射口(23)，所述照射口(23)朝向玻璃基板(A)表面。
6.根据权利要求4所述的干式清洗装置，其特征在于，所述第一清洗机构(1)包括壳体(10)、形成于所述壳体(10)内且通有高压气流的超声腔(11)、设于所述超声腔(11)内的超声波发生器(111)及贯通所述超声腔(11)的喷道(112)，其中，所述喷道(112)口朝向玻璃基板(A)表面。
7.根据权利要求6所述的干式清洗装置，其特征在于，所述第一清洗机构(1)还包括形成于所述壳体(10)内的吸附腔(12)及贯通所述吸附腔(12)的吸附道(121)，其中，所述吸附道(121)口朝向所述玻璃基板(A)表面，且所述吸附道(121)靠近所述喷道(112)设置。
8.根据权利要求7所述的干式清洗装置，其特征在于，所述第一清洗机构(1)还包括换气机构(13)，所述换气机构(13)通过第一气道(14)与所述吸附腔(12)相通，用于抽取所述吸附腔(12)内的空气以形成真空腔吸走异物；所述换气机构(13)还通过第二气道(15)与所述超声腔(11)相通，以向所述超声腔(11)内通入高压气流。
9.根据权利要求8所述的干式清洗装置，其特征在于，所述第一清洗机构(1)还包括设于所述第一气道(14)上的过滤器(16)。
10.一种采用如权利要求1～9任一所述的干式清洗装置对液晶显示器的玻璃基板(A)进行清洗的方法。
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