CN109226129A - 新型反应杯清洗机构 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种新型反应杯清洗机构，包括安装块、可滑动设置在所述安装块上的滑杆、设置在所述滑杆上的清洗针组件、设置在所述安装块上的用于带动所述滑杆上下滑动的电机组件及用于带动所述滑杆转动的偏转组件。本发明通过使用一个电机和一个电磁铁能分别实现清洗针的上下运动和偏转运动；通过在滑杆和电机夹之间设置缓冲弹簧，能避免清洗针在下降的过程中与反应杯底部刚性冲击，能保护好清洗针；通过在吸废液针底部设计了十字开口结构，能在清洗过程中使吸废液针充分吸走废液；通过设置三组清洗针能提高清洗效率。本发明的新型反应杯清洗机构结构简单，清洗效率高、效果好，使用方便，具有很好的推广应用前景。

Description

新型反应杯清洗机构

技术领域

本发明涉及生化检测设备领域，特别涉及一种新型反应杯清洗机构。

背景技术

目前生化检测设备中的清洗机构，有的只能实现上下运动，有的采用两个电机，分别实现上下运动和偏转运动，但其结构复杂，操作不便，且成本昂贵，难以满足用于的需求。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于针对上述现有技术中的不足，提供一种新型反应杯清洗机构。

为解决上述技术问题，本发明采用的技术方案是：一种新型反应杯清洗机构，包括安装块、可滑动设置在所述安装块上的滑杆、设置在所述滑杆上的清洗针组件、设置在所述安装块上的用于带动所述滑杆上下滑动的电机组件及用于带动所述滑杆转动的偏转组件。

优选的是，所述安装块内沿竖直方向贯通开设有滑杆孔，所述滑杆配合插设其中。

优选的是，所述电机组件包括设置在所述安装块底部的电机、与所述电机驱动连接的电机丝杆及设置在所述电机丝杆下端的电机夹，所述滑杆的下端通过缓冲弹簧与所述电机夹的另一侧柔性连接。

优选的是，所述电机夹的一侧与所述电机丝杆下端固接，另一侧由上至下依次设置有上滑孔板和下滑孔板，所述上滑孔板和下滑孔板上均开设有供所述滑杆下部插入的滑孔，所述滑孔内设置有第一轴承。

优选的是，处于所述上滑孔板和下滑孔板之间的滑杆上套设所述缓冲弹簧，处于所述上滑孔板上端的滑杆外周开设有上卡槽，处于所述上滑孔板和下滑孔板之间的滑杆上开设有下卡槽，所述上卡槽和下卡槽上分别设置有上卡环和下卡环，所述缓冲弹簧的下端通过所述下卡环与所述滑杆固接。

优选的是，所述偏转组件包括电磁铁座、设置于所述电磁铁座上的电磁铁、设置于所述安装块侧部的偏转板、连接于所述偏转板和电磁铁座之间的复位弹簧及设置在所述偏转板外侧的挡板。

优选的是，所述偏转板与所述安装块连接的内侧开设有滑槽，所述滑槽内设置有另一端与所述滑杆连接的伸出轴，所述伸出轴上设置有第二轴承；

所述偏转板的顶端面上开设有限位槽，所述安装块的侧部设置有与所述限位槽配合的限位柱。

优选的是，所述清洗针组件包括通过胀紧螺母与所述滑杆上端连接的清洗滑块、设置在所述清洗滑块上的清洗针固定架、设置在所述清洗针固定架上的清洗针固定座、设置在所述清洗针固定座上的清洗针、设置在所述清洗针固定架底部的清洗针固定块及设置在所述清洗针顶部的清洗针连接头。

优选的是，所述清洗针包括注清洗液针和吸废液针，所述吸废液针底部设置有十字开口。

优选的是，所述电磁铁座上上设置有上限位光耦和下限位光耦，所述电机夹的侧部设置有与所述上限位光耦和下限位光耦配合的上下光耦挡片；所述电磁铁座上还设置有偏转光耦，所述安装块的侧部设置有与所述偏转光耦配合的偏转光耦挡片。

本发明的有益效果是：本发明通过使用一个电机和一个电磁铁能分别实现清洗针的上下运动和偏转运动；通过在滑杆和电机夹之间设置缓冲弹簧，能避免清洗针在下降的过程中与反应杯底部刚性冲击，能保护好清洗针；通过在吸废液针底部设计了十字开口结构，能在清洗过程中使吸废液针充分吸走废液；通过设置三组清洗针能提高清洗效率。本发明的新型反应杯清洗机构结构简单，清洗效率高、效果好，使用方便，具有很好的推广应用前景。

附图说明

图1为本发明的新型反应杯清洗机构的结构示意图；

图2为本发明的新型反应杯清洗机构的另一视角的结构示意图；

图3为本发明的新型反应杯清洗机构的另一视角的结构示意图；

图4为本发明的偏转板的结构示意图；

图5为本发明的新型反应杯清洗机构的俯视方向的结构示意图；

图6为本发明的电机夹与滑杆的连接结构示意图；

图7为本发明的滑杆的结构示意图；

图8为本发明的清洗针的底部的结构示意图；

图9为本发明的新型反应杯清洗机构的一种工作状态的示意图；

图10为本发明的新型反应杯清洗机构的另一种工作状态的示意图。

附图标记说明：

1—安装块；2—滑杆；3—清洗针组件；4—电机组件；5—偏转组件；6—支座；30—胀紧螺母；31—清洗滑块；32—清洗针固定架；33—清洗针固定座；34—清洗针；35—清洗针固定块；36—清洗针连接头；37—注清洗液针；38—吸废液针；40—电机；41—电机丝杆；42—电机夹；43—缓冲弹簧；50—电磁铁座；51—电磁铁；52—偏转板；53—复位弹簧；54—挡板；55—滑槽；56—伸出轴；57—第二轴承；58—限位槽；59—限位柱；70—上限位光耦；71—下限位光耦；72—上下光耦挡片；73—偏转光耦；74—偏转光耦挡片；340—十字开口；420—上滑孔板；421—下滑孔板；422—滑孔；423—第一轴承；424—上卡槽；425—下卡槽；426—上卡环；427—下卡环。

具体实施方式

下面结合实施例对本发明做进一步的详细说明，以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。

应当理解，本文所使用的诸如“具有”、“包含”以及“包括”术语并不排除一个或多个其它元件或其组合的存在或添加。

如图1-10所示，本实施例的一种新型反应杯清洗机构，包括安装块1、可滑动设置在安装块1上的滑杆2、设置在滑杆2上的清洗针组件3、设置在安装块1上的用于带动滑杆2上下滑动的电机40组件4及用于带动滑杆2转动的偏转组件5。安装块1内沿竖直方向贯通开设有滑杆2孔，滑杆2配合插设其中。电机40组件4包括设置在安装块1底部的电机40、与电机40驱动连接的电机丝杆41及设置在电机丝杆41下端的电机夹42，滑杆2的下端通过缓冲弹簧43与电机夹42的另一侧柔性连接。

电机40优选为直线步进电机40，电机40运转通过电机丝杆41带动与滑杆2连接的电机夹42上下运动，再通过滑杆2带动其上端的清洗针组件3上下运动，以对反应杯进行清洗。本发明工作时，放置于转盘(或其他运动机构)的反应杯经过运转，并对准清洗针34后，直线步进电机40驱动清洗针组件3下降，清洗针34插入反应杯中，吸废液针38抽吸反应杯中多余的试剂、样本(液态)，注清洗液针37注入清洗液，如此抽吸、注入循环若干次后，反应杯中的多余的试剂和样本被清洗干净。

在一种实施例中，参照图6-7，电机夹42的一侧与电机丝杆41下端固接，另一侧由上至下依次设置有上滑孔422板420和下滑孔422板421，上滑孔422板420和下滑孔422板421上均开设有供滑杆2下部插入的滑孔422，滑孔422内设置有第一轴承423。处于上滑孔422板420和下滑孔422板421之间的滑杆2上套设有缓冲弹簧43，处于上滑孔422板420上端的滑杆2外周开设有上卡槽424，处于上滑孔422板420和下滑孔422板421之间的滑杆2上开设有下卡槽425，上卡槽424和下卡槽425上分别设置有上卡环426和下卡环427，缓冲弹簧43的下端通过下卡环427与滑杆2固接。

其中，滑杆2和电机夹42之间设置缓冲弹簧43，以防止清洗针34在下降过程中与反应杯刚性冲击。具体的，参照图9清洗针处于初始位置，电机夹42和清洗针处于最顶部位置，工作后，电机40带动电机夹42向下运动时，上滑孔422板420与缓冲弹簧43上端接触，而缓冲弹簧43下端又与滑杆2固接，从而通过上滑孔422板420带动缓冲弹簧43向下运动，以带动滑杆2及其上的清洗针组件3向下运动，当清洗针组件3上的清洗针接触到下方的反应杯时，即清洗针到达最低端位置，如图10，滑杆2向下运动受到阻力，电机夹42会继续向下有小距离移动，上滑孔422板420压缩缓冲弹簧43，而滑杆2不会继续向下运动，从而实现缓冲能防止清洗针34与反应杯刚性接触，保护清洗针34。

偏转组件5用于实现清洗针组件3在竖直平面内的偏转，以在清洗针组件3偏转后，对准一处盲孔(在其他模块上)，执行和清洗反应杯相同的清洗操作，以对清洗针34自身进行清洗。

具体的，在一种实施例中，参照图3-5偏转组件5包括电磁铁51座50、设置于电磁铁51座50上的电磁铁51、设置于安装块1侧部的偏转板52、连接于偏转板52和电磁铁51座50之间的复位弹簧53及设置在偏转板52外侧的挡板54。偏转板52与安装块1连接的内侧开设有滑槽55，滑槽55内设置有另一端与滑杆2连接的伸出轴56，伸出轴56上设置有第二轴承57；偏转板52的顶端面上开设有限位槽58，安装块1的侧部设置有与限位槽58配合的限位柱59。安装块1固定在支座6上，电磁铁51座50固定在外部整机上，安装块1与电磁铁51座50之间为可活动连接，从而使电磁铁51能带动偏转板52、安装块1整体相对于电磁铁51座50进行转动。

工作时，电磁铁51通电后顶压挡板54，挡板54带动偏转板52转动(如图3中，在竖直平面内向右后方)，偏转板52在通过滑槽55与伸出轴56的配合带动滑杆2转动(此过程中偏转板52、安装块1、滑杆2、清洗针组件3整体进行转动，而电磁铁51座50保持固定，)，从而实现清洗针组件3在竖直平面内的偏转，旋转后清洗针组件3上的清洗针34对准一处盲孔(在其他模块上)，执行和清洗反应杯相同的清洗操作，以对清洗针34自身进行清洗。

其中，通过限位槽58与限位柱59的配合能控制转动的角度大小，在一种实施例中能实现20°的旋转。

其中，伸出轴56通过第二轴承57与滑槽55内壁接触，能减小摩擦，便于转动力的传递。

在一种实施例中，参照图2，清洗针组件3包括通过胀紧螺母30与滑杆2上端连接的清洗滑块31、设置在清洗滑块31上的清洗针固定架32、设置在清洗针固定架32上的清洗针固定座33、设置在清洗针固定座33上的清洗针34、设置在清洗针固定架32底部的清洗针固定块35及设置在清洗针34顶部的清洗针连接头36。

在一种实施例中，参照图2和8，清洗针34包括注清洗液针37和吸废液针38，吸废液针38底部设置有十字开口340，便于清洗过程中使吸废液针38充分吸走废液。

在一种实施例中，清洗针组件3包括3组，每组均包括一个注清洗液针37和吸废液针38，以提高清洗效率。

在一种实施例中，参照图2和3，电磁铁51座50上上设置有上限位光耦70和下限位光耦71，电机夹42的侧部设置有与上限位光耦70和下限位光耦71配合的上下光耦挡片72，以实现清洗针组件3上下运动的限位；电磁铁51座50上还设置有偏转光耦73，安装块1的侧部设置有与偏转光耦73配合的偏转光耦挡片74，以实现清洗针组件3偏转初始位置的定位。

尽管本发明的实施方案已公开如上，但其并不仅仅限于说明书和实施方式中所列运用，它完全可以被适用于各种适合本发明的领域，对于熟悉本领域的人员而言，可容易地实现另外的修改，因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下，本发明并不限于特定的细节。

Claims (10)

1.一种新型反应杯清洗机构，其特征在于，包括安装块、可滑动设置在所述安装块上的滑杆、设置在所述滑杆上的清洗针组件、设置在所述安装块上的用于带动所述滑杆上下滑动的电机组件及用于带动所述滑杆转动的偏转组件。

2.根据权利要求1所述的新型反应杯清洗机构，其特征在于，所述安装块内沿竖直方向贯通开设有滑杆孔，所述滑杆配合插设其中。

3.根据权利要求2所述的新型反应杯清洗机构，其特征在于，所述电机组件包括设置在所述安装块底部的电机、与所述电机驱动连接的电机丝杆及设置在所述电机丝杆下端的电机夹，所述滑杆的下端通过缓冲弹簧与所述电机夹的另一侧柔性连接。

4.根据权利要求3所述的新型反应杯清洗机构，其特征在于，所述电机夹的一侧与所述电机丝杆下端固接，另一侧由上至下依次设置有上滑孔板和下滑孔板，所述上滑孔板和下滑孔板上均开设有供所述滑杆下部插入的滑孔，所述滑孔内设置有第一轴承。

5.根据权利要求4所述的新型反应杯清洗机构，其特征在于，处于所述上滑孔板和下滑孔板之间的滑杆上套设所述缓冲弹簧，处于所述上滑孔板上端的滑杆外周开设有上卡槽，处于所述上滑孔板和下滑孔板之间的滑杆上开设有下卡槽，所述上卡槽和下卡槽上分别设置有上卡环和下卡环，所述缓冲弹簧的下端通过所述下卡环与所述滑杆固接。

6.根据权利要求1所述的新型反应杯清洗机构，其特征在于，所述偏转组件包括电磁铁座、设置于所述电磁铁座上的电磁铁、设置于所述安装块侧部的偏转板、连接于所述偏转板和电磁铁座之间的复位弹簧及设置在所述偏转板外侧的挡板。

7.根据权利要求6所述的新型反应杯清洗机构，其特征在于，所述偏转板与所述安装块连接的内侧开设有滑槽，所述滑槽内设置有另一端与所述滑杆连接的伸出轴，所述伸出轴上设置有第二轴承；

所述偏转板的顶端面上开设有限位槽，所述安装块的侧部设置有与所述限位槽配合的限位柱。

8.根据权利要求1所述的新型反应杯清洗机构，其特征在于，所述清洗针组件包括通过胀紧螺母与所述滑杆上端连接的清洗滑块、设置在所述清洗滑块上的清洗针固定架、设置在所述清洗针固定架上的清洗针固定座、设置在所述清洗针固定座上的清洗针、设置在所述清洗针固定架底部的清洗针固定块及设置在所述清洗针顶部的清洗针连接头。

9.根据权利要求8所述的新型反应杯清洗机构，其特征在于，所述清洗针包括注清洗液针和吸废液针，所述吸废液针底部设置有十字开口。

10.根据权利要求1所述的新型反应杯清洗机构，其特征在于，所述电磁铁座上上设置有上限位光耦和下限位光耦，所述电机夹的侧部设置有与所述上限位光耦和下限位光耦配合的上下光耦挡片；所述电磁铁座上还设置有偏转光耦，所述安装块的侧部设置有与所述偏转光耦配合的偏转光耦挡片。