CN109188756A - 彩膜基板及其制作方法 - Google Patents

Abstract

一种彩膜基板，包括显示区和非显示区。非显示区设置有主间隔物和辅间隔物，主间隔物包括依次设置在下基板上的黑色矩阵层、基色色阻层和平坦层，辅间隔物包括依次设置在下基板上的基色色阻层和平坦层；主间隔物层累厚度大于辅间隔物的层累厚度，黑色矩阵层的厚度用以调节主间隔物和辅间隔物的层累厚度差。辅间隔物相较于主间隔物缺少黑色矩阵层，只需调节黑色矩阵层的厚度即可调节主辅间隔物的厚度差，无需修改掩膜版，降低了成本，简化了工艺。

Description

彩膜基板及其制作方法

技术领域

本申请涉及显示面板领域，尤其是一种应用于液晶显示面板的彩膜基板及其制作方法。

背景技术

现有的彩膜基板上设置的柱状间隔物起到维持阵列基板和彩膜基板之间的间隙，以及起到抵抗液晶盒收到的外部压力的作用。柱状间隔物代替了早期通过静电喷洒设置的球状间隔物，相比之下，柱状间隔物位置固定、分布均匀，使得液晶盒厚更均匀且不会对透过率产生影响。但是柱状间隔物需要单独沉积且图案化于彩膜基板上，而近期出现的层叠间隔物由彩膜基板上具有其他功能的膜层层叠形成，例如黑色矩阵层、基色色阻层和平坦层，无需单独进行掩膜工艺。

然而间隔物需要有主间隔物和辅间隔物以应对液晶在温度变化时产生的体积变化，因此主间隔物和辅间隔物需要有厚度差，以应对液晶的体积膨胀或缩小，使得液晶盒能维持形状且无真空气泡。主辅间隔物的厚度差根据不同的材料或工艺需求需要进行调整，而现有的主辅层叠间隔物厚度差由辅间隔物的第二层基色色阻层的尺寸调节实现，需要修改掩膜版，以通过不同的曝光程度实现第二层基色色阻层的尺寸调节。但是，掩膜版成本较高，修改更换掩膜版将提高生产材料、时间和劳动力成本，进一步将影响盈利。

发明内容

本申请提供一种彩膜基板及其制作方法，辅间隔物相较于主间隔物，缺少黑色矩阵层，因此，可以利用黑色矩阵层的厚度调节来控制主辅间隔物的厚度差，而黑色矩阵层的厚度只需在涂布的工艺时进行调整，无需修改掩膜版，降低了成本，简化了制作工艺。

本申请提供一种彩膜基板，包括显示区和非显示区：

所述非显示区的位置对应于，与所述彩膜基板相对盒的阵列基板的数据线以及开关线的区域，且包围所述显示区；

所述非显示区设置有主间隔物和辅间隔物，所述主间隔物包括依次设置在下基板上的黑色矩阵层、基色色阻层和平坦层，所述辅间隔物包括依次设置在所述下基板上的所述基色色阻层和所述平坦层；

所述主间隔物层累厚度大于所述辅间隔物的层累厚度，所述黑色矩阵层的厚度用以调节所述主间隔物和辅间隔物的层累厚度差。

根据本申请一实施例，所述黑色矩阵层覆盖所述非显示区且作为所述主间隔物的一部分，以使所述主间隔物和辅间隔物形成厚度差。

根据本申请一实施例，所述黑色矩阵层设有用于设置所述辅间隔物的开口。

根据本申请一实施例，所述黑色矩阵层的开口面积大于或等于所述辅间隔物投影到所述下基板平面上的面积。

根据本申请一实施例，所述彩膜基板包括至少一个像素单元，每个所述像素单元包括所述显示区和所述非显示区，每个所述像素单元内至少有一个所述主间隔物和至少二个辅间隔物。

根据本申请一实施例，所述黑色矩阵层的开口与所述显示区间隔有所述黑色矩阵层。

本申请提供一种彩膜基板的制作方法，包括以下步骤：

S10，提供一玻璃基板，在表面制作黑色矩阵层，所述黑色矩阵层设置在非显示区，所述非显示区的位置对应将与所述彩膜基板相贴合的阵列基板的数据线以及开关线对应的区域，所述黑色矩阵层设置有主间隔物处，所述黑色矩阵层设置有开口，用以制作辅间隔物；

S20，在显示区、所述主间隔物处和所述黑色矩阵层的开口处制作基色色阻层；

S30，在所述玻璃基板上制作平坦层，以覆盖所述黑色矩阵层、主间隔物和辅间隔物。

根据本申请一实施例，所述显示区包括第一基色区、第二基色区和第三基色区。

根据本申请一实施例，所述基色色阻层分为第一基色色阻层、第二基色色阻层和第三基色色阻层。

根据本申请一实施例，所述步骤S20包括：

S201，在所述第一基色区、所述主间隔物处和所述黑色矩阵层的开口处制作所述第一基色色阻层；

S202，在所述第二基色区、所述主间隔物处和所述黑色矩阵层的开口处制作所述第二基色色阻层；

S203，在所述第三基色区、所述主间隔物处和所述黑色矩阵层的开口处制作所述第三基色色阻层。

本申请提供的彩膜基板及其制作方法，通过叠加彩膜基板的功能膜层形成主辅间隔物，相较于柱状间隔物，减少了一次光刻工艺；主间隔物比辅间隔物多了黑色矩阵层，可通过黑色矩阵层的厚度调节来实现主辅间隔物的厚度差调节，相较于通过调节色阻层的尺寸的方式，无需修改掩膜版，简化了工艺，降低了成本，将对利润增长产生正面影响。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本申请作进一步详细的说明。

图1是本申请实施例提供的彩膜基板一像素单元的结构示意图；

图2是本申请实施例提供的彩膜基板一像素单元的AA’截面结构示意图；

图3是本申请实施例提供的彩膜基板的制作方法流程图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

现有的层叠间隔物需要修改掩膜版来调节辅间隔物的第二基色色阻层的尺寸，从而调节主辅间隔物的厚度差，材料、工艺成本高昂。因此，本申请实例提供一种彩膜基板及其制作方法，使其表面的主辅间隔物相差黑色矩阵层，调节黑色矩阵层的厚度即可调节主辅间隔的厚度差，降低了成本，简化了工艺。

图1是本申请实施例提供的一种彩膜基板一像素单元的结构示意图。所示像素单元包括显示区107和非显示区100，非显示区100位置与将要和彩膜基板对盒的阵列基板的数据线以及开关线位置相对应。非显示区100有主间隔物105和辅间隔物106。

黑色矩阵层101覆盖非显示区100，且作为主间隔物105的一部分，以使主间隔物105和辅间隔物106形成厚度差。黑色矩阵层101在对应于辅间隔物106的区域设置有用于设置辅间隔物106的开口。

所示像素单元显示区107包括第一基色区102、第二基色区103和第三基色区104，显示区107外包围着非显示区100。所示一个像素单元有一个主间隔物105和三个辅间隔物106，分别位于第二基色区103的四角。

黑色矩阵层的开口略大于辅间隔物在彩膜基板平面上的面积。黑色矩阵层的开口不连接显示区107，开口始终在非显示区100内，与显示区107间隔有黑色矩阵层。主间隔物105在彩膜基板平面的面积可以与辅间隔物106在彩膜基板平面的面积相等。

图2是本申请实施例提供的彩膜基板一像素单元的AA’截面结构示意图。所示主间隔物105从下到上层叠有黑色矩阵层101、第一基色色阻层203、第二基色色阻层204、第三基色色阻层205和平坦层206。所示辅间隔物106从下到上层叠有第一基色色阻层203、第二基色色阻层204、第三基色色阻层205和平坦层206。所述辅间隔物106相较于主间隔物105，缺少黑色矩阵层101，调节黑色矩阵层101的厚度即可调节主间隔物105和辅间隔物106之间的厚度差，而黑色矩阵层101的厚度可在涂布工序时进行调节。主间隔物105和辅间隔物106的基色色阻层面积从下到上可依次减小。平坦层206的厚度调整可对主间隔物105和辅间隔物106的厚度进行调整。

本申请利用黑色矩阵层开口，使得主间隔物比辅间隔物多了黑色矩阵层，从而可以通过调节黑色矩阵层的厚度来调节主辅间隔物的厚度差，以适应不同的工艺需求，简化了工艺，降低了成本。

图3是本申请实施例提供的彩膜基板的制作方法流程图。结合图1和图2，黑色矩阵层101、第一基色色阻层203、第二基色色阻层204、第三基色色阻层205和平坦层206的制作均采用光刻工艺：

步骤S10，在玻璃基板201上制作黑色矩阵层101，使其有图案，覆盖非显示区100，并为辅间隔物开有开口，在涂布黑色矩阵层101时，可根据主辅间隔物厚度差的需求和遮光性需求，调节其厚度；

步骤S201，在第一基色区102、主间隔物105处和辅间隔物106处，制作第一基色色阻层203，这里的第一基色可以是红色，辅间隔物106中的第一基色色阻层203的面积不大于黑色矩阵层的开口面积，主间隔物105中第一基色色阻层203不延展至显示区107；

步骤S202，在第二基色区103、主间隔物105处和辅间隔物106处，制作第二基色色阻层204，这里的第二基色可以是绿色，主间隔物105和辅间隔物106中的第二基色色阻层204的面积分别略小于其中的第一基色色阻层203的面积；

步骤S203，在第三基色区104、主间隔物105处和辅间隔物106处，制作第三基色色阻层205，这里的第三基色可以是蓝色，主间隔物105和辅间隔物106中的第三基色色阻层205的面积分别略小于其中的第二基色色阻层204的面积；

步骤S30，在整个基板表面制作平坦层206，以覆盖黑色矩阵层、主间隔物和辅间隔物。平坦层206可以用透明的、具有流平性的材料，不改变主、辅间隔物的形状，平坦层206的厚度也可调节以满足对主辅间隔物不同的厚度需求。

本申请提供的彩膜基板的制作方法，使层叠式间隔物得以实现，使只通过改变黑色矩阵层的厚度来调节主辅间隔物的厚度差得以实现，减少了一次光刻工艺，节省了修改掩膜版的材料、工艺成本，提高了利润空间，提高了工作效率。

Claims (10)

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括显示区和非显示区：

所述非显示区设置有主间隔物和辅间隔物，所述主间隔物包括依次设置在下基板上的黑色矩阵层、基色色阻层和平坦层，所述辅间隔物包括依次设置在所述下基板上的所述基色色阻层和所述平坦层；

所述主间隔物层累厚度大于所述辅间隔物的层累厚度，所述黑色矩阵层的厚度改变用以调节所述主间隔物和辅间隔物的层累厚度差。

2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述非显示区的位置对应于，与所述彩膜基板相对盒的阵列基板的数据线以及开关线的区域，且包围所述显示区；所述黑色矩阵层覆盖所述非显示区，且所述黑色矩阵层对应于所述主间隔物的区域作为所述主间隔物的一部分，以使所述主间隔物和辅间隔物形成厚度差。

3.如权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑色矩阵层设有用于设置所述辅间隔物的开口。

4.如权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑色矩阵层的开口面积大于或等于所述辅间隔物投影到所述下基板平面上的面积。

5.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括至少一个像素单元，每个所述像素单元包括所述显示区和所述非显示区，每个所述像素单元内至少有一个所述主间隔物和至少二个辅间隔物。

6.如权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑色矩阵层的开口与所述显示区间隔有所述黑色矩阵层。

7.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

S10，提供一玻璃基板，在表面制作黑色矩阵层，所述黑色矩阵层设置在非显示区，所述非显示区的位置对应将与所述彩膜基板相贴合的阵列基板的数据线以及开关线对应的区域，所述黑色矩阵层设置在主间隔物处，所述黑色矩阵层设置有开口，用以制作辅间隔物；

S20，在显示区、所述主间隔物处和所述黑色矩阵层的开口处制作基色色阻层；

S30，在所述玻璃基板上制作平坦层。

8.如权利要求7所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述显示区包括第一基色区、第二基色区和第三基色区。

9.如权利要求8所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述基色色阻层分为第一基色色阻层、第二基色色阻层和第三基色色阻层。

10.如权利要求9所述的彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述步骤S20包括：

S201，在所述第一基色区、所述主间隔物处和所述黑色矩阵层的开口处制作所述第一基色色阻层；

S202，在所述第二基色区、所述主间隔物处和所述黑色矩阵层的开口处制作所述第二基色色阻层；

S203，在所述第三基色区、所述主间隔物处和所述黑色矩阵层的开口处制作所述第三基色色阻层。