CN109037032A - 一种光电子半导体硅片脱胶工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种光电子半导体硅片脱胶工艺,具体方法如下:(1)预清洗后放入表面活性剂中超声清洗(2)温水进行喷淋,然后使用第一酸液进行一次清洗,清洗完成后再使用清水喷淋、洗净后烘干,再使用第二酸液进行二次清洗,二次清洗完成后使用清水重复喷淋、烘干操作,得粗脱胶半导体硅片;(3)置于表面活性剂热水槽中浸泡浸泡过程中辅以超声,浸泡完成后使用高压、常温的清水进行喷淋操作。经过实验,使用发明方法,光电子半导体硅片的脱胶率高达97.9%以上,而使用现有技术的脱胶率仅为94.8%,可见本发明方法的脱胶效果更好。
Description
技术领域
本发明涉及光电子材料技术领域,具体是一种光电子半导体硅片脱胶工艺。
背景技术
半导体器件生产中硅片须经严格清洗。微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属金、铜、铁、铬等,严重影响少数载流子寿命和表面电导;碱金属如钠等,引起严重漏电;颗粒污染包括硅渣、尘埃、细菌、微生物、有机胶体纤维等,会导致各种缺陷。清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。
传统的脱胶工艺一般是将硅片浸泡在40℃以上的热水槽中,浸泡清洗达到脱胶效果,但是这种方法脱胶率不高且容易造成硅片损毁。
发明内容
为了解决上述背景技术中提出的问题,本发明提供了一种光电子半导体硅片脱胶工艺。
一种光电子半导体硅片脱胶工艺,具体方法如下:
(1)将半导体硅片放置在装满自来水的槽中进行预清洗,清洗完成后再放入添加有体积百分比为2%-3%的表面活性剂的超声清洗槽中,超声强度为55-65kHz,温度为42-48℃,超声时间为15-20分钟;
(2)将步骤(1)处理好的半导体硅片使用35-40℃温水进行喷淋,然后使用第一酸液进行一次清洗,一次清洗进行完成后再使用清水喷淋、洗净后烘干,再使用第二酸液进行二次清洗,二次清洗完成后使用清水重复喷淋、烘干操作,得粗脱胶半导体硅片;
(3)将步骤(2)所述粗脱胶半导体硅片再置于添加有表面活性剂的92-95℃热水槽中浸泡90-120分钟,浸泡过程中辅以超声,超声强度为15-30kHz,每隔90秒进行超声处理30秒,浸泡完成后使用压力为0.15-0.18MPa、常温的清水进行喷淋操作,喷淋时间200-250秒,即完成脱胶。
进一步的,步骤(2)所述第一酸液,由氢氟酸、水按质量比1:100-120在15-18℃下均匀混合后制得。
进一步的,步骤(2)所述第二酸液,由草酸溶液、氨基硫酸溶液、柠檬酸溶液按质量比1:3:2-4混合后制得。
进一步的,所述草酸溶液,由草酸、水按质量比1:800-850于常温常压下混合后制得。
进一步的,所述氨基硫酸溶液,由氨基硫酸、水按质量比1:500-550于60-65℃下,使用搅拌机200-300r/min均匀搅拌后冷却至室温后制得。
进一步的,所述柠檬酸溶液,由柠檬酸、水按质量比1:1000-1100于常温常压下混合后混合后制得。
进一步的,步骤(3)所述表面活性剂,为阴离子及非离子表面活性剂中的至少一种。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
本发明通过依次对半导体硅片进行预清洗、超声清洗、一次酸洗、二次酸洗、表面活性剂超声清洗的方法,大大提高了脱胶效率,同时提升了半导体硅片表面的脱胶效果,同时还有防止半导体硅片表面氧化腐蚀的功效,保证产品的重复利用。经过实验,使用发明方法,光电子半导体硅片的脱胶率高达97.9%以上,而使用现有技术的脱胶率仅为94.8%,可见本发明方法的脱胶效果更好。
具体实施方式
实施例1
一种光电子半导体硅片脱胶工艺,具体方法如下:
(1)将半导体硅片放置在装满自来水的槽中进行预清洗,清洗完成后再放入添加有体积百分比为2%的表面活性剂的超声清洗槽中,超声强度为55-65kHz,温度为42-48℃,超声时间为15-20分钟;
(2)将步骤(1)处理好的半导体硅片使用35-40℃温水进行喷淋,然后使用第一酸液进行一次清洗,一次清洗进行完成后再使用清水喷淋、洗净后烘干,再使用第二酸液进行二次清洗,二次清洗完成后使用清水重复喷淋、烘干操作,得粗脱胶半导体硅片;
(3)将步骤(2)所述粗脱胶半导体硅片再置于添加有表面活性剂的92-95℃热水槽中浸泡90分钟,浸泡过程中辅以超声,超声强度为15-30kHz,每隔90秒进行超声处理30秒,浸泡完成后使用压力为0.15-0.18MPa、常温的清水进行喷淋操作,喷淋时间200秒,即完成脱胶。
进一步的,步骤(2)所述第一酸液,由氢氟酸、水按质量比1:100在15-18℃下均匀混合后制得。
进一步的,步骤(2)所述第二酸液,由草酸溶液、氨基硫酸溶液、柠檬酸溶液按质量比1:3:2混合后制得。
进一步的,所述草酸溶液,由草酸、水按质量比1:800于常温常压下混合后制得。
进一步的,所述氨基硫酸溶液,由氨基硫酸、水按质量比1:500于60-65℃下,使用搅拌机200r/min均匀搅拌后冷却至室温后制得。
进一步的,所述柠檬酸溶液,由柠檬酸、水按质量比1:1000于常温常压下混合后混合后制得。
进一步的,步骤(3)所述表面活性剂,为阴离子及非离子表面活性剂中的至少一种。
实施例2
一种光电子半导体硅片脱胶工艺,具体方法如下:
(1)将半导体硅片放置在装满自来水的槽中进行预清洗,清洗完成后再放入添加有体积百分比为3%的表面活性剂的超声清洗槽中,超声强度为55-65kHz,温度为42-48℃,超声时间为20分钟;
(2)将步骤(1)处理好的半导体硅片使用35-40℃温水进行喷淋,然后使用第一酸液进行一次清洗,一次清洗进行完成后再使用清水喷淋、洗净后烘干,再使用第二酸液进行二次清洗,二次清洗完成后使用清水重复喷淋、烘干操作,得粗脱胶半导体硅片;
(3)将步骤(2)所述粗脱胶半导体硅片再置于添加有表面活性剂的92-95℃热水槽中浸泡120分钟,浸泡过程中辅以超声,超声强度为15-30kHz,每隔90秒进行超声处理30秒,浸泡完成后使用压力为0.15-0.18MPa、常温的清水进行喷淋操作,喷淋时间250秒,即完成脱胶。
进一步的,步骤(2)所述第一酸液,由氢氟酸、水按质量比1:120在15-18℃下均匀混合后制得。
进一步的,步骤(2)所述第二酸液,由草酸溶液、氨基硫酸溶液、柠檬酸溶液按质量比1:3:4混合后制得。
进一步的,所述草酸溶液,由草酸、水按质量比1:850于常温常压下混合后制得。
进一步的,所述氨基硫酸溶液,由氨基硫酸、水按质量比1:550于60-65℃下,使用搅拌机200-300r/min均匀搅拌后冷却至室温后制得。
进一步的,所述柠檬酸溶液,由柠檬酸、水按质量比1:1100于常温常压下混合后混合后制得。
进一步的,步骤(3)所述表面活性剂,为阴离子及非离子表面活性剂中的至少一种。
实施例3
一种光电子半导体硅片脱胶工艺,具体方法如下:
(1)将半导体硅片放置在装满自来水的槽中进行预清洗,清洗完成后再放入添加有体积百分比为2.5%的表面活性剂的超声清洗槽中,超声强度为55-65kHz,温度为42-48℃,超声时间为18分钟;
(2)将步骤(1)处理好的半导体硅片使用35-40℃温水进行喷淋,然后使用第一酸液进行一次清洗,一次清洗进行完成后再使用清水喷淋、洗净后烘干,再使用第二酸液进行二次清洗,二次清洗完成后使用清水重复喷淋、烘干操作,得粗脱胶半导体硅片;
(3)将步骤(2)所述粗脱胶半导体硅片再置于添加有表面活性剂的92-95℃热水槽中浸泡100分钟,浸泡过程中辅以超声,超声强度为15-30kHz,每隔90秒进行超声处理30秒,浸泡完成后使用压力为0.15-0.18MPa、常温的清水进行喷淋操作,喷淋时间220秒,即完成脱胶。
进一步的,步骤(2)所述第一酸液,由氢氟酸、水按质量比1:110在15-18℃下均匀混合后制得。
进一步的,步骤(2)所述第二酸液,由草酸溶液、氨基硫酸溶液、柠檬酸溶液按质量比1:3:3混合后制得。
进一步的,所述草酸溶液,由草酸、水按质量比1:820于常温常压下混合后制得。
进一步的,所述氨基硫酸溶液,由氨基硫酸、水按质量比1:530于60-65℃下,使用搅拌机250r/min均匀搅拌后冷却至室温后制得。
进一步的,所述柠檬酸溶液,由柠檬酸、水按质量比1:1050于常温常压下混合后混合后制得。
进一步的,步骤(3)所述表面活性剂,为阴离子及非离子表面活性剂中的至少一种。
对比实施例1
本对比实施例1与实施例1相比,不使用步骤(1)所述方法,除此外的方法步骤均相同。
对比实施例2
本对比实施例2与实施例2相比,不使用步骤(2)所述方法,除此外的方法步骤均相同。
对比实施例3
本对比实施例3与实施例3相比,不使用步骤(3)所述方法,除此外的方法步骤均相同。
对照组
现有的光电子半导体硅片脱胶工艺。
分别使用上述7种方法进行光电子半导体硅片的脱胶,测定脱胶率,结果如表1:
由上表可知,使用发明方法,光电子半导体硅片的脱胶率高达97.9%以上,而使用现有技术的脱胶率仅为94.8%,可见本发明方法的脱胶效果更好。
Claims (7)
1.一种光电子半导体硅片脱胶工艺,其特征在于,具体方法如下:
(1)将半导体硅片放置在装满自来水的槽中进行预清洗,清洗完成后再放入添加有体积百分比为2%-3%的表面活性剂的超声清洗槽中,超声强度为55-65kHz,温度为42-48℃,超声时间为15-20分钟;
(2)将步骤(1)处理好的半导体硅片使用35-40℃温水进行喷淋,然后使用第一酸液进行一次清洗,一次清洗进行完成后再使用清水喷淋、洗净后烘干,再使用第二酸液进行二次清洗,二次清洗完成后使用清水重复喷淋、烘干操作,得粗脱胶半导体硅片;
(3)将步骤(2)所述粗脱胶半导体硅片再置于添加有表面活性剂的92-95℃热水槽中浸泡90-120分钟,浸泡过程中辅以超声,超声强度为15-30kHz,每隔90秒进行超声处理30秒,浸泡完成后使用压力为0.15-0.18MPa、常温的清水进行喷淋操作,喷淋时间200-250秒,即完成脱胶。
2.根据权利要求1所述的一种光电子半导体硅片脱胶工艺,其特征在于:步骤(2)所述第一酸液,由氢氟酸、水按质量比1:100-120在15-18℃下均匀混合后制得。
3.根据权利要求1所述的一种光电子半导体硅片脱胶工艺,其特征在于:步骤(2)所述第二酸液,由草酸溶液、氨基硫酸溶液、柠檬酸溶液按质量比1:3:2-4混合后制得。
4.根据权利要求3所述的一种光电子半导体硅片脱胶工艺,其特征在于:所述草酸溶液,由草酸、水按质量比1:800-850于常温常压下混合后制得。
5.根据权利要求3所述的一种光电子半导体硅片脱胶工艺,其特征在于:所述氨基硫酸溶液,由氨基硫酸、水按质量比1:500-550于60-65℃下,使用搅拌机200-300r/min均匀搅拌后冷却至室温后制得。
6.根据权利要求3所述的一种光电子半导体硅片脱胶工艺,其特征在于:所述柠檬酸溶液,由柠檬酸、水按质量比1:1000-1100于常温常压下混合后混合后制得。
7.根据权利要求1所述的一种光电子半导体硅片脱胶工艺,其特征在于:步骤(3)所述表面活性剂,为阴离子及非离子表面活性剂中的至少一种。
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CN112745991A (zh) * | 2019-10-31 | 2021-05-04 | 洛阳阿特斯光伏科技有限公司 | 一种脱胶剂及其制备方法和应用 |
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Cited By (2)
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