CN108983550A - 一种水溶性感光干膜及其制备方法 - Google Patents
一种水溶性感光干膜及其制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN108983550A CN108983550A CN201810876497.1A CN201810876497A CN108983550A CN 108983550 A CN108983550 A CN 108983550A CN 201810876497 A CN201810876497 A CN 201810876497A CN 108983550 A CN108983550 A CN 108983550A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- dry film
- water soluble
- soluble light
- sensitive dry
- acetone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
本发明公开了一种水溶性感光干膜,包括如下重量百分比组分:酸酐改性丙烯酸树脂25‑27%;改性丙烯酸树脂36‑38%;增塑剂DPHA单体1.8‑2%;三羟甲基三丙烯酸酯13‑14%;丙酮8‑9%;三苯甲烷染料0.1‑0.2%;4‑甲硫基苯基3‑4%;2‑异丙基硫1‑1.5%;2‑羟基‑2‑甲基‑1‑苯基丙酮0.8‑1%;甲醇5.6‑5.7%;品绿0.03%。此外,本发明还公开了一种水溶性感光干膜的制备方法。
Description
技术领域
本发明涉及感光膜领域,具体涉及一种水溶性感光干膜及其制备方法。
背景技术
感光干膜为在印制线路板行业的一种光学材料,干膜在涂装中是相对湿膜而言的,干膜是一种高分子的化合物,它通过紫外线的照射后能够产生一种聚合反应(由单体合成聚合物的反应过程)形成一种稳定的物质附着于板面,从而达到阻挡电镀和蚀刻的功能。湿膜其缺点是精细度达不到干膜的的精细度,生产效率也比较慢。
发明内容
本发明的目的是提供一种水溶性感光干膜,该更易溶于水,提高了容膜量,同时本发明还提供该干膜的制备方法。
本发明的具体方案如下:一种水溶性感光干膜,包括如下重量百分比组分:
其中,酸酐改性丙烯酸树脂的固含量100%,粘度Z1-Z2,酸值100mgKOH/g;
改性丙烯酸树脂的固含量45%,粘度Z3-Z4,酸值60mgKOH/g,分子量107591-108590。
在上述的水溶性感光干膜中,包括如下重量百分比组分:
同时,本发明还公开一种如上述的水溶性感光干膜制备方法,所述的方法为:将除丙酮、甲醇外的所有原料加入到反应釜中,再依次加入甲醇,丙酮,进入反应釜,均速搅拌5-7小时,静置1.5-2.5小时。
本发明相对于现有技术具有如下的优点及效果:
本发明对干膜显影时的容膜量大大的增加。干膜在显影时会将未曝光部分去除,其药膜会溶解在显影液内,但浓度会达到一定要求就要换显影液。此发明对药膜更易溶于水,提高了容膜量。
具体实施方式
下面结合实施例,对本发明作进一步的描述,但不构成对本发明的任何限制,任何在本发明权利要求范围所做的有限次的修改,仍在本发明的权利要求范围内。
实施例1
一种水溶性感光干膜中,包括如下重量百分比组分:
其中,酸酐改性丙烯酸树脂的固含量100%,粘度Z1-Z2,酸值100mgKOH/g;
改性丙烯酸树脂的固含量45%,粘度Z3-Z4,酸值60mgKOH/g,分子量107591-108590。
其制备方法为:将除丙酮、甲醇外的所有原料加入到反应釜中,再依次加入甲醇,丙酮,进入反应釜,均速搅拌5-7小时,静置1.5-2.5小时。
实施例2
一种水溶性感光干膜中,包括如下重量百分比组分:
其中,酸酐改性丙烯酸树脂的固含量100%,粘度Z1-Z2,酸值100mgKOH/g;
改性丙烯酸树脂的固含量45%,粘度Z3-Z4,酸值60mgKOH/g,分子量107591-108590。
其制备方法为:将除丙酮、甲醇外的所有原料加入到反应釜中,再依次加入甲醇,丙酮,进入反应釜,均速搅拌5-7小时,静置1.5-2.5小时,温度为80-120℃
实施例3
一种水溶性感光干膜中,包括如下重量百分比组分:
其中,酸酐改性丙烯酸树脂的固含量100%,粘度Z1-Z2,酸值100mgKOH/g;
改性丙烯酸树脂的固含量45%,粘度Z3-Z4,酸值60mgKOH/g,分子量107591-108590。
其制备方法为:将除丙酮、甲醇外的所有原料加入到反应釜中,再依次加入甲醇,丙酮,进入反应釜,均速搅拌5-7小时,静置1.5-2.5小时,温度为80-120℃。
本发明实施例1-3的干膜在干膜显影时的容膜量大大的增加。干膜在显影时会将未曝光部分去除,其药膜会溶解在显影液内,但浓度会达到一定要求就要换显影液。此发明对药膜更易溶于水,提高了容膜量
上述实施例为本发明较佳的实施方式,但本发明的实施方式并不受上述实施例的限制,其它的任何未背离本发明的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化,均应为等效的置换方式,都包含在本发明的保护范围之内。
Claims (3)
1.一种水溶性感光干膜,其特征在于,包括如下重量百分比组分:
其中,酸酐改性丙烯酸树脂的固含量100%,粘度Z1-Z2,酸值100mgKOH/g;
改性丙烯酸树脂的固含量45%,粘度Z3-Z4,酸值60mgKOH/g,分子量107591-108590。
2.根据权利要求1所述的水溶性感光干膜,其特征在于,包括如下重量百分比组分:
3.一种如权利要求1或2所述的水溶性感光干膜制备方法,其特征在于,所述的方法为:将除丙酮、甲醇外的所有原料加入到反应釜中,再依次加入甲醇,丙酮,进入反应釜,均速搅拌5-7小时,静置1.5-2.5小时,反应温度140℃。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810876497.1A CN108983550A (zh) | 2018-08-03 | 2018-08-03 | 一种水溶性感光干膜及其制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810876497.1A CN108983550A (zh) | 2018-08-03 | 2018-08-03 | 一种水溶性感光干膜及其制备方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN108983550A true CN108983550A (zh) | 2018-12-11 |
Family
ID=64555206
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201810876497.1A Pending CN108983550A (zh) | 2018-08-03 | 2018-08-03 | 一种水溶性感光干膜及其制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN108983550A (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114456425A (zh) * | 2021-12-23 | 2022-05-10 | 河源诚展科技有限公司 | 一种感光干膜及其制备方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1545643A (zh) * | 2001-08-21 | 2004-11-10 | �������⻯ѧƷ�ع�����˾ | 红移单-和双-酰基氧化膦和硫化膦及其作为光引发剂的应用 |
JP2006268014A (ja) * | 2005-02-05 | 2006-10-05 | Eternal Chemical Co Ltd | ハロゲンフリードライフィルム感光性樹脂組成物 |
CN101718953A (zh) * | 2008-10-09 | 2010-06-02 | 北京印刷学院 | 一种制作射频识别(rfid)标签天线的紫外光固化银导电浆料 |
CN101952269A (zh) * | 2007-10-10 | 2011-01-19 | 巴斯夫欧洲公司 | 锍盐引发剂 |
CN105938296A (zh) * | 2015-03-04 | 2016-09-14 | 太阳油墨制造株式会社 | 抗蚀剂组合物和干膜 |
CN105938297A (zh) * | 2015-03-04 | 2016-09-14 | 太阳油墨制造株式会社 | 抗蚀剂组合物和干膜 |
US20160313642A1 (en) * | 2015-04-21 | 2016-10-27 | Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. | Photosensitive polyimide compositions |
CN106867373A (zh) * | 2017-03-28 | 2017-06-20 | 惠州市潮新科数字器材科技有限公司 | Uv感光胶组合物及其在免电化学处理ctp版中的应用 |
-
2018
- 2018-08-03 CN CN201810876497.1A patent/CN108983550A/zh active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1545643A (zh) * | 2001-08-21 | 2004-11-10 | �������⻯ѧƷ�ع�����˾ | 红移单-和双-酰基氧化膦和硫化膦及其作为光引发剂的应用 |
JP2006268014A (ja) * | 2005-02-05 | 2006-10-05 | Eternal Chemical Co Ltd | ハロゲンフリードライフィルム感光性樹脂組成物 |
CN101952269A (zh) * | 2007-10-10 | 2011-01-19 | 巴斯夫欧洲公司 | 锍盐引发剂 |
CN101718953A (zh) * | 2008-10-09 | 2010-06-02 | 北京印刷学院 | 一种制作射频识别(rfid)标签天线的紫外光固化银导电浆料 |
CN105938296A (zh) * | 2015-03-04 | 2016-09-14 | 太阳油墨制造株式会社 | 抗蚀剂组合物和干膜 |
CN105938297A (zh) * | 2015-03-04 | 2016-09-14 | 太阳油墨制造株式会社 | 抗蚀剂组合物和干膜 |
US20160313642A1 (en) * | 2015-04-21 | 2016-10-27 | Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. | Photosensitive polyimide compositions |
CN106867373A (zh) * | 2017-03-28 | 2017-06-20 | 惠州市潮新科数字器材科技有限公司 | Uv感光胶组合物及其在免电化学处理ctp版中的应用 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114456425A (zh) * | 2021-12-23 | 2022-05-10 | 河源诚展科技有限公司 | 一种感光干膜及其制备方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP3095778B1 (en) | Oxime ester fluorene compound, photopolymerization initiator comprising it, photoresist composition, uses of the photoresist composition | |
DE3687479T2 (de) | Verwendung von in alkalische milieu loeslichen silsesquioxanpolymeren in einem resist zur herstellung von electronischen teilen. | |
TW304235B (zh) | ||
CN103608396A (zh) | 树脂组合物 | |
CN107987244B (zh) | 一种水性光敏超分子聚氨酯树脂及其制备方法与应用 | |
CN108983550A (zh) | 一种水溶性感光干膜及其制备方法 | |
JPWO2019150966A1 (ja) | レジスト組成物およびレジスト膜 | |
CN103717630A (zh) | 树脂组合物 | |
CN110885633A (zh) | 一种自由基光固化离型膜及其制备方法 | |
CN103881031B (zh) | 一种光固化涂料专用有机硅树脂及其制备工艺 | |
US9523916B2 (en) | Photoresist and methods of preparing and using the same | |
TW574628B (en) | High resolution positive acting dry film photoresist | |
JPH02118575A (ja) | 光二量化性重合体組成物、その製造方法およびスクリーン印刷用フォトステンシル | |
JP2021504537A (ja) | 官能化された部分加水分解ポリ酢酸ビニルを製造する方法 | |
CN109134710B (zh) | 一种芳基硫鎓盐肟酯类光引发剂及其合成与应用 | |
US20150370168A1 (en) | Negative photoresist and methods of preparing and using the same | |
US8288580B2 (en) | Benzophenone compound | |
JPS5825683B2 (ja) | コウカキヨウセイジユウゴウタイノ セイゾウホウホウ | |
JP6741854B2 (ja) | 新規カチオン型光開始剤、並びにその製造方法及び使用 | |
JP6680292B2 (ja) | 重合体およびポジ型レジスト組成物、並びに、レジストパターン形成方法 | |
CN110003365B (zh) | 一种大分子光引发剂及其制备方法 | |
KR102281050B1 (ko) | 평탄화막용 또는 마이크로렌즈용 수지 조성물 | |
CN108291007B (zh) | 树脂组合物 | |
CN107765510B (zh) | 一种9-苯基吖啶大分子类光敏剂及其制备方法和应用 | |
JPS6210642A (ja) | 感光性樹脂組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20181211 |
|
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |