CN108966658A - 沉积设备、真空系统、及操作沉积设备的方法 - Google Patents
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Abstract
本公开内容提供一种用于真空沉积工艺的沉积设备(100)。沉积设备包括真空腔室(130)；可移动沉积源(110)，布置于真空腔室中；及供应布置(120)，提供用于数个媒介供应线的供应通道，这些媒介供应线用于可移动沉积源，其中供应布置包括轴向可偏转元件(122)。
Description
技术领域
本公开内容的实施方式涉及数种用以沉积一或多层于基板上的沉积设备，特别是用以沉积包括数个有机材料于其中的数层于基板上的沉积设备。特别是，本公开内容的实施方式涉及一种用以于真空腔室中沉积已蒸发材料于基板上的材料沉积设备。实施方式进一步涉及数种真空沉积系统及数种操作沉积设备的方法，特别是用于有机发光二极管(OLED)制造。
背景技术
有机沉积设备涉及用于制造有机发光二极管(organic light-emitting diodes，OLED)的工具。OLEDs为发光二极管的一种特定类型，在OLEDs中，发光层包括特定的有机化合物的薄膜。有机发光二极管(OLEDs)被用来制造电视屏幕、计算机显示器、移动电话、用以显示信息的其他手持装置等。OLEDs亦可用于一般空间照明。OLED显示器的可行的颜色、亮度、及可视角度(viewing angle)的范围大于传统的液晶显示器(LCD)的可行的颜色、亮度、及可视角度的范围，因为OLED像素系直接地发光且不包含背光。因此，相较于传统之LCD的能量损耗，OLED显示器的能量损耗相当少。
OLED装置的制造通常包含用以涂布基板的沉积源。通常，当沉积源相对于基板移动时，已蒸发材料可导引朝向基板。
在操作期间，通常向沉积源供应有供应媒介。然而，当沉积源在沉积期间沿着源传送路径移动时，供应沉积源供应媒介可面临挑战。举例来说，媒介供应线可能因源的运动受到损坏，且可能有媒介供应中断的风险。中断或损害媒介供应可能致使系统停机(downtime)。
因此，减少沉积工艺中断的风险及沉积设备的停机会为有利的。特别是，为沉积设备提供具有可靠地供应有供应媒介的沉积源会为有利的。
发明内容
鉴于上述，提供一种沉积设备、一种真空系统、及一种操作沉积设备的方法。本公开内容的其他方面、优点、及特征将从权利要求书、描述、及所附图式得以显见。
根据本公开内容的一方面，提供一种用于真空沉积工艺的沉积设备。沉积设备包括真空腔室；可移动沉积源，布置于真空腔室中；及供应布置，所述供应布置提供用于数个媒介供应线的供应通道，这些媒介供应线用于可移动沉积源，其中供应布置包括轴向可偏转元件。
根据本公开内容的另一方面，提供一种真空系统。真空系统包括根据本文所述任何实施方式的沉积设备；及第二真空腔室，相邻于沉积设备的真空腔室布置，其中沉积设备的供应布置至少部分地从真空腔室向外延伸至一空间，此空间相邻于第二真空腔室。
根据本公开内容的其他方面，提供一种操作沉积设备的方法。此方法包括于真空腔室中移动可移动沉积源；及经由数个媒介供应线供应可移动沉积源，这些媒介供应线延伸通过供应布置的供应通道，其中供应布置包括轴向可偏转元件。
附图说明
以上简要概述的本公开内容的上述详述特征可以被详细理解的方式，以及本公开内容的更特定描述可以通过参照实施方式来获得。所附图式涉及本公开内容的数个实施方式且描述于下方：
图1a及1b示意性示出根据本文所述实施方式的沉积设备的截面图；
图2示意性示出根据本文所述实施方式的沉积设备的截面图；
图3示意性示出根据本文所述实施方式的沉积设备的截面图；
图4示意性示出根据本文所述实施方式的真空系统俯视图；
图5示意性示出根据本文所述实施方式的真空系统的侧视图；以及
图6示出根据本文所述实施方式的图示了操作沉积设备的方法的图式。
具体实施方式
现将详细参照本公开内容的实施方式，实施方式中的一或多个实例绘示于图式中。在关于图式的以下说明中，相同的附图标号意指相同的元件。一般来说，仅对相关于个别实施方式的不同之处进行描述。各实例以阐明本公开内容的方式而提供且不意欲对本公开内容的限制。再者，作为实施方式的部分而说明或描述的特征可用于其他实施方式或与其他实施方式结合，以产生另外的实施方式。本描述意在包括这些调整及变化。
图1a及图1b示出用于真空沉积工艺的沉积设备100示意性截面图。
沉积设备100包括真空腔室130。特别是，真空腔室130经构造以用于真空沉积且举例而言，可为涂布腔室或处理腔室。如本文所使用的术语“真空”可理解为具有少于例如是10mbar的真空压力的技术真空的含义。如图1a图及图1b图中示例性绘示出的，沉积设备100包括可移动沉积源110。可移动沉积源110可为经构造以用于提供待沉积于基板上的材料之源的装置或组件。特别是，可移动沉积源110可为蒸发源，蒸发源经构造以导引已蒸发材料朝向基板。举例来说，可移动沉积源110可经构造以用有机材料涂布基板。为了本公开内容的目的，可移动沉积源110可亦理解为可移动消耗者，可移动沉积源消耗供应至可移动沉积源的供应媒介。
根据本文所述的实施方式的沉积设备可使用于在大面积基板上的显示器制造。大面积基板或支撑大面积基板的载体可具有至少0.174m2的尺寸，支撑大面积基板的载体也就是大面积载体。通常，载体的尺寸可为约1.4m2至约8m2，更典型地为约2m2至约9m2或甚至达12m2。
如图1a及图1b中示例性示出的，可移动沉积源110可布置于沉积设备100的真空腔室130的内侧。真空腔室130适于维持真空腔室容积170的内侧的真空。大气环境180，例如具有约1bar的大气压力的大气环境，可围绕真空腔室。可移动沉积源110可在真空腔室130中于第一方向150中为可移动的。举例来说，可移动沉积源110可沿着设置于真空腔室130中的轨道为可移动的。于一些实施方式中，可移动沉积源110可沿着线性路径为可移动的，也就是源运动可为直线平移运动。
于图1a中，可移动沉积源110位于第一位置。可移动沉积源110可在真空腔室130中沿着源传送路径为可移动的，例如是在沉积腔室或处理腔室中沿着源传送路径为可移动的。当可移动沉积源110沿着源传送路径(例如，在第一位置及第二位置之间)移动时，已蒸发材料可导引朝向一或多个基板。因此，源传送路径可在第一位置及第二位置之间延伸。
于一些实施方式中，源传送路径可具有一长度，例如0.5m或更多、特别地1m或更多，尤其是约2m的第一位置及第二位置之间的距离。传送路径的长度可为少于10m，例如少于8m，少于5m或少于3m。在由可移动沉积源110沉积期间，基板可为静止的。举例来说，利用移动的沉积源沉积材料于静止的基板上对大面积基板会为有利的，但不限于此。
于图1b中，可移动沉积源110已经从示例性示出于图1a中的第一位置移动至真空腔室130的第二位置。于一些实施方式中，可移动沉积源110的运动为沿着源传送路径从第一位置至第二位置的连续运动或步进式(step-wise)运动。在源运动期间，已蒸发材料可沉积于基板上，基板布置于真空腔室130中的沉积区域中。
于一些实施方式中，可提供用以沿着源传送路径移动可移动沉积源的源驱动器。源驱动器可包括经构造以用于在真空腔室中沿着轨道移动可移动沉积源的驱动单元。于一些实施方式中，可提供诸如磁性悬浮装置之类的固持装置，而用于在可移动沉积源的运动期间运载可移动沉积源的至少一部分的重量。由源驱动器产生的驱动力可减少且因摩擦而产生的粒子可减少。
根据本文所述的实施方式，沉积设备100包括供应布置120，如图1a图及图1b图中所示。供应布置120可被构造成馈通件(feed-through)，用以从真空腔室130的环境导引媒介供应线140通过真空腔室的壁至可移动沉积源110。供应布置120提供用于媒介供应线140的供应通道124给可移动沉积源110。举例来说，供应布置120形成用于媒介供应线140的供应通道124，媒介供应线140向沉积源供应诸如电力、冷却流体及/或信号的供应媒介。
供应通道124可为管状供应通道，也就是供应布置120可提供由管状元件围绕的通道至可移动沉积源110。特别是，根据本文所述的实施方式的供应布置120可向供应通道124提供可用于媒介供应线140的增加的空间。
举例来说，供应通道124可具有50mm或更多，特别是100mm或更多，尤其是约200mm或更多的直径。于一些实施方式中，用以布置媒介供应线的供应通道124的截面面积为50cm2，特别是100cm2或更多，尤其是300cm2或更多。
特别地，供应布置120的第一端可耦接至可移动沉积源110。供应布置120的供应通道124可延伸通过真空腔室130的壁。特别地，供应布置120可从可移动沉积源110延伸通过真空腔室130至大气环境180。于一些实施方式中，供应布置120的第二端耦接至真空腔室130的壁。于其他实施方式中，供应布置从真空腔室向外延伸至真空腔室的环境中。
于一些实施方式中，可移动沉积源110可包括壳件，例如是用以提供压力的壳件，此压力不同于真空腔室的主容积中的压力。壳件可为大气壳体，大气壳体经构造以用于提供大气压力于该大气壳体的内部容积中。媒介供应线140可导引通过供应通道而至壳件的内部容积中。因此，壳件可适于维持大气环境，例如是约1bar的大气压力。于一些实施方式中，供应通道124可连接壳件于提供于真空腔室130的外侧的大气压力。因此，供应通道124可提供壳件流体连接至真空腔室130的外侧的环境。
根据本文所述的实施方式，供应布置120包括轴向可偏转元件122。术语“轴向可偏转”元件可理解为沿着轴向可偏转元件的纵轴可偏转的元件，即可伸展和/或可收缩的元件。如图1a及图1b中所示例性示出，轴向可偏转元件122可在第一方向150中为可偏转的。轴向可偏转元件122的轴向尺寸可根据可移动沉积源110的位移改变。特别地，轴向可偏转元件122可在可移动沉积源110的运动方向中为可偏转的。也就是说，当可移动沉积源110移动时，轴向可偏转元件122可根据可移动沉积源110的运动而伸展或收缩。
如图1a及图1b中所示，媒介供应线140可穿过供应通道124而至可移动沉积源110。用于媒介供应线140的供应通道124可适应源的位置，使得可靠的供应布置可被提供。举例来说，一或多个功率缆线、一或多个通信缆线、一或多个冷却水供应线、用以提供冷却剂至沉积源的供应线向/或用以向沉积源供应功率的电流供应线可沿着供应通道延伸通过供应布置，但不限于此。再者，由于轴向可偏转元件122可在轴方向中延伸且偏转，根据本文所述的实施方式的供应布置120可特别地节省空间。
特别是，相较于使用关节臂(articulated arm)的供应布置，且关节臂具有提供弯曲部分的一或多个接头，根据本文所述实施方式的供应布置120可特别易于维护且节省空间。举例来说，轴向可偏转元件122可在线性方向中延伸，即没有接头或其他弯折的部分。空间需求可降低且可提供减低复杂性、易于维护的供应布置。再者，供应布置的质量及皮重(tare weight)可由包括轴向可偏转元件的供应布置减少。具有接头或关节杆的供应布置可在供应移动源时使用折叠运动。连接至移动源的杆的皮重可能在水平方向中供应力至沉积源上。可使用用以补偿所述力的装置。相较之下，如本文所述的向轴向可偏转元件提供供应布置可为有利的，因为依比例增加的沉积设备可轻易可行。此举可进一步减少所有权的成本。
于图1a中，可移动沉积源110可位在第一位置。当可移动沉积源110位在第一位置时，轴向可偏转元件122可为收缩状态。相较于伸展状态，收缩状态可为轴向可偏转元件122具有较小长度的状态。于图1b中，可移动沉积源110位在第二位置，轴向可偏转元件在第二位置中为伸展状态。
供应布置120可耦接至可移动沉积源110。特别地，轴向可偏转元件122的一端可耦接至可移动沉积源110。因此，于图1b中，相较于收缩状态，轴向可偏转元件122为具有较大长度的延展状态。由适用于可移动沉积源110的运动，轴向可偏转元件122已经伸展。相应地，如果可移动沉积源110从第二位置移动到第一位置时，轴向可偏转元件122通过适应可移动沉积源110的运动而已经收缩。因此，轴向可偏转元件122的尺寸已经改变，即长度已经改变。举例来说，在伸展状态及收缩状态的间的轴向可偏转元件的长度差可为0.5m或更多、尤其是1m或更多，或甚至约2m或更多。
根据可与本文所述实施方式结合的一些实施方式，轴向可偏转元件122的轴，例如是纵轴，可于第一方向150中延伸。在可移动沉积源110的运动期间，媒介供应线140可导引通过供应通道124，而可减少媒介供应线140的扭结(kinks)、弯折、或破损。
根据可与本文所述实施方式结合的一些实施方式，轴向可偏转元件122可为伸缩接头。伸缩接头可根据施于伸缩接头上的外力伸展和/或收缩，例如是轴向力或运动。于一些实施方式中，伸缩接头可为包括金属的伸缩接头。金属的伸缩接头可为柔性金属管。举例来说，金属的伸缩接头可具有气密壁，用以维持内部容积中的第一压力及周围容积中的第二压力。
根据可与本文所述实施方式结合的一些实施方式，可偏转元件122可为波纹管(bellow)。波纹管可以气密材料制成，使得波纹管的内部容积可由波纹管的壁而与波纹管的外部密封。波纹管的内部容积中的第一压力可因此不同于真空腔室130的主容积中的第二压力。波纹管可为弹性元件或导管(vessel)，弹性元件或导管(vessel)可在外力供应于其上时伸展和/或收缩。波纹管可为在外力不再施加时回复到初始状态的波纹管。于一些实施方式中，波纹管可以金属或金属合金制成。
根据可与本文所述实施方式结合的一些实施方式，轴向可偏转元件122可为边缘焊接波纹管。边缘焊接波纹管，例如，可以通过将单个的金属膜片焊接在一起制成。
波纹管，例如可为线性可偏转的线性波纹管，使得波纹管线性伸展或收缩。波纹管可牢固地密封真空于大气及能够承受周期需求。波纹管可容易地提供多个源传送路径长度。举例而言，此举可减少所有权的成本。再者，沉积设备可提供大的源传送路径长度，例如用于大面积基板的沉积工艺。
根据可与本文所述实施方式结合的实施方式，轴向可偏转元件122可在第一方向中沿着轴延伸，及通过沿着轴伸展和/或收缩轴向可偏转元件122，例如通过提供伸展力或收缩力至轴向可偏转元件122，可改变于第一方向150中的轴向可偏转元件122的尺寸。举例来说，轴向可偏转元件122可为柔性元件或弹性元件。于一些实施方式中，轴向可偏转元件122为轴向可弯折元件。于一些实施方式中，轴向可偏转元件122可亦在侧向方向中偏转，例如是弯折或弯曲。
通常，轴向可偏转元件122经构造以密封地耦接至真空腔室130的壁和/或密封地耦接至可移动沉积源110。因此，媒介供应线140可设置于供应通道124的内侧。
根据可与本文所述其他实施方式结合的实施方式，供应布置120可经构造以用于从真空腔室的外侧的环境沿着供应通道124馈给媒介供应线140至可移动沉积源的壳件，特别是大气壳。大气壳可经构造以在设置于真空腔室的内侧时维持大气压力。大气壳可亦说明成大气壳体或大气箱，可容纳用以操作可移动沉积源的元件。举例来说，选自由开关、阀、控制器、冷却单元及冷却控制单元所组成的群组的至少一元件可设置于大气壳的内侧。通过提供冷却流体，冷却单元通常在操作期间冷却可移动沉积源110，冷却流体例如是水。控制单元可控制冷却流体的温度和/或可控制可移动沉积源110的温度。再者，一或多个控制器可设置于大气壳体中，用以控制沉积工艺的控制参数。鉴于此，供应通道124可提供增加的空间给媒介供应线140，因为供应布置120可容易地调整尺寸至可应用的尺寸，即通过选择轴向可偏转元件的直径。
于图1a及1b中，轴向可偏转元件的内部容积与大气环境180流体连通。本文所使用的术语“流体连通”可理解为两个容积之间的流体流动或交换。举例来说，一容积中的一参数的改变可能诱发另一容积中的对应改变，此参数例如是压力。
如本文所使用的术语“基板”可特别地包含实质上非柔性基板，例如是晶片、诸如蓝宝石或类似物的透明水晶片，或者玻璃板材。然而，本公开内容并不限于此，且术语“基板”可亦包含柔性基板，例如是卷材(web)或箔。举例来说，基板可由选自以下群组的材料制成，此群组由玻璃(举例为钠钙玻璃(soda-lime glass)、硼硅玻璃(borosilicate glass)等)、金属、聚合物、陶瓷、化合物材料、碳纤维材料或任何其他材料或可由沉积工艺进行涂布的材料的组合所组成。
根据本文所述的实施方式的可移动沉积源可包括坩锅及分布组件，坩锅经构造以蒸发待沉积的材料，分布组件经构造以用于导引已蒸发材料朝向基板。举例来说，用以沉积薄膜的有机材料可从坩锅经由分布组件导引通过分布组件的一或多个出口而朝向基板。分布组件可包括分布管。
根据可与本文所述实施方式结合的一些实施方式，媒介供应线可从可移动沉积源延伸通过供应通道124。媒介供应线140可包括下述的至少一或多者：冷却通道、电连接件、用以向可移动沉积源供应功率的缆线、用以向可移动沉积源供应信号号的缆线、用以导引感测信号的缆线、气体通道、及水通道。
图2示意性示出根据本文所述实施方式的沉积设备200。图2的沉积设备200可包括图1的沉积设备100的一些或全部特征，使得可参照上述说明而不于此重复。
特别地，沉积设备200包括可移动沉积源110及供应布置120，可移动沉积源110布置于真空腔室中，供应布置120经构造以用于向可移动沉积源110供应有供应媒介。
沉积设备200的供应布置120包括轴向可偏转元件122及刚性管元件210，刚性管元件210提供用于媒介供应线140的供应通道124。
于一些实施方式中，供应布置120可包括管元件。管元件例如，可为具有管形式的元件，例如是圆柱管或矩形管。管元件的内部容积可由管壁围绕。于一些实施方式中，管元件为刚性管元件210，如图2中示例性示出的。刚性管元件210可以刚性材料制成。如图2中示例性示出的，刚性管元件可为提供供应通道124的元件，例如是为供应通道124内部容积中的供应线提供供应通道的元件。刚性管元件210可提供形成供应通道124的内部容积。于图2中，刚性管元件210为线性管，例如是以金属制成的线性管。于其他实施方式中，刚性管元件可以其他材料制成，特别是气密材料。当刚性管元件由低于大气压的环境围绕时，刚性管元件的材料可经构造以维持刚性管元件的内部容积中的大气环境。
刚性管元件210的第一端可密封地耦接至可移动沉积源110，如图2中所示的。密封件可经构造以将围绕刚性管元件的真空环境与提供于刚性管元件210的内侧的大气环境阻隔。刚性管元件210可从可移动沉积源朝向真空腔室130的开口延伸，及可通过开口从真空腔室向外突出。
根据可与本文所述实施方式结合的一些实施方式，刚性管元件210可于第一方向150中通过真空腔室的壁中的开口线性延伸。刚性管元件可为非柔性元件，即，在施加力的情况下，例如在第一方向上施加力的情况，该元件为可收缩或延伸的。举例来说，刚性管元件可为中空金属管，以提供适合的刚性。
根据可与本文所述其他实施方式结合的实施方式，轴向可偏转元件122的第一端可密封地连接至从真空腔室130向外突出的刚性管元件210的一部分。轴向可偏转元件122的第二端可密封地连接至真空腔室130的壁。如图2中所示，轴向可偏转元件122的第一端可由第一耦接部分耦接至真空腔室130的壁。轴向可偏转元件122的第二端可由第二耦接部分耦接至刚性管元件210。第一及第二耦接部分可密封真空腔室130，以维护提供于真空腔室中的真空。
使用轴向可偏转元件作为真空腔室及从真空腔室向外突出的刚性管元件的一部分之间的密封元件可为有利的，因为可减少真空腔室的主容积中产生粒子及可改善沉积结果。
刚性管元件210可与可移动沉积源110为一起可移动的。由于可移动沉积源110与刚性管元件210的耦接之故，可移动沉积源110的线性平移可由刚性管元件210的线性平移完成。刚性管元件210与可移动沉积源110一起可为可移动的，例如是在第一方向150中为可移动的。因此，由于刚性管元件210耦接至轴向可偏转元件122之故，轴向可偏转元件122适应刚性管元件210的线性平移。举例来说，通过于第一方向150中线性平移可移动沉积源110，刚性管元件210跟随于第一方向150中的线性平移。因此，轴向可偏转元件122可在平移期间于第一方向150中压缩。类似地，轴向可偏转元件可在可移动沉积源于相反方向中平移期间伸展。
根据可与本文所述实施方式结合的一些实施方式，轴向可偏转元件122可围绕刚性管元件210。特别地，轴向可偏转元件122可包围刚性管元件的至少一区段。刚性管元件210的内部容积可与大气环境180流体连通。刚性管元件210及轴向可偏转元件122之间的周围容积可与真空腔室130的主容积流体连通。因此，连接至可移动沉积源110的刚性管元件210的内部容积可与可移动沉积源110的大气壳流体连通。
图3绘示根据本文所述实施方式的沉积设备300的示意图。图3中所示的沉积设备300可包括图2中所示的沉积设备200中的一些特征或全部特征，使得可参照上述说明而不于此重复。
特别地，沉积设备300包括可移动沉积源110及供应布置120，供应布置120提供供应通道124，供应通道124用以供应从真空腔室130的大气环境至沉积源的媒介供应线。供应布置120可类似于图2中所示的供应布置，使得可以参照上述说明。特别地，供应布置120可包括刚性管元件210及轴向可偏转元件122。刚性管元件210形成用于媒介供应线的供应通道。轴向可偏转元件122部分地围绕刚性管元件210。
特别地，轴向可偏转元件122可包括波纹管或另一伸缩接头，波纹管或另一伸缩接头具有第一端及第二端，第一端连接至从真空腔室向外突出的刚性管元件的一端，第二端连接至真空腔室的壁。特别地，轴向可偏转元件的第二端可连接至开口的边缘，开口提供于真空腔室的壁。
根据可与本文所述实施方式结合的一些实施方式，沉积设备300可包括驱动单元320，用以移动可移动沉积源110，如图3中示例性示出的。驱动单元320可经构造以沿着源传送路径移动可移动沉积源，特别是对应于第一方向150的线性方向中。于一些实施方式中，驱动单元320连接至供应布置或为供应布置的一部分。特别地，驱动单元320可耦接至供应布置120的一部分。供应布置120及可移动沉积源110可接着由驱动单元320一起平移或移动。
于一些实施方式中，驱动单元320可布置于真空腔室130的外侧，特别是耦接至从真空腔室向外突出的供应布置的一部分。驱动单元320可在大气条件下操作，而可允许使用一般的驱动单元。举例来说，驱动单元320可包括马达，例如是线性马达，马达经构造以用于移动刚性管元件。特别地，耐磨及低维护的驱动单元可设置于真空腔室的外侧，用以移动沉积源。再者，布置于真空腔室130的外侧的驱动单元320可更容易地提供功率及控制信号。驱动单元320可容易地取得。供应布置120可提供更多空间给供应线及供应布置120而可减少尺寸。
于可与本文所述实施方式结合的一些实施方式中，驱动单元320可耦接至从真空腔室向外突出的刚性管元件210的部分310。举例来说，刚性管元件210可包括驱动单元驱动的驱动部分或导引部分。举例来说，驱动部分可位于刚性管元件210的第一端，如图3中所示。刚性管元件210可输送驱动单元320提供的平移至可移动沉积源110。
于可与本文所述实施方式结合的一些实施方式中，刚性管元件210可被构造成传送元件，传送元件经构造以用于传送驱动单元320的驱动力至可移动沉积源110。举例来说，刚性管元件210可由马达移动。马达，例如是线性马达，可布置于真空腔室的外侧。
于一些实施方式中，沉积设备300可包括检修区域或维护区域，其中可关闭通道330可被提供于真空腔室及检修区域之间，如图3中示例性示出的。可关闭通道330可开启，以于真空腔室及检修区域之间移动沉积源。沉积源可传送至检修区域中，例如用于检修或维护。
根据本文所述的实施方式，用以供应沉积源的媒介供应线可经由供应通道导引离开真空腔室，且不经由检修区域。检修区域利用可关闭通道330连接至真空腔室。因此，可提供减少空间的检修区域。于一些实施方式中，提供包括真空腔室的沉积设备，甚至可以是可行的，其中没有用以检修沉积源的检修区域可提供而作为相邻于真空腔室的真空系统的可分离隔室。特别地，媒介供应线可从沉积源通过供应通道直接地馈给至真空系统的大气环境。当需要较小的检修区域或不需要任何检修区域作为相邻于沉积腔室的分离隔室时，沉积设备的外部尺寸可减少。再者，真空腔室及检修区域之间可不提供可关闭通道330。
于一些实施方式中，真空腔室可包括通道，可选地具有阀，用以开启及关闭真空腔室来接取及检修可移动沉积源，通道例如是检修门。举例来说，检修门可使用于下述的至少一者：交换沉积源的一部分、检修或维护媒介供应线供应的沉积源的任何装置、修理沉积源、和/或从排气的腔室外侧经由供应通道接取不易取得的媒介供应线的一部分。
根据本公开内容的另一方面，提供真空系统。
图4示出包括根据本文所述任何实施方式的沉积设备的真空系统400。沉积设备包括真空腔室130及可移动沉积源，可移动沉积源布置于真空腔室130中。真空系统400可进一步包括第二真空腔室440。第二真空腔室440可相邻于真空腔室130布置。可提供用以在真空腔室及第二真空腔室440之间移动一或多个基板的通道。特别地，待涂布的基板可从第二真空腔室通过通道被传送至真空腔室中，及已涂布的基板可从真空腔室被传送至第二真空腔室。第二真空腔室可举例为输送腔室、路由(routing)模块或旋转模块。
于图4中，可移动沉积源110包括分布管410，分布管410可为可旋转的。分布管410可沿着长度方向延伸，特别是在本质上垂直方向中延伸。分布管410可具有一或多个出口，以喷涂已蒸发材料412于基板420上。基板420的表面可于第一方向中延伸，举例而言，第一方向为源传送路径的方向。
图4示出可彼此相对地布置的两个基板。特别地，源传送路径可于此两个基板之间的区域中延伸。于一些实施方式中，用以遮蔽于基板上的层沉积的掩模可设置于基板及可移动沉积源110之间，举例而言，紧邻基板。可使分布管410旋转，例如从第一沉积区域旋转约180°至第二沉积区域，第一基板可布置于第一沉积区域，第二基板可布置于第二沉积区域。
由于刚性管元件连接至可移动沉积源110之故，当可移动沉积源110于第一方向150中线性移动时，刚性管元件210亦可于第一方向中线性移动。可移动沉积源110的线性运动可由传送轨道430导引，传送轨道430可于第一方向中延伸。因此，当可移动沉积源110移动时，设置于刚性管元件210的供应通道124中的媒介供应线140可供应可移动沉积源110。轴向可偏转元件122可在可移动沉积源110的运动期间偏转。再者，轴向可偏转元件可提供真空腔室的主容积及真空腔室130的环境之间的密封件。
真空系统400的第二真空腔室440可包括旋转装置442。特别地，第二真空腔室440可为旋转模块。旋转装置442可经构造以接收一或多个基板。旋转装置442可经构造以从第一定向改变所述一或多个基板的定向至第二定向。举例来说，定向可通过旋转基板420来改变，由附图标号444象征地绘示。当第三真空腔室未与第二真空腔室440对准，举例而言，诸如连接至闸阀450的第三真空腔室的情况时，改变定向可为有用的。基板420可接着旋转约90°，以传送基板至第三真空腔室。
于可与本文所述实施方式结合的一些实施方式中，沉积设备100的供应布置120至少部分地延伸至真空腔室130外。举例来说，供应布置120，特别是刚性管元件210，可在连接至第二真空腔室的真空腔室的一侧上从真空腔室向外突出。
图5示出真空腔室400的示意性侧视图。供应布置120从真空腔室130向外延伸至相邻于第二真空腔室440的空间，特别是至低于第二真空腔室440的空间。特别地，低于第二真空腔室440的空间可为大气环境中的空间。因此，驱动单元320可布置于低于第二真空腔室440的空间中。
于一些实施方式中，根据本文所述任何实施方式的第二沉积设备可相邻于第二真空腔室440布置。特别地，第二沉积设备可布置于第二真空腔室440相对于第一沉积设备的相对侧。
第二沉积设备可包括第二供应布置，第二供应布置可根据本文所述的任何沉积设备的供应布置来构造。特别地，第二供应布置可包括刚性管元件，刚性管元件形成用于媒介供应线的供应通道，媒介供应线用于第二沉积设备的第二沉积源。再者，第二供应布置可包括轴向可偏转元件，轴向可偏转元件可至少部分地围绕刚性管元件及可为可沿着刚性管元件的轴为可压缩的及可收缩的。第二供应布置的刚性管元件可布置成平行于第一沉积源的供应布置的刚性管元件，例如于上述刚性管元件之间具有偏移，使得这些刚性管元件不在从各自的真空腔室向外突出时彼此阻扰。因此，供应布置及第二供应布置皆可于第一方向150中为可移动的，特别是平行于彼此为可移动的。
于一些实施方式中，供应布置和/或第二供应布置可延伸至相邻于第二真空腔室440的空间中，特别是延伸至低于第二真空腔室440的空间中。当操作沉积设备，例如当移动可移动沉积源和/或第二沉积源时，这些供应布置可彼此相邻而移动至低于第二真空腔室440的空间中。此布置可节省空间及真空系统400的占地面积可减少。
如图5中所示，可移动沉积源110可具有上区段510及下区段520。下区段520可包括源搬运车(cart)，源搬运车可与源传送路径的源轨道接触。上区段510可包括一或多个分布管，例如是分布管410。上区段及下区段的任一者可包括大气壳件或大气壳，至少一些媒介供应线经由供应通道导引至大气壳件或大气壳中。下区段520可连接至供应布置120，特别是连接至刚性管元件210。再者，下区段520可与传送轨道430接触。
上区段510可拆卸地连接至下区段520，例如由对接口530可拆卸地连接。于一些实施方式中，上区段510包括分布管410。分布管可相对于下区段520为可旋转的。对接口530可为耦接上区段510及下区段520的连接口。对接口530亦可描述成多重耦接件(multi-coupling)，对接口530可利用来移除可移动沉积源110的上区段510，例如是用以维护，及连接另一上区段510于下区段。换而言之，沉积源的上区段可交换。
根据本公开内容的其他方面，提供操作沉积设备100的方法。
图6图示了操作沉积设备100的方法的图式。此方法包括于真空腔室130中移动可移动沉积源110(方块610)。此方法进一步包括经由媒介供应线140向可移动沉积源110供应有供应媒介。媒介供应线可延伸通过供应布置120的供应通道124，供应布置120包括轴向可偏转元件122(方块620)。特别地，当可移动沉积源110于第一方向中线性移动时，轴向可偏转元件122可轴向收缩及伸展。供应布置120可包括本文所述任何沉积设备的任何供应布置的一些特征或全部特征，使得可以参照上述实施方式。
移动可移动沉积源110可进一步包括由驱动单元驱动可移动沉积源110，驱动单元耦接至供应布置120的一部分。
驱动单元可布置于真空腔室130的外侧。驱动单元320可耦接至供应布置120的刚性管元件210，刚性管元件210突出于真空腔室130的外侧。
虽然前述针对本公开内容的实施方式，但在不背离本发明的范围情况下可设计本公开内容的其他或进一步的实施方式，且本发明的范围由随附的权利要求书来确定。
Claims (15)
1.一种用于真空沉积工艺的沉积设备(100)，所述沉积设备包括：
真空腔室(130)；
可移动沉积源(110)，布置于所述真空腔室中；和
供应布置(120)，所述供应布置提供用于数个媒介供应线的供应通道(124)，所述数个媒介供应线用于所述可移动沉积源；
其中所述供应布置包括轴向可偏转元件(122)。
2.如权利要求1所述的沉积设备，其中所述轴向可偏转元件(122)为伸缩接头，特别地为波纹管，尤其是边缘焊接波纹管。
3.如权利要求1或2所述的沉积设备，其中所述可移动沉积源(110)于第一方向(150)中为线性可移动的，且其中所述轴向可偏转元件(122)的轴于所述第一方向中延伸。
4.如前述权利要求任一项所述的沉积设备，其中所述供应布置(120)经构造以用于使所述媒介供应线从所述真空腔室的外侧环境沿着所述供应通道通过而至所述可移动沉积源(110)的大气壳。
5.如权利要求1至4任一项所述的沉积设备，进一步包括从所述可移动沉积源(110)延伸通过所述供应通道(124)的所述媒介供应线(140)，其中所述媒介供应线包括下述的至少一或多者：冷却通道、电连接件、用以向所述可移动沉积源供应功率的缆线、用以向所述可移动沉积源供应信号的缆线、用以导引数个感测信号的缆线、气体通道、及水通道。
6.如权利要求1至5任一项所述的沉积设备，其中所述供应布置(120)进一步包括刚性管元件(210)，及其中所述刚性管元件的内部容积形成所述供应通道。
7.如权利要求6所述的沉积设备，其中所述刚性管元件(210)于第一方向(150)中线性延伸通过所述真空腔室(130)的壁中的开口。
8.如权利要求7所述的沉积设备，其中所述轴向可偏转元件的第一端被密封地连接至从所述真空腔室(130)向外突出的所述刚性管元件(210)的一部分和/或其中所述轴向可偏转元件的第二端被密封地连接至所述真空腔室的所述壁。
9.如权利要求6至8任一项所述的沉积设备，其中所述轴向可偏转元件(122)围绕所述刚性管元件(210)，其中所述刚性管元件的所述内部容积与大气环境流体连通，及其中所述刚性管元件及所述轴向可偏转元件之间的周围容积与所述真空腔室的主容积流体连通。
10.如权利要求1至9任一项所述的沉积设备，其中用以移动所述可移动沉积源(110)的驱动单元耦接至所述供应布置(120)的一部分，特别地耦接至从所述真空腔室向外突出的刚性管元件(210)的一部分。
11.如权利要求10所述的沉积设备，其中刚性管元件(210)被构造成传送元件，所述传送元件经构造以用于将所述驱动单元的驱动力传送至所述可移动沉积源，所述驱动单元布置于所述真空腔室的外侧。
12.一种真空系统，包括：
如前述权利要求任一项所述的沉积设备(100)；和
第二真空腔室，相邻于所述沉积设备的所述真空腔室布置，其中所述沉积设备的所述供应布置(120)至少部分地延伸至所述真空腔室外而至一空间，所述空间相邻于所述第二真空腔室。
13.一种操作沉积设备的方法，包括：
于真空腔室中移动可移动沉积源(110)；和
经由数个媒介供应线(140)供应所述可移动沉积源，所述媒介供应线延伸通过供应布置(120)的供应通道(124)；
其中所述供应布置包括轴向可偏转元件(122)。
14.如权利要求13所述的方法，其中当所述可移动沉积源于第一方向中线性移动时，所述轴向可偏转元件(122)于所述第一方向中收缩或伸展。
15.如权利要求13至14任一项所述的方法，其中移动所述可移动沉积源(110)包括由驱动单元驱动所述可移动沉积源，所述驱动单元布置于所述真空腔室的外侧并耦接至所述供应布置的一部分，特别地耦接至从所述真空腔室向外突出的所述供应布置的刚性管元件(210)。
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