CN108957867A - 显示面板及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本申请公开了一种显示面板及其制备方法，该制备方法包括提供一基板，基板包括显示区及非显示区；在基板的非显示区上形成衬垫层，所述衬垫层包括间隔设置的第一衬垫层及第二衬垫层，第一衬垫层的厚度大于第二衬垫层的厚度；在衬垫层上形成有机层；图形化有机层，以使得第一衬垫层上方对应的有机层的厚度大于或等于第二衬垫层上方对应的有机层的厚度。通过上述方式，本申请能够增大涂覆间隔物层后形成的第一间隔物及第二间隔物之间的段差。

Description

显示面板及其制备方法
技术领域
本申请涉及显示技术领域，特别是涉及一种显示面板及其制备方法。
背景技术
BPS(Black Photo Spacer)技术是指整合常规液晶显示器(Liquid CrystalDisplay，LCD)制造中黑色光阻(Black Matrix，BM)和间隔物(Photo Spacer，PS)两道制程为一道，即用同一种黑色遮光树脂材料形成BM和PS结构。通常情况下，间隔物采用两段式的方式呈现，可以命名为主间隔物(Main PS)和次间隔物(Sub PS)，且在具体实施方式中，其绝对高度从大到小一般是Main PS>Sub PS>BM。
不同高度段差的结构可以通过半色调掩模板来控制其透过率得到，也可以利用BPS材料下不同厚度的载台衬垫来实现。目前主要有两种构架，其差异点主要在于下层衬垫和使用的彩色滤光膜后的覆盖层，
目前使用的PFA(Polymer Film on Array)有机薄膜材料流平性强，即平坦化能力强，下方衬垫段差易被降低抹平，且目前仅用在双层光阻堆叠制作Main PS，单层光阻衬垫制作SubPS的架构中。进一步，有机薄膜从溶液态成膜流平，经过曝光烘烤后，有明显的流平效果，降低其表面粗糙度。而一般地势较低处由于容易聚集涂敷材料，因而厚度一般更大。
发明内容
本申请提供一种显示面板及其制备方法，能够增大涂覆间隔物层后形成的第一间隔物及第二间隔物之间的段差。
为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种显示面板，所述制备方法包括：提供一基板，所述基板包括显示区及非显示区；在所述基板的非显示区上形成衬垫层，其中，所述衬垫层包括间隔设置的第一衬垫层及第二衬垫层，所述第一衬垫层的厚度大于所述第二衬垫层的厚度；在所述衬垫层上形成有机层；图形化所述有机层，以使得所述第一衬垫层上方对应的有机层的厚度大于或等于所述第二衬垫层上方对应的有机层的厚度；在所述有机层上涂覆间隔物层以形成第一间隔物及第二间隔物，所述第一间隔物包括所述第一衬垫及所述第一衬垫之上的所述有机层及所述间隔物层，所述第二间隔物包括所述第二衬垫及所述第二衬垫之上的所述有机层及所述间隔物层。
为解决上述技术问题，本申请采用的另一个技术方案是：提供一种显示面板，所述显示面板包括：基板，所述基板包括显示区及非显示区；衬垫层，形成于所述基板的非显示区，包括间隔设置的第一衬垫层及第二衬垫层，所述第一衬垫层的厚度大于所述第二衬垫层的厚度；有机层，形成于所述衬垫层上，且所述第一衬垫层上方对应的有机层的厚度大于或等于所述第二衬垫层上方对应的有机层的厚度；间隔物层，形成于所述有机层上，包括第一间隔物及第二间隔物，所述第一间隔物包括所述第一衬垫及所述第一衬垫之上的所述有机层及所述间隔物层，所述第二间隔物包括所述第二衬垫及所述第二衬垫之上的所述有机层及所述间隔物层。
本申请的有益效果是：提供一种显示面板及其制备方法，通过利用多透过率的掩膜板对有机层进行曝光图形化处理，进而改变非显示区中第一衬垫层及第二衬垫层上方有机层的厚度，从而最终影响涂覆间隔物层后形成的第一间隔物及第二间隔物所形成的段差。
附图说明
图1是本申请显示面板一实施方式的流程示意图；
图2是本申请显示面板第一实施方式的制备示意图；
图3是本申请有机层图形化一实施方式的示意图；
图4是本申请显示面板第二实施方式的制备示意图；
图5是本申请显示面板第一实施方式的结构示意图；
图6是本申请显示面板第二实施方式的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
请参阅图1，图1为本申请显示面板一实施方式的流程示意图，如图1所示，本申请中显示面板的具体制备包括如下步骤：
S10，提供一基板，基板包括显示区及非显示区。
请进一步结合图2，图2为本申请显示面板第一实施方式的制备示意图。在步骤S1中，首先提供一基板10，其中，基板10可以为透明材质，具体可以是玻璃、陶瓷基板或者透明塑料等任意形式的基板，此处本发明不做具体限定。且该基板10包括显示区A及非显示区B。
S11，在基板的非显示区上形成衬垫层，其中，衬垫层包括间隔设置的第一衬垫层及第二衬垫层，第一衬垫层的厚度大于第二衬垫层的厚度。
步骤S11具体可以分如下两种情况：
1.非显示区B中的第一衬垫层及第二衬垫层均为单层光阻；
2.非显示区B中的所述第一衬垫层由两种不同颜色的光阻堆叠而成，第二衬垫层为单层光阻。
结合图2，先就第一种情况进行详细描述：
在本实施例中，采用一道掩膜工艺在基板10的显示区A上形成光阻层11，在基板10的非显示区B形成衬垫层12，且该衬垫层12包括第一衬垫层121及第二衬垫层122。其中，第一衬垫层121及第二衬垫层122均为单层光阻。在具体实施方式中，第一衬垫层121的厚度大于第二衬垫层122的厚度。本实施例中，显示区A的光阻层11可以包括多个交替循环设置的红色光阻层、绿色光阻层以及蓝色光阻层。非显示区B中的第一衬垫层121及第二衬垫层122可以为红色光阻层、绿色光阻层以及蓝色光阻层中的一种，此处不做进一步限定。当然本实施例中的第一衬垫层121及第二衬垫层122均为蓝色光阻层。
当然，上述显示区A及非显示区B中的光阻层11及衬垫层12可以采用同一道掩膜生成，也可以采用不同的掩膜工艺生成，此处不做进一步限定。
S12，在衬垫层上形成有机层。
步骤S12中，同时在光阻层11及衬垫层12上形成一有机层13。该有机层13可以运用在TFT基板侧的聚合物有机薄膜(Polymer Film on Array，PFA)，且PFA目前仅作为平坦层有机薄膜。本实施例中的有机层13具体可以采用正性光敏材料或负性光敏材料中的一种。
S13，图形化有机层，以使得第一衬垫层上方对应的有机层的厚度大于或等于第二衬垫层上方对应的有机层的厚度。
步骤S13中，具体可以分为两种情况：
1.有机层(PFA)为正性光敏材料
本实施例中，当上述的有机层13采用正性的PFA时，图形化该有机层13时具体可以采用含0和100％以外光穿透率的特殊掩模板，当然本实施例中采用半色调掩模板C对有机层13进行曝光图形化处理，以此来控制不同区域的膜层厚度，从而影响最终形成的间隔物层中第一间隔物及第二间隔物的段差。如图2所示，第一衬底层121的厚度大于第二衬垫层122的厚度，此种情况下涂覆有机层13后，因有机层从溶液态成膜流平，经过曝光烘烤后，有明显的流平效果，降低表面粗糙度，往往会使得第二衬垫层122上方聚集的有机层的厚度要大于第一衬垫层121上方的有机层厚度，假设第一衬垫层121上方的有机层13的厚度为h1，第二衬垫层122上方的有机层13的厚度为h2，则图形化处理后得到h1>h2。故在本实施例中，采用半色调掩模板C对该有机层13进行图形化处理，光罩在通孔(Via)的位置设置为半色调掩模板C的透光率为100％(全透)，无遮挡。半色调掩模板C其余区域透光率的设置需要根据实际情况和实际需求来决定，以此来调节PFA(有机层13)在不同区域的厚度，从而使得第一衬垫121上方的有机层的厚度大于或等于第二衬垫层122上方有机层的厚度，从而形成与流平特性逆反的结果。
可选地，具体实施例中，可以具体设置半色调掩模板C对应第一衬垫层121处的透光率小于半色调掩模板C对应所述第二衬垫层处透光率，具体可以将该第一衬底层121处对应的掩模板的透光率设置为0％，第二衬底层122处对应的掩模板的透光率设置为20％，第一衬底层121处对应的掩模板及第二衬底层122处对应的掩模板的透光率差异，可以使得第一衬底层121处对应的有机层的厚度与第二衬底层122处对应有机层的厚度出现反转，前者大于后者即h1>h2，且该种情况下对后续形成的间隔物层中第一间隔物及第二间隔物来说，其段差是正向增大的。
2.有机层(PFA)为负性光敏材料
请结合图3，图3为本申请有机层图形化一实施方式的示意图，本实施例中，当上述的有机层13采用正性的PFA时，图形化该有机层13时具体可以采用灰色调掩模板D，和上述的正性光敏材料相反，该实施例中的灰色调掩模板D对应第一衬垫层121处的透光率大于灰色调掩模板D对应第二衬垫层122处透光率，具体可以将该第一衬底层121处对应的掩模板的透光率设置为100％，第二衬底层122处对应的掩模板的透光率设置为20％。和上述实施方式相同，第一衬底层121处对应的掩模板及第二衬底层122处对应的掩模板的透光率差异，可以使得第一衬底层121处对应的有机层的厚度与第二衬底层122处对应有机层的厚度出现反转，前者大于后者即h1>h2，且该种情况下对后续形成的间隔物层中第一间隔物及第二间隔物来说，其段差是正向增大的。
本实施例中，通过利用多透过率的掩膜板对有机层进行曝光图形化处理，进而改变非显示区中第一衬垫层121及第二衬垫层122上方有机层的厚度，从而最终影响涂覆间隔物层后形成的第一间隔物及第二间隔物所形成的段差。
S14，在有机层上涂覆间隔物层以形成第一间隔物及第二间隔物，第一间隔物包括第一衬垫层及第一衬垫层之上的有机层及间隔物层，第二间隔物包括第二衬垫层及第二衬垫层之上的有机层及间隔物层。
步骤S14中，在有机层上方涂覆间隔物层，其中该间隔物层14的制备优选采用BPS(BPS(Black Photo Spacer)技术，即在本发明提供的具体实施方式中采用同一道工艺制程形成黑色光阻(BM)和间隔物(PS)，本实施例中的间隔物层14可以采用黑色遮光树脂材料，最终形成第一间隔物E及第二间隔物F，且第一间隔物E包括第一衬垫层121及第一衬垫层121之上的有机层13及间隔物层14，第二间隔物F包括第二衬垫层122及第二衬垫层122之上的有机层13及间隔物层14。本实施例中，在涂覆间隔物层14时，其厚度可以相同，也可以不相同，但需要保证最终形成的第一间隔物E的厚度大于第二间隔物F的厚度，从而正向调节第一间隔物E及第二间隔物F之间的段差。
上述实施方式中，通过利用多透过率的掩膜板对有机层进行曝光图形化处理，进而改变非显示区中第一衬垫层及第二衬垫层上方有机层的厚度，从而增大涂覆间隔物层后形成的第一间隔物及第二间隔物之间的段差。
请参见图4，图4本申请显示面板第二实施方式的制备示意图，和第一实施方式的制备大致相同，不同之处在于本实施例中非显示区B中的第一衬垫层由两种不同颜色的光阻堆叠而成，第二衬垫层为单层光阻，且相同之处本实施例中不再赘述，下面结合图4进行简单描述：
在本实施例中，采用一道掩膜工艺在基板20的显示区A上形成光阻层21，在基板20的非显示区B形成衬垫层22，且该衬垫层22包括第一衬垫层221及第二衬垫层222。其中，第一衬垫层221的制备可以是现在基板20上先形成第一层光阻a，再在上述第一层光阻a上形成第二层光阻b。第一层光阻a及第二层光阻b可以为红色光阻层、绿色光阻层以及蓝色光阻层中的一种，且第一层光阻a及第二层光阻b的颜色可以相同，也可以为不同颜色的光阻层，此处不做进一步限定。其中，显示区A中的光阻层21可以包括多个交替循环设置的红色光阻层、绿色光阻层以及蓝色光阻层。
此外，本实施例中在衬垫层22上进一步形成有机层23及间隔物层24，以形成第一间隔物E及第二间隔物F。其中，对有机层及间隔物层的图形化处理和本申请显示面板第一实施方式类似，其详细过程即步骤可以参照本申请显示面板第一实施方式的具体描述，此处不再赘述。
上述实施方式中，通过利用多透过率的掩膜板对有机层进行曝光图形化处理，进而改变非显示区中第一衬垫层及第二衬垫层上方有机层的厚度，从而增大涂覆间隔物层后形成的第一间隔物及第二间隔物之间的段差。
请参阅图5，图5为本申请显示面板第一实施方式的结构示意图，如图所示，本申请中显示面板包括基板10、衬垫层12、有机层13以及间隔物层14。
其中，基板10包括显示区A及非显示区B。
衬垫层12形成于基板10的非显示区B，包括间隔设置的第一衬垫层121及第二衬垫层122，第一衬垫层121的厚度大于第二衬垫层122的厚度。本实施例中，第一衬垫层121及第二衬垫层122的制备方法详见上述显示面板制备方法第一实施方式的具体描述，此处不再赘述。进一步，还包括设置于基板10显示区A的光阻层11，包括多个交替循环设置的红色光阻层、绿色光阻层以及蓝色光阻层。非显示区B中的第一衬垫层121及第二衬垫层122可以为红色光阻层、绿色光阻层以及蓝色光阻层中的一种，此处不做进一步限定。
有机层13形成于衬垫层12上，且第一衬垫层121上方对应的有机层13的厚度大于或等于第二衬垫层122上方对应的有机层13的厚度。本实施例中，有机层13可以为正性光敏材料或负性光敏材料中的一种，且该有机层13的具体制备过程详见上述显示面板之本方法第一实施方式的具体描述，此处不再进一步赘述。
间隔物层14，形成于有机层13上，包括第一间隔物E及第二间隔物F，所述第一间隔物E包括第一衬垫层121及第一衬垫层121之上的有机层13及间隔物层14，第二间隔物F包括第二衬垫层122及第二衬垫层122之上的有机层13及间隔物层14。其中，第一间隔物E的厚度大于第二间隔物F的厚度。且本实施例中，间隔物层的形成可以采用同一种黑色遮光树脂材料形成黑色光阻层及间隔物层，也就是本领域技术人员所熟知的BPS结构，且该间隔物层14的厚度可以相同，也可以不相同，但其需要保证最终形成的第一间隔物E的厚度大于第二间隔物F的厚度，从而正向调节第一间隔物E及第二间隔物F之间的段差。且该间隔物层14的具体制备过程详见上述显示面板之本方法第一实施方式的具体描述，此处不再进一步赘述。
请参阅图6，图6为本申请显示面板第二实施方式的结构示意图，和本申请显示面板第一实施方式的结构大致相同，不同之处在于本实施例中，第一衬垫层由两种不同颜色的光阻堆叠而成，第二衬垫层为单层光阻，和第一实施方式相同之处不再赘述，如图6，描述如下：
本申请中显示面板包括基板20、衬垫层22、有机层23以及间隔物层24。
其中，基板20包括显示区A及非显示区B。
衬垫层22形成于基板20的非显示区B，包括间隔设置的第一衬垫层221及第二衬垫层222，第一衬垫层221的厚度大于第二衬垫层222的厚度。本实施例中，第一衬垫层221由两种不同颜色的光阻层堆叠而成，具体包括第一层光阻a及第二层光阻b，且第一层光阻a及第二层光阻b的颜色可以相同，也可以为不同颜色的光阻层，此处不做进一步限定。本实施例中，第一衬垫层221及第二衬垫层122的制备方法详见上述显示面板制备方法第二实施方式的具体描述，此处不再赘述。进一步，还包括设置于基板20显示区A的光阻层21。
有机层23形成于衬垫层22上，且第一衬垫层221上方对应的有机层23的厚度大于或等于第二衬垫层222上方对应的有机层23的厚度。本实施例中，有机层23可以为正性光敏材料或负性光敏材料重的一种，且该有机层23的具体制备过程详见上述显示面板之本方法第一实施方式的具体描述，此处不再进一步赘述。
间隔物层24，形成于有机层23上，包括第一间隔物E及第二间隔物F，所述第一间隔物E包括第一衬垫层221及第一衬垫层221之上的有机层23及间隔物层24，第二间隔物F包括第二衬垫层222及第二衬垫层222之上的有机层23及间隔物层24。其中，第一间隔物E的厚度大于第二间隔物F的厚度。且本实施例中，间隔物层可以采用黑色遮光树脂材料，且该间隔物层24的厚度可以相同，也可以不相同，但其需要保证最终形成的第一间隔物E的厚度大于第二间隔物F的厚度，从而正向调节第一间隔物E及第二间隔物F之间的段差。且该间隔物层24的具体制备过程详见上述显示面板之本方法第一实施方式的具体描述，此处不再进一步赘述。
上述实施方式中，通过改变非显示区中第一衬垫层及第二衬垫层上方有机层的厚度，从而增大涂覆间隔物层后形成的第一间隔物及第二间隔物之间的段差。
综上所述，本领域技术人员容易理解，本申请提供一种显示面板及其制备方法，通过利用多透过率的掩膜板对有机层进行曝光图形化处理，进而改变非显示区中第一衬垫层及第二衬垫层上方有机层的厚度，从而最终影响涂覆间隔物层后形成的第一间隔物及第二间隔物所形成的段差。
以上所述仅为本申请的实施方式，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：
提供一基板，所述基板包括显示区及非显示区；
在所述基板的非显示区上形成衬垫层，其中，所述衬垫层包括间隔设置的第一衬垫层及第二衬垫层，所述第一衬垫层的厚度大于所述第二衬垫层的厚度；
在所述衬垫层上形成有机层；
图形化所述有机层，以使得所述第一衬垫层上方对应的有机层的厚度大于或等于所述第二衬垫层上方对应的有机层的厚度；
在所述有机层上涂覆间隔物层，以形成第一间隔物及第二间隔物，所述第一间隔物包括所述第一衬垫层及所述第一衬垫层之上的所述有机层及所述间隔物层，所述第二间隔物包括所述第二衬垫层及所述第二衬垫层之上的所述有机层及所述间隔物层。
2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第一间隔物的厚度大于所述第二间隔物的厚度。
3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述有机层为正性光敏材料，所述图形化所述有机层采用半色调掩模板，其中，所述半色调掩模板对应所述第一衬垫层处的透光率小于所述半色调掩模板对应所述第二衬垫层处透光率。
4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述有机层为负性光敏材料，述图形化所述有机层采用灰色调掩模板，其中，所述灰色调掩模板对应所述第一衬垫层处的透光率大于所述灰色调掩模板对应所述第二衬垫层处透光率。
5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第一衬垫层由两种颜色不同的光阻堆叠而成，所述第二衬垫层为单层光阻。
6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第一衬垫及所述第二衬垫层均为单层光阻。
7.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括：
基板，所述基板包括显示区及非显示区；
衬垫层，形成于所述基板的非显示区，包括间隔设置的第一衬垫层及第二衬垫层，所述第一衬垫层的厚度大于所述第二衬垫层的厚度；
有机层，形成于所述衬垫层上，且所述第一衬垫层上方对应的有机层的厚度大于或等于所述第二衬垫层上方对应的有机层的厚度；
间隔物层，形成于所述有机层上，包括第一间隔物及第二间隔物，所述第一间隔物包括所述第一衬垫层及所述第一衬垫层之上的所述有机层及所述间隔物层，所述第二间隔物包括所述第二衬垫层及所述第二衬垫层之上的所述有机层及所述间隔物层。
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述第一间隔物的厚度大于所述第二间隔物的厚度。
9.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述第一衬垫层由两种颜色不同的光阻堆叠而成，所述第二衬垫层为单层光阻。
10.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述第一衬垫及所述第二衬垫层均为单层光阻。
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