CN108950484B - 蒸镀装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种蒸镀装置,用于对基板进行蒸镀。该蒸镀装置包括至少一个距离传感器、调节件、承载板以及触摸板;所述承载板,用于承载基板;触摸板,设置在基板上,触摸板与承载板相对间隔设置;至少一个距离传感器,用于测量承载板的水平度,得到第一水平度,至少一个距离传感器用于测量触摸板的水平度,得到第二水平度;调节件,用于根据第一水平度和第二水平度,调节承载板和/或触摸板的水平度,使承载板和触摸板之间的相对水平度处于预设相对水平度范围。该方案通过设置调节件,调节承载板和触摸板之间的相对水平度,使相对水平度处于预设相对水平度范围,可以提高有机电致发光器件的良品率。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,特别是涉及一种蒸镀装置。
背景技术
在显示技术领域中,由于有机电致发光器件(Organic Light-Emitting Diode,OLED)具有对比度高、功耗低以及可柔性显示等优点,因而,OLED成为显示技术领域中发展的重点。
在OLED的生产工艺中,采用蒸镀机对OLED进行真空蒸镀,是决定OLED品质的关键环节。在具体的蒸镀过程中,蒸镀机中的承载板用于承载掩膜版,OLED中的基板设置在掩膜版上,与掩膜版贴合。蒸镀机中的触摸板设置在该基板上,与基板直接接触。在此过程中,可能存在承载板和触摸板之间相对水平度不能满足预设相对水平度的要求,导致OLED的良品率降低的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种蒸镀装置,通过提高蒸镀装置中触摸板和承载板之间的相对水平度,提高了有机电致发光器件的良品率。
本发明实施例还提供了一种蒸镀装置,包括至少一个距离传感器、调节件、承载板以及触摸板;
所述承载板,用于承载所述基板;
所述触摸板,设置在所述基板上,所述触摸板与所述承载板相对间隔设置;
所述至少一个距离传感器,用于测量所述承载板的水平度,得到第一水平度,所述至少一个距离传感器用于测量所述触摸板的水平度,得到第二水平度;
所述调节件,用于根据所述第一水平度和所述第二水平度,调节所述承载板和/或所述触摸板的水平度,使所述承载板和所述触摸板之间的相对水平度处于预设相对水平度范围。
在一些实施例中,所述蒸镀装置包括腔体承载台和水平滑动件,所述水平滑动件设置在所述腔体承载台靠近所述触摸板的一侧,所述水平滑动件与所述距离传感器连接,用于控制所述距离传感器在水平方向上移动,使所述距离传感器测量所述承载板和所述触摸板的水平度。
在一些实施例中,所述蒸镀装置还包括伸缩件和磁板;
所述磁板通过所述伸缩件与所述腔体承载台连接,所述磁板设置在所述触摸板上,所述磁板上与所述触摸板四角相对的位置,设置有通孔;
所述距离传感器,通过所述通孔测量所述触摸板的水平度。
在一些实施例中,所述蒸镀装置还包括限位件,所述限位件设置在所述触摸板和所述磁板之间,所述限位件用于调节所述触摸板和所述磁板之间的相对距离。
在一些实施例中,所述水平滑动件包括水平滑动轨道。
在一些实施例中,所述蒸镀装置包括4组传感器组,所述4组传感器组分别设置在所述腔体承载台的四角;
每一所述传感器组包括2个所述距离传感器,位于同一所述传感器组的所述2个距离传感器,分别用于测量所述承载板一角和所述触摸板一角的水平度。
在一些实施例中,所述调节件包括第一调节杆,所述第一调节杆一端与所述承载板连接,另一端与所述距离传感器电性连接,所述第一调节杆用于根据所述距离传感器测得的第一水平度和第二水平度,调节所述承载板的水平度。
在一些实施例中,所述调节件还包括第二调节杆,所述第二调节杆一端与所述触摸板连接,另一端与所述距离传感器电性连接,所述第二调节杆用于根据所述距离传感器测得的第一水平度和第二水平度,调节所述触摸板的水平度。
在一些实施例中,所述第二调节杆为L型调节杆。
本发明实施例的蒸镀装置通过设置调节件,调节承载板和触摸板之间的相对水平度,使相对水平度处于预设相对水平度范围,提高了有机电致发光器件的良品率。
为让本发明的上述内容能更明显易懂,下文特举优选实施例,并配合所附图式,作详细说明如下:
附图说明
图1为本发明实施例提供的蒸镀装置的结构示意图。
图2为本发明实施例提供的蒸镀装置的另一结构示意图。
图3为本发明实施例提供的蒸镀装置的又一结构示意图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图式,用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语,例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本发明,而非用以限制本发明。
在图中,结构相似的单元是以相同标号表示。
在本文中提及“实施例”意味着,结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本发明的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例,也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是,本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。
本发明实施例提供了一种蒸镀装置,该蒸镀装置用于对有机电致发光器件进行蒸镀。请参照图1,图1为本发明实施例提供的蒸镀装置的结构示意图。如图1所示,该蒸镀装置1包括至少一个距离传感器11、调节件12、承载板13以及触摸板14。其中,承载板13和触摸板14相对间隔设置。在一些实施例中,承载板13用于承载基板,触摸板14设置在基板3上。在一些实施例中,如图1所示,承载板13用于承载掩膜版2,而掩膜版2上设置基板3,因此触摸板14与承载板13相对间隔设置。其中,基板3可以为氧化铟锡ITO玻璃基板。
上述至少一个距离传感器11可以为激光位移传感器、超声波距离传感器以及红外距离传感器等,在此不对距离传感器11的类型做具体限定。上述至少一个距离传感器11不仅用于测量承载板13的水平度,得到第一水平度,上述至少一个距离传感器11还用于测量触摸板14的水平度,得到第二水平度。以下进行详细说明:
在一些实施例中,结合图1和图2,蒸镀装置1包括腔体承载台15和4组传感器组M,该4组传感器组M分别设置在腔体承载台15的四角。每一传感器组M包括2个距离传感器11,如图1所示,每一传感器组M中的一个距离传感器11靠近腔体承载台15对应的一角,另一个距离传感器11远离腔体承载台15对应角。由于触摸板14的尺寸小于承载板13,因此靠近腔体承载台15对应角的距离传感器11,用于测量承载板13的对应角,远离腔体承载台15对应角的距离传感器11,用于测量触摸板14的对应角。即同一个传感器组中的2个距离传感器,分别用于测量承载板13一角和触摸板14一角的水平度。
在一些实施例中,如图1和图3所示,蒸镀装置1包括腔体承载台15和水平滑动件16。该水平滑动件16设置在腔体承载台15靠近触摸板14的一侧,水平滑动件16与距离传感器11连接,用于控制距离传感器11在水平方向上移动,使距离传感器11测量承载板13和触摸板14的水平度。其中,水平滑动件16可以为水平滑动轨道,也可以在腔体承载台15上设置凹槽和滑轨,使距离传感器11在凹槽内滑动。如图3所示,当距离传感器11移动至位置A、B、C、D时,距离传感器11测量承载板13四个角的水平度,再根据该承载板13四个角的水平度,计算得到第一水平度。当距离传感器11移动至位置E、F、G、H时,距离传感器11测量触摸板14四个角的水平度,再根据该触摸板14四个角的水平度,计算得到第二水平度。
在一些实施例中,如图1所示,蒸镀装置1还包括伸缩件17和磁板18。该磁板18设置在触摸板14上,并通过伸缩件17与腔体承载台15连接。其中,磁板18和触摸板14之间的间隔距离需要满足预设距离范围,因此伸缩件17具有伸缩的作用,可以控制磁板18和触摸板14之间的间隔距离。
当蒸镀装置1中设置了磁板18后,距离传感器11测量触摸板14的水平度时,会受到磁板18的干扰。比如,当距离传感器11为红外距离传感器时,距离传感器11发出的红外线受到磁板18的阻挡,会误对磁板18进行水平度测量。因此,在磁板18上与触摸板14四角相对的位置还设置有通孔181。这样该距离传感器11发送的红外线、超声波等将不会受到磁板18的阻碍,即通过通孔181可以提高触摸板14水平度测量的准确性。
需要说明的是,如图1所示,蒸镀装置1还包括限位件19,限位件19设置在触摸板14和磁板18之间,用于调节触摸板14和磁板18之间的相对距离。
调节件12,用于根据上述至少一个距离传感器11测得的第一水平度和第二水平度,调节承载板13和/或触摸板14的水平度,使承载板13和触摸板14之间的相对水平度处于预设相对水平度范围。
如图1所示,调节件12包括第一调节杆121,第一调节杆121一端与承载板13连接,另一端与距离传感器11电性连接,第一调节杆121用于根据距离传感器11测得的第一水平度和第二水平度,调节承载板13的水平度。
调节件12还包括第二调节杆122,第二调节杆122一端与触摸板14连接,另一端与距离传感器11电性连接,第二调节杆122用于根据距离传感器11测得的第一水平度和第二水平度,调节触摸板14的水平度。需要说明的是,由于触摸板14的尺寸小于承载板13,因此可以将第二调节杆122设置为L型调节杆。
需要说明的是,调节件12可以只包含第一调节杆121和第二调节杆122中的任意一种,也可以二者都包含。当调节件12只包含第一调节杆121或第二调节杆122时,可以通过控制对应的第一调节杆121或第二调节杆122,来调节承载板13和触摸板14之间的相对水平度。当调节件12包含第一调节杆121和第二调节杆122时,可以从二者中择一进行调节,也可以二者相互配合调节,在此不对调节的方式做具体限定。
本发明实施例的蒸镀装置通过设置调节件,调节承载板和触摸板之间的相对水平度,使相对水平度处于预设相对水平度范围,提高了有机电致发光器件的良品率。
综上所述,虽然本发明已以优选实施例揭露如上,但上述优选实施例并非用以限制本发明,本领域的普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,均可作各种更动与润饰,因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。
Claims (8)
1.一种蒸镀装置,用于对基板进行蒸镀,其特征在于,包括至少一个距离传感器、调节件、承载板以及触摸板;
所述承载板,用于承载所述基板;
所述触摸板,设置在所述基板上,所述触摸板与所述承载板相对间隔设置;
所述至少一个距离传感器,用于测量所述承载板的水平度,得到第一水平度,所述至少一个距离传感器用于测量所述触摸板的水平度,得到第二水平度;
所述调节件,用于根据所述第一水平度和所述第二水平度,调节所述承载板和/或所述触摸板的水平度,使所述承载板和所述触摸板之间的相对水平度处于预设相对水平度范围;
所述蒸镀装置包括腔体承载台和水平滑动件,所述水平滑动件设置在所述腔体承载台靠近所述触摸板的一侧,所述水平滑动件与所述距离传感器连接,用于控制所述距离传感器在水平方向上移动,使所述距离传感器测量所述承载板和所述触摸板的水平度。
2.根据权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述蒸镀装置还包括伸缩件和磁板;
所述磁板通过所述伸缩件与所述腔体承载台连接,所述磁板设置在所述触摸板上,所述磁板上与所述触摸板四角相对的位置,设置有通孔;
所述距离传感器,通过所述通孔测量所述触摸板的水平度。
3.根据权利要求2所述的蒸镀装置,其特征在于,所述蒸镀装置还包括限位件,所述限位件设置在所述触摸板和所述磁板之间,所述限位件用于调节所述触摸板和所述磁板之间的相对距离。
4.根据权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述水平滑动件包括水平滑动轨道。
5.根据权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述蒸镀装置包括4组传感器组,所述4组传感器组分别设置在所述腔体承载台的四角;
每一所述传感器组包括2个所述距离传感器,位于同一所述传感器组的所述2个距离传感器,分别用于测量所述承载板一角和所述触摸板一角的水平度。
6.根据权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述调节件包括第一调节杆,所述第一调节杆一端与所述承载板连接,另一端与所述距离传感器电性连接,所述第一调节杆用于根据所述距离传感器测得的第一水平度和第二水平度,调节所述承载板的水平度。
7.根据权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述调节件包括第二调节杆,所述第二调节杆一端与所述触摸板连接,另一端与所述距离传感器电性连接,所述第二调节杆用于根据所述距离传感器测得的第一水平度和第二水平度,调节所述触摸板的水平度。
8.根据权利要求7所述的蒸镀装置,其特征在于,所述第二调节杆为L型调节杆。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810735696.0A CN108950484B (zh) | 2018-07-06 | 2018-07-06 | 蒸镀装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810735696.0A CN108950484B (zh) | 2018-07-06 | 2018-07-06 | 蒸镀装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN108950484A CN108950484A (zh) | 2018-12-07 |
CN108950484B true CN108950484B (zh) | 2020-06-30 |
Family
ID=64484320
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201810735696.0A Active CN108950484B (zh) | 2018-07-06 | 2018-07-06 | 蒸镀装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN108950484B (zh) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109932666A (zh) * | 2019-03-28 | 2019-06-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 磁力测量治具及采用该治具进行磁力测量的方法 |
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CN106337164A (zh) * | 2015-07-08 | 2017-01-18 | 上海和辉光电有限公司 | 一种蒸镀装置 |
CN106637073A (zh) * | 2016-10-14 | 2017-05-10 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 真空蒸镀装置 |
CN208104523U (zh) * | 2018-05-04 | 2018-11-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 载台机构和蒸镀设备 |
-
2018
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Publication number | Publication date |
---|---|
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PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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