CN206300597U - 一种溅射缝隙测量工具、磁控溅射设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种溅射缝隙测量工具，用于磁控溅射设备，所述磁控溅射设备包括用于承载基板的基台，和设置于基台第一侧的、与所述基台平行设置的活动板，基台与活动板之间的距离为溅射缝隙，溅射缝隙测量工具包括：水平测试平台，进行测量时设置于所述基台上，且所述水平测试平台位于第一位置时，所述水平测试平台的第一边缘与基台的所述第一侧的边缘平齐；第一移动结构，用于控制所述水平测试平台向靠近所述活动板的方向移动，在所述水平测试平台移动到第二位置时，所述水平测试平台与活动板接触；距离测量结构，用于测量所述水平测试平台从所述第一位置到所述第二位置的移动距离。本实用新型还涉及一种磁控溅射设备。
Description
技术领域
本实用新型涉及液晶产品制作技术领域，尤其涉及一种溅射缝隙测量工具、磁控溅射设备。
背景技术
PVD(Physical Vapor Deposition-物理气相沉积)是在真空状态下进行磁控溅射的，玻璃在成膜的时候需要处在竖立状态下，此时，玻璃贴在石英板上面。设备腔体侧接有Floating Mask(活动板)，主要起到控制成膜形状，从而影响边缘成膜区域。成膜区域的调节主要是通过调节石英板与Floating Mask之间的距离来实现的，此距离即为Gap(缝隙)值，Gap值得好坏直接关系到玻璃成膜区域和均一性的好坏。
现在用于PVD Gap值测量和调整的工具主要使用塞尺，然而现在使用塞尺对Gap值进行调整有以下缺点：
(1)测量稳定性不够：石英板边缘的凸起部分会极大影响塞尺的水平放置程度，塞尺如果不能与石英板放置，则所测数值极有可能不准确。
(2)长时间使用以后，塞尺有可能出现弯曲，同样导致测量数值出现误差。
(3)一旦A、B数值(缝隙值中的竖直数值和水平数值)由于工艺需要进行修改，塞尺有可能出现量程不够使用的情况，则必须要更换新的塞尺才可以继续测量，增加成本。
(4)测试人员不同，则可能由于测试力度的不同而出现测量结果差异较大的问题。
实用新型内容
为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种溅射缝隙测量工具、磁控溅射设备，无需使用塞尺，所述水平测试平台从所述第一位置到所述第二位置的移动距离即为基台和与活动板之间的、在水平方向的距离，测量准确。
为了达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种溅射缝隙测量工具，用于磁控溅射设备，所述磁控溅射设备包括用于承载基板的基台，和设置于基台第一侧的、与所述基台平行设置的活动板，基台与活动板之间的距离为溅射缝隙，溅射缝隙测量工具包括：
水平测试平台，进行测量时设置于所述基台上，且所述水平测试平台位于第一位置时，所述水平测试平台的第一边缘与基台的所述第一侧的边缘平齐；
第一移动结构，用于控制所述水平测试平台向靠近所述活动板的方向移动，在所述水平测试平台移动到第二位置时，所述水平测试平台与活动板接触；
距离测量结构，用于测量所述水平测试平台从所述第一位置到所述第二位置的移动距离。
进一步的，所述第一移动结构包括测量时设置于基台上的底座，所述水平测试平台可移动的设置于所述底座上，所述距离测量结构包括设置于所述底座侧面的刻度，所述水平测试平台位于第一位置时，所述水平测试平台上与所述第一边缘相对设置的第二边缘对应的刻度值为0。
进一步的，所述第一移动结构还包括设置于所述水平测试平台侧面的水平转轮，设置于所述水平测试平台和所述底座之间的传动件，所述传动件在所述水平转轮的驱动下带动所述水平测试平台在水平方向上移动。
进一步的，所述底座包括设置所述水平测试平台的第一表面和与所述第一表面相背的第二表面，所述第二表面上设置有与所述基台的第一侧的凸起相对应的卡槽。
进一步的，还包括：
设置于所述水平测试平台的第一边缘的第一连接杆，其与所述水平测试平台相垂直设置；
移动的设置于所述第一连接杆上的贴片，所述贴片与所述水平测试平台平行设置；
第二移动结构，用于控制所述贴片沿着所述第一连接杆向靠近所述活动板方向移动，在所述贴片位于第三位置时，所述贴片与所述活动板接触；
所述距离测量结构还用于测量所述贴片位于所述第三位置时，所述贴片与所述水平能测试平台在竖直方向的距离。
进一步的，所述距离测量结构还包括设置于所述水平测试平台第一边缘的竖直测尺，所述竖直测尺与所述水平测试平台接触的一端的刻度值为0，所述竖直测尺的外侧面与所述水平测试平台的第一边缘对应的侧面位于同一平面；
与所述贴片连接的、与所述贴片同步移动的第二连接杆，所述第二连接杆与所述贴片在同一水平面，且所述第二连接杆与所述水平测试平台相平行设置，所述第二连接杆远离所述贴片的一端设有与所述竖直测尺相接触的连接部。
进一步的，所述第二移动结构还包括设置于所述第一连接杆上的竖直转轮，设置于所述第一连接杆和所述贴片之间的传动件，该传动件在所述竖直转轮的驱动下带动所述贴片移动。
进一步的，所述基台为矩形结构，所述水平测试平台为矩形结构。
本实用新型还提供一种磁控溅射设备，包括上述所述的溅射缝隙测量工具。
本实用新型的有益效果是：无需使用塞尺，所述水平测试平台从所述第一位置到所述第二位置的移动距离即为基台和与活动板之间的、在水平方向的距离，测量准确。
附图说明
图1表示本实用新型实施例中溅射缝隙测量工具结构示意图；
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的特征和原理进行详细说明，所举实施例仅用于解释本实用新型，并非以此限定本实用新型的保护范围。
如图1所示，本实施例提供一种溅射缝隙测量工具，用于磁控溅射设备，所述磁控溅射设备包括用于承载基板的基台10，和设置于基台10第一侧的、与所述基台10平行设置的活动板20，基台10与活动板20之间的距离为溅射缝隙，溅射缝隙测量工具包括：
水平测试平台1，进行测量时设置于所述基台10上，且所述水平测试平台1位于第一位置时，所述水平测试平台1的第一边缘与基台10的所述第一侧的边缘平齐；
第一移动结构，用于控制所述水平测试平台1向靠近所述活动板20的方向移动，在所述水平测试平台1移动到第二位置时，所述水平测试平台1与活动板20接触；
距离测量结构，用于测量所述水平测试平台1从所述第一位置到所述第二位置的移动距离。
无需使用塞尺，所述水平测试平台1从所述第一位置到所述第二位置的移动距离即为基台10和与活动板20之间的、在水平方向的距离，然后通过距离测量结构测量所述水平测试平台1从所述第一位置到所述第二位置的移动距离即可，测量准确，使用寿命长。
所述第一移动结构的具体结构形式可以有多种，只要实现控制所述水平测试平台1的移动即可，本实施例中，所述第一移动结构包括测量时设置于基台10上的底座2，所述水平测试平台1可移动的设置于所述底座2上，所述距离测量结构包括设置于所述底座2侧面的刻度(图1中的刻度21，图1中刻度的表示只是示意图，实际使用中，刻度21可以布满所述底座的整个侧面，以满足量程需要)，所述水平测试平台1位于第一位置时，所述水平测试平台1上与所述第一边缘相对设置的第二边缘对应的刻度值为0。
所述水平测试平台1可移动的设置于所述底座2上，所述底座2与所述水平测试平台1连接的表面为一水平面，保证所述水平测试平台1水平放置的稳定性。
本实施例中，所述距离测量结构包括设置于所述底座2侧面的刻度，所述水平测试平台1向靠近所述活动板20的方向移动，所述水平测试平台1移动到所述第二位置时与活动板20接触，此时只需直接读出所述水平测试平台1的所述第二边缘对应的刻度值即可，该刻度值即为所述水平测试平台1从所述第一位置到所述第二位置的移动距离，即基台10与活动板20之间的水平距离。
本实施例中，所述第一移动结构还包括设置于所述水平测试平台1侧面的水平转轮3，设置于所述水平测试平台1和所述底座2之间的传动件，所述传动件在所述水平转轮3的驱动下带动所述水平测试平台1在水平方向上移动。
所述传动件的具体结构形式可以有多种，本实施例中，所述传动件包括与所述水平转轮3咬合的传动轮，与所述传动轮连接的丝杠，所述丝杠与所底座2连接。
本实施例中，所述底座2包括设置所述水平测试平台1的第一表面和与所述第一表面相背的第二表面，所述第二表面上设置有与所述基台10的第一侧的凸起101相对应的卡槽。
所述卡槽的设置利于所述底座2平稳的设置于基台10上，保证所述底座2与所述水平测试平台1连接的表面的水平稳定性。
本实施例中，溅射缝隙测量工具还包括：
设置于所述水平测试平台1的第一边缘的第一连接杆6，其与所述水平测试平台1相垂直设置；
移动的设置于所述第一连接杆6上的贴片8，所述贴片8与所述水平测试平台1平行设置；
第二移动结构，用于控制所述贴片8沿着所述第一连接杆6向靠近所述活动板20方向移动，在所述贴片8位于第三位置时，所述贴片8与所述活动板20接触；
所述距离测量结构还用于测量所述贴片8位于所述第三位置时，所述贴片8与所述水平测试平台1在竖直方向的距离。
所述贴片8与所述水平测试平台1在竖直方向的距离即为基台10和与活动板20之间的、在竖直方向的距离，然后通过距离测量结构测量所述贴片8位于所述第三位置时，所述贴片8与所述水平能测试平台在竖直方向的距离即可，测量准确，使用寿命长。
本实施例中，所述距离测量结构还包括设置于所述水平测试平台1第一边缘的竖直测尺4，所述竖直测尺4与所述水平测试平台1接触的一端的刻度值为0，所述竖直测尺4的外侧面与所述水平测试平台1的第一边缘对应的侧面位于同一平面；
与所述贴片8连接的、与所述贴片8同步移动的第二连接杆5，所述第二连接杆5与所述贴片8在同一水平面，且所述第二连接杆5与所述水平测试平台1相平行设置，所述第二连接杆5远离所述贴片8的一端设有与所述竖直测尺4相接触的连接部51。
所述贴片8位于所述第三位置、即所述贴片8与活动板20接触时，所述连接部51对应的所述竖直测尺4上的刻度与所述水平测试平台1的上表面到基台10的距离之和即为溅射缝隙在竖直方向上的距离。
优选的，所述竖直测尺4与所述水平测试平台1接触的一端的刻度值为所述水平测试平台1设置竖直测尺4的表面到基台10之间的距离值，在测量所述活动板20与基台10之间的竖直方向的距离时，直接读取所述连接部51对应的竖直测尺4上的刻度值即可。
本实施例中，所述第二移动结构还包括设置于所述第一连接杆6上的竖直转轮7，设置于所述第一连接杆6和所述贴片8之间的传动件，该传动件在所述竖直转轮7的驱动下带动所述贴片8移动。
本实施例中，所述基台10为矩形结构，所述水平测试平台1为矩形结构。
采用本实施例溅射缝隙测量工具可以直接测量基台10与活动板20的竖直距离和水平距离，当溅射缝隙测量值与预设的溅射缝隙值不符，可以调节活动板20与基台10之间的位置。
也可以先将所述水平测试平台1移动预设距离，然后调节活动板20与所述水平测试平台1水平方向的距离使得活动板20与基台10接触，将贴片8移动到预设位置然后调节活动板20至与所述贴片8接触，以使得溅射缝隙为预设的数值，具体如下：
本实施例中基台10采用石英板，将溅射缝隙测量工具设置于基台10上，并且使得所述底座2上的卡槽与基台10上的凸起101相配合以保证溅射缝隙测量工具的稳定性，且保证所述水平测试平台1位于第一位置，即所述水平测试平台1上与所述第一边缘相对设置的第二边缘对应的刻度值为0，并且使得所述贴片8位于最低处；然后转动水平转轮3使得所述水平测试平台1水平移动至预设位置，转动竖直转轮7使得所述贴片8沿着竖直方向移动到预设位置；然后，移动所述活动板20，使得活动板20在水平方向与所述水平测试平台1接触，在竖直方向与所述贴片8接触，此时，所述活动板20与所述基台10之间的距离即为预设的溅射缝隙值。
本实施例溅射缝隙测量工具，采用面的贴合测量，保证测量数值准确性；极大的增加了工具的量程，解决了工具的量程问题；既可以对固定好的溅射缝隙进行测量，也可以现固定好数值，然后再根据数值固定活动板20的位置；充分考虑到基台10的形状，依据其形状设置了底座2，可以使溅射缝隙测量工具整体稳固的契合在石英板(本实施例中基台10为一石英板)表面，且保证了水平测试平台1的水平(所述底座2上的卡槽与基台10一侧的凸起101相配合)，这样可以使测量的过程更加稳固和精确，解决了测量的稳固性问题。
以上所述为本实用新型较佳实施例，需要说明的是，对于本领域普通技术人员来说，在不脱离本实用新型所述原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型保护范围。
Claims (9)
1.一种溅射缝隙测量工具，用于磁控溅射设备，所述磁控溅射设备包括用于承载基板的基台，和设置于基台第一侧的、与所述基台平行设置的活动板，基台与活动板之间的距离为溅射缝隙，其特征在于，溅射缝隙测量工具包括：
水平测试平台，进行测量时设置于所述基台上，且所述水平测试平台位于第一位置时，所述水平测试平台的第一边缘与基台的所述第一侧的边缘平齐；
第一移动结构，用于控制所述水平测试平台向靠近所述活动板的方向移动，在所述水平测试平台移动到第二位置时，所述水平测试平台与活动板接触；
距离测量结构，用于测量所述水平测试平台从所述第一位置到所述第二位置的移动距离。
2.根据权利要求1所述的溅射缝隙测量工具，其特征在于，所述第一移动结构包括测量时设置于基台上的底座，所述水平测试平台可移动的设置于所述底座上，所述距离测量结构包括设置于所述底座侧面的刻度，所述水平测试平台位于第一位置时，所述水平测试平台上与所述第一边缘相对设置的第二边缘对应的刻度值为0。
3.根据权利要求2所述的溅射缝隙测量工具，其特征在于，所述第一移动结构还包括设置于所述水平测试平台侧面的水平转轮，设置于所述水平测试平台和所述底座之间的传动件，所述传动件在所述水平转轮的驱动下带动所述水平测试平台在水平方向上移动。
4.根据权利要求2所述的溅射缝隙测量工具，其特征在于，所述底座包括设置所述水平测试平台的第一表面和与所述第一表面相背的第二表面，所述第二表面上设置有与所述基台的第一侧的凸起相对应的卡槽。
5.根据权利要求1所述的溅射缝隙测量工具，其特征在于，还包括：
设置于所述水平测试平台的第一边缘的第一连接杆，其与所述水平测试平台相垂直设置；
移动的设置于所述第一连接杆上的贴片，所述贴片与所述水平测试平台平行设置；
第二移动结构，用于控制所述贴片沿着所述第一连接杆向靠近所述活动板方向移动，在所述贴片位于第三位置时，所述贴片与所述活动板接触；
所述距离测量结构还用于测量所述贴片位于所述第三位置时，所述贴片与所述水平能测试平台在竖直方向的距离。
6.根据权利要求5所述的溅射缝隙测量工具，其特征在于，所述距离测量结构还包括设置于所述水平测试平台第一边缘的竖直测尺，所述竖直测尺与所述水平测试平台接触的一端的刻度值为0，所述竖直测尺的外侧面与所述水平测试平台的第一边缘对应的侧面位于同一平面；
与所述贴片连接的、与所述贴片同步移动的第二连接杆，所述第二连接杆与所述贴片在同一水平面，且所述第二连接杆与所述水平测试平台相平行设置，所述第二连接杆远离所述贴片的一端设有与所述竖直测尺相接触的连接部。
7.根据权利要求5所述的溅射缝隙测量工具，其特征在于，所述第二移动结构还包括设置于所述第一连接杆上的竖直转轮，设置于所述第一连接杆和所述贴片之间的传动件，该传动件在所述竖直转轮的驱动下带动所述贴片移动。
8.根据权利要求1所述的溅射缝隙测量工具，其特征在于，所述基台为矩形结构，所述水平测试平台为矩形结构。
9.一种磁控溅射设备，其特征在于，包括如权利要求1-8中任一项所述的溅射缝隙测量工具。
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