CN206627063U - 测量装置及基板玻璃垂度测量设备 - Google Patents

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CN206627063U CN201720416256.XU CN201720416256U CN206627063U CN 206627063 U CN206627063 U CN 206627063U CN 201720416256 U CN201720416256 U CN 201720416256U CN 206627063 U CN206627063 U CN 206627063U
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王步洲
刘奎宁
史伟华
严永海
常慧
姚小阔
杜延军
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Dongxu Optoelectronic Technology Co Ltd
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Tunghsu Technology Group Co Ltd
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Abstract

本实用新型公开了一种测量装置及基板玻璃测量设备,所述测量装置包括显微镜(1)及刻度尺(2),所述显微镜(1)的物镜(11)上具有多条第一刻度线(12),所述刻度尺(2)具有多个第二刻度线(21),所述显微镜(1)和所述刻度尺(2)设置为所述第一刻度线(12)能够与所述第二刻度线(21)配合进行测量。本实用新型提供的测量装置及基板玻璃测量设备,能够提高基板玻璃的垂度测量精度,为基板玻璃的制造提供品质保障。

Description

测量装置及基板玻璃垂度测量设备
技术领域
本实用新型涉及测量技术领域,具体地,涉及一种测量装置及基板玻璃垂度测量设备。
背景技术
基板玻璃是液晶显示面板的重要组成部分,为保证基板玻璃的制造品质,需要对基板玻璃的垂度进行测量,垂度具体是指基板玻璃被支架支撑起来时,基板玻璃下垂的程度。
目前,基板玻璃的垂度通常通过刻度尺进行测量,但是目前市售刻度尺的精度最大为0.5mm。因此通过刻度尺测量的所述“垂度”的误差等级较高,为0.5mm级别。但0.5mm级别的“垂度”指标测量精度远不能满足基板玻璃制造工艺需求,从而会影响玻璃基板的制造品质,为此需提高“垂度”指标测量精度。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种测量装置及基板玻璃垂度测量设备,用于解决现有技术中基板玻璃的垂度测量精度不能满足基板玻璃制造工艺需求的问题。
为了实现上述目的,本实用新型提供一种测量装置,所述测量装置包括显微镜及刻度尺,所述显微镜的物镜上具有多条第一刻度线,所述刻度尺具有多条第二刻度线,所述显微镜和所述刻度尺设置为所述第一刻度线能够与所述第二刻度线配合进行测量。
优选地,所述测量装置还包括支架,所述显微镜安装在所述支架上且能相对所述支架进行高度调节,所述刻度尺相对所述支架固定。
优选地,所述显微镜设置为所述物镜的轴线垂直于所述刻度尺的长度方向。
优选地,所述支架包括底座及所述底座上设置的滑杆,所述显微镜安装在所述滑杆上并能够沿所述滑杆上下滑动。
优选地,与所述滑杆连接有用于旋转以使得所述显微镜在所述滑杆上滑动并能够将所述显微镜固定在所述滑杆上的控制旋钮。
优选地,所述滑杆垂直于所述底座的底面。
优选地,所述刻度尺垂直于所述底座的底面。
根据本实用新型的另一方面,还提供一种基板玻璃垂度测量设备,包括有根据如上所述的测量装置。
优选地,所述基板玻璃垂度测量设备还包括测量平台,所述测量平台上设置有所述测量装置以及用于支撑基板玻璃的玻璃支架。
优选地,所述刻度尺的长度方向垂直于所述测量平台的上平面。
本实用新型提供的测量装置及基板玻璃垂度测量设备能够提高基板玻璃垂度的测量精度,以给液晶基板玻璃制造工艺提高准确可靠的参考,从而为液晶玻璃基板制造提高品质提供保障。
本实用新型的其它特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。
附图说明
附图是用来提供对本实用新型的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本实用新型,但并不构成对本实用新型的限制。在附图中:
图1为用根据本实用新型的一个实施方式中测量装置测量基板玻璃垂度的示意图;
图2为从显微镜的目镜中看到的测量玻璃边缘的放大视图。
附图标记说明
1-显微镜; 11-物镜; 12-第一刻度线;
2-刻度尺; 21-第二刻度线; 3-安装架;
31-底座; 32-滑杆; 33-控制旋钮;
4-基板玻璃; 5-玻璃支架; 6-测量平台。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是,此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本实用新型,并不用于限制本实用新型。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“上”、“下”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”等指示的方位或位置关系为设备或装置在实际应用情况下的方位或位置关系,或是基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型保护范围的限制。
本实用新型提供一种测量装置,如图1和图2所示,该测量装置包括显微镜1及刻度尺2,显微镜1的物镜11上具有多条第一刻度线12,刻度尺2上具有多个第二刻度线21,显微镜1和刻度尺2设置为所述第一刻度线12能够与所述第二刻度线21配合进行测量。
在本实用新型提供的技术方案中,用显微镜1上的第一刻度线12与刻度尺2的第二刻度线21配合是利用显微镜来放大刻度尺2上的刻度,并用显微镜上的第一刻度线12将刻度尺2上的第二刻度线21进一步等分,例如,用物镜11上的十等份的刻度线的起始、终止线与刻度尺2上的0.5mm的刻度线起始、终止线重合,可将刻度尺2上的0.5mm的距离等分为十份,由此可将刻度尺2上0.5mm的测量精度提高到0.05mm的测量精度。其中,在此所说的“0.5mm”仅是举例说明,也可为1mm或2mm等,可根据具体情况,例如所要测量的精度,来调节显微镜1的物镜11上的第一刻度线12与刻度尺2上的第二刻度线21的配合。
本实用新型提供的测量装置能够提高测量精度,可适用于测量基板玻璃的垂度(当然并不限于测量垂度),由此提高基板玻璃垂度的测量精度,以给液晶基板玻璃制造工艺提高准确可靠的参考,从而为液晶玻璃基板制造提高品质提供保障。
在本实用新型的优选实施方式中,该测量装置还包括支架3,显微镜1安装在该支架3上且能相对该支架3进行高度调节,刻度尺2相对支架3固定。
优选地,显微镜1设置为物镜11的轴线垂直于刻度尺2的长度方向,以从目镜中可以正视刻度尺2,从而利于减小读数误差。其中,所述刻度尺2的长度方向是指刻度尺2上的刻度的布置方向。
本实施方式中,如图1所示,支架3包括底座31及底座31上设置的滑杆32,显微镜1安装在滑杆32上并能够沿滑杆32上下滑动。与所述滑杆32连接有用于旋转以使得所述显微镜1在滑杆32上滑动并能够将显微镜1固定在滑杆32上的控制旋钮33。该控制旋钮33可旋转至将显微镜1顶紧在滑杆32上,从而固定显微镜1,或者旋转至放松显微镜1,使得显微镜1可沿滑杆32滑动,在滑动止所需位置时,再通过控制旋钮33固定。
其中,支架3上的滑杆32垂直于底座31的底面。刻度尺2也垂直于底座31的底面,也就是说,刻度尺2平行于滑杆32,这样,有利于设置显微镜1的物镜11平行于刻度尺2,从而利于提高读书精度。
根据本实用新型的另一方面,还提供一种基板玻璃垂度测量设备,包括有如上所述的测量装置。
本实用新型提供的基板玻璃垂度测量设备还包括测量平台6,如图1所示,测量平台6上设置有如上所述的测量装置以及用于支撑基板玻璃的玻璃支架5。以测量平台6的上表面为基准高度,玻璃支架5的高度与基板玻璃4所垂下的下边缘的高度差即为基板玻璃4的垂度。玻璃支架5的高度为一恒定值。因此,通过上述的测量装置测量出基板玻璃4的下边缘的高度即可获得基板玻璃4的垂度。
在测量玻璃基板4的垂度时,首先将基板玻璃4支撑在测量平台6的玻璃支架5上,优选地,设置所述测量装置的刻度尺2的长度方向垂直于测量平台6的上平面,同时设置显微镜1的物镜11平行于刻度尺2的长度方向。由于上述的测量装置中,刻度尺2和滑杆32均垂直于支架3的底座31,因此,本实施方式中可直接将上述的测量装置的支架3放置在测量平台6上,然后通过控制旋钮33上下调节显微镜1,使得显微镜1聚焦在刻度尺2与基板玻璃4下边缘接触位置,并使得显微镜的十等份的第一刻度线12的起始和终止线分别与刻度尺2的0.5mm的第二刻度线21的起始和终止线重合,从显微镜的目镜中可看到如图2中所示的视图,图中的A位置为基板玻璃4的下边缘所对应的刻度位置,刻度尺2上的0.5mm的第二刻度线21通过物镜11上的第一刻度线12分割为十等份,因此所测出的基板玻璃4下边缘的高度值精度达0.05mm。
以上结合附图详细描述了本实用新型的优选实施方式,但是,本实用新型并不限于上述实施方式中的具体细节,在本实用新型的技术构思范围内,可以对本实用新型的技术方案进行多种简单变型,这些简单变型均属于本实用新型的保护范围。
另外需要说明的是,在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征,在不矛盾的情况下,可以通过任何合适的方式进行组合。为了避免不必要的重复,本实用新型对各种可能的组合方式不再另行说明。
此外,本实用新型的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合,只要其不违背本实用新型的思想,其同样应当视为本实用新型所公开的内容。

Claims (10)

1.一种测量装置,其特征在于,所述测量装置包括显微镜(1)及刻度尺(2),所述显微镜(1)的物镜(11)上具有多条第一刻度线(12),所述刻度尺(2)具有多条第二刻度线(21),所述显微镜(1)和所述刻度尺(2)设置为所述第一刻度线(12)能够与所述第二刻度线(21)配合进行测量。
2.根据权利要求1所述的测量装置,其特征在于,所述测量装置还包括支架(3),所述显微镜(1)安装在所述支架(3)上且能相对所述支架(3)进行高度调节,所述刻度尺(2)相对所述支架(3)固定。
3.根据权利要求2所述的测量装置,其特征在于,所述显微镜(1)设置为所述物镜(11)的轴线垂直于所述刻度尺(2)的长度方向。
4.根据权利要求2所述的测量装置,其特征在于,所述支架(3)包括底座(31)及所述底座(31)上设置的滑杆(32),所述显微镜(1)安装在所述滑杆(32)上并能够沿所述滑杆(32)上下滑动。
5.根据权利要求4所述的测量装置,其特征在于,与所述滑杆(32)连接有用于旋转以使得所述显微镜(1)在所述滑杆(32)上滑动并能够将所述显微镜(1)固定在所述滑杆(32)上的控制旋钮(33)。
6.根据权利要求4所述的测量装置,其特征在于,所述滑杆(32)垂直于所述底座(31)的底面。
7.根据权利要求6所述的测量装置,其特征在于,所述刻度尺(2)垂直于所述底座(31)的底面。
8.一种基板玻璃垂度测量设备,其特征在于,包括有根据权利要求1-7中任意一项所述的测量装置。
9.根据权利要求8所述的基板玻璃垂度测量设备,其特征在于,所述基板玻璃垂度测量设备还包括测量平台(6),所述测量平台(6)上设置有所述测量装置以及用于支撑基板玻璃的玻璃支架(5)。
10.根据权利要求9所述的基板玻璃垂度测量设备,其特征在于,所述刻度尺(2)的长度方向垂直于所述测量平台(6)的上平面。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN109725410A (zh) * 2018-11-28 2019-05-07 贵州大学 一种基于光学相干断层的扫描冻干显微镜

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