CN108950476A - 一种蒸镀掩膜板与玻璃的贴合间隙确定方法、装置及设备 - Google Patents

一种蒸镀掩膜板与玻璃的贴合间隙确定方法、装置及设备 Download PDF

Info

Publication number
CN108950476A
CN108950476A CN201810930390.0A CN201810930390A CN108950476A CN 108950476 A CN108950476 A CN 108950476A CN 201810930390 A CN201810930390 A CN 201810930390A CN 108950476 A CN108950476 A CN 108950476A
Authority
CN
China
Prior art keywords
glass
vapor deposition
mask plate
gap
deposition mask
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201810930390.0A
Other languages
English (en)
Other versions
CN108950476B (zh
Inventor
戚海平
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BOE Technology Group Co Ltd
Ordos Yuansheng Optoelectronics Co Ltd
Original Assignee
BOE Technology Group Co Ltd
Ordos Yuansheng Optoelectronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BOE Technology Group Co Ltd, Ordos Yuansheng Optoelectronics Co Ltd filed Critical BOE Technology Group Co Ltd
Priority to CN201810930390.0A priority Critical patent/CN108950476B/zh
Publication of CN108950476A publication Critical patent/CN108950476A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN108950476B publication Critical patent/CN108950476B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/54—Controlling or regulating the coating process

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

本申请公开了一种蒸镀掩膜板与玻璃的贴合间隙确定方法、装置及设备，涉及显示技术，在蒸镀掩膜板与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位与玻璃表面的第一间隙；在蒸镀掩膜板的平坦局部与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面与玻璃同一表面的第二间隙；确定蒸镀掩膜板各个部位与玻璃的贴合间隙为所述第一间隙减去所述第二间隙的差值。确定了蒸镀掩膜板各个部位与玻璃的贴合间隙后，即可根据该贴合间隙在生产过程中在产品蒸镀前可以根据Gap(间隙)分析结果提前判定产品不良类型及比率，从而大幅降低蒸镀成本并提高不良改善效率。

Description

一种蒸镀掩膜板与玻璃的贴合间隙确定方法、装置及设备
技术领域
本公开一般涉及显示技术，尤其涉及蒸镀掩膜板与玻璃的贴合间隙确定方法、装置及设备。
背景技术
平板显示包括LCD显示，OLED显示、PDP显示、电子墨水显示等多种，其中，OLED显示具有轻薄，低功耗，高对比度，高色域，可以实现柔性显示等优点，是下一代显示器的发展趋势。OLED显示的实现方式为LTPS背板+精细金属掩膜(FMM Mask)，现在LTPS背板+FMM Mask的方式已经初步成熟，实现了量产。
精细金属掩膜(FMM Mask)模式，是通过蒸镀方式将OLED材料按照预定程序蒸镀到LTPS背板上，利用FMM上的图形，形成红绿蓝器件。现在应用于AMOLED的金属蒸镀掩膜板，由于玻璃下垂量远大于FMM下垂量，且玻璃的下沉形态与FMM下沉形态不同，蒸镀过程中当玻璃与Mask贴合时不可避免的发生FMM有效区与玻璃间的间隙过大以及因FMM褶皱在压合过程未舒展导致的间隙等问题；因FMM与玻璃贴合Gap异常而导致的不良主要为蒸镀Shadow增加形成的像素混叠，也会产生混色，这是目前OLED蒸镀工艺中最主要的不良同时也是最难解决的工艺问题。
目前，由于蒸镀工艺限制还无法获得FMM与玻璃贴合时的间隙及形态，只能依靠蒸镀后产品相关不良状况去猜想FMM与玻璃贴合间隙的状况，然而这不仅限制了在对蒸镀工艺变更时的准确分析依据，而且也会大大降低对相关不良改善的效率，降低产品良率，增加生产成本。
发明内容
鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种蒸镀掩膜板与玻璃的贴合间隙确定方法、装置及设备，以实现蒸镀掩膜板与玻璃的贴合间隙的确定。
第一方面，本发明实施例提供一种蒸镀掩膜板与玻璃的贴合间隙确定方法，包括：
在蒸镀掩膜板与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位与玻璃表面的第一间隙；
在蒸镀掩膜板的平坦局部与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面与玻璃同一表面的第二间隙；
确定蒸镀掩膜板各个部位与玻璃的贴合间隙为所述第一间隙减去所述第二间隙的差值。
进一步，所述玻璃为具有透明图案的玻璃。
更进一步，所述透明图案通过钼制作的图案。
更进一步，所述玻璃上的透明图案均匀设置，每个图案大小为10um～25um，相邻图案间距为20um～30um。
进一步，所述玻璃表面为玻璃的上表面或者玻璃的下表面。
进一步，所述在蒸镀掩膜板与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位与玻璃表面的第一间隙，包括：
在蒸镀掩膜板与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位相对参考平面的绝对高度以及玻璃表面相应部位相对参考平面的绝对高度；
确定蒸镀掩膜板各个部位与玻璃表面的第一间隙为，蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位相对参考平面的绝对高度与玻璃表面相应部位相对参考平面的绝对高度的差值；
所述在蒸镀掩膜板的平坦局部与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面与玻璃同一表面的第二间隙，包括：
在蒸镀掩膜板的平坦局部与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面相对参考平面的绝对高度以及玻璃同一表面相应部位相对参考平面的绝对高度；
确定蒸镀掩膜板与玻璃同一表面的第二间隙为，蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面相对参考平面的绝对高度与玻璃相应部位同一表面相对参考平面的绝对高度的差值。
更进一步，通过电感耦合装置确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位相对参考平面的绝对高度以及玻璃表面相应部位相对参考平面的绝对高度；以及
通过电感耦合装置确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面相对参考平面的绝对高度以及玻璃同一表面相应部位相对参考平面的绝对高度。
更进一步，在确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位相对参考平面的绝对高度以及玻璃表面相应部位相对参考平面的绝对高度时，根据不同部位的下沉量，调整电感耦合装置的高度。
更进一步，所述根据不同部位的下沉量，调整电感耦合装置的高度，包括：
根据各个部位的下沉量所在的区间，调整电感耦合装置的高度至该区间对应的高度。
第二方面，本发明实施例提供一种蒸镀掩膜板与玻璃的贴合间隙确定装置，包括：
第一间隙确定单元，用于在蒸镀掩膜板与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位与玻璃表面的第一间隙；
第二间隙确定单元，用于在蒸镀掩膜板的平坦局部与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面与玻璃同一表面的第二间隙；
贴合间隙确定单元，用于确定蒸镀掩膜板各个部位与玻璃的贴合间隙为所述第一间隙减去所述第二间隙的差值。
进一步，所述第一间隙确定单元用于：
在蒸镀掩膜板与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位相对参考平面的绝对高度以及玻璃表面相应部位相对参考平面的绝对高度；
确定蒸镀掩膜板各个部位与玻璃表面的第一间隙为，蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位相对参考平面的绝对高度与玻璃表面相应部位相对参考平面的绝对高度的差值；
所述第二间隙确定单元用于：
在蒸镀掩膜板的平坦局部与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面相对参考平面的绝对高度以及玻璃同一表面相应部位相对参考平面的绝对高度；
确定蒸镀掩膜板与玻璃同一表面的第二间隙为，蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面相对参考平面的绝对高度与玻璃相应部位同一表面相对参考平面的绝对高度的差值。
更进一步，所述第一间隙确定单元通过电感耦合装置确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位相对参考平面的绝对高度以及玻璃表面相应部位相对参考平面的绝对高度；以及
所述第二间隙确定单元通过电感耦合装置确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面相对参考平面的绝对高度以及玻璃同一表面相应部位相对参考平面的绝对高度。
更进一步，所述第一间隙确定单元在确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位相对参考平面的绝对高度以及玻璃表面相应部位相对参考平面的绝对高度时，根据不同部位的下沉量，调整电感耦合装置的高度。
更进一步，所述第一间隙确定单元根据不同部位的下沉量，调整电感耦合装置的高度，包括：
根据各个部位的下沉量所在的区间，调整电感耦合装置的高度至该区间对应的高度。
第三方面，本发明实施例还提供一种设备，包括处理器和存储器；
所述存储器包含可由所述处理器执行的指令以使得所述处理器执行如第一方面中所述的方法。
本发明实施例提供一种蒸镀掩膜板与玻璃的贴合间隙确定方法、装置及设备，在蒸镀掩膜板与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位与玻璃表面的第一间隙；在蒸镀掩膜板的平坦局部与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面与玻璃同一表面的第二间隙；确定蒸镀掩膜板各个部位与玻璃的贴合间隙为所述第一间隙减去所述第二间隙的差值。确定了蒸镀掩膜板各个部位与玻璃的贴合间隙后，即可根据该贴合间隙在生产过程中在产品蒸镀前可以根据Gap(间隙)分析结果提前判定产品不良类型及比率，从而大幅降低蒸镀成本并提高不良改善效率。
附图说明
通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
图1为本发明实施例提供的蒸镀掩膜板与玻璃的贴合间隙确定方法流程图；
图2为本发明实施例提供的使用电感荷耦合装置确定贴合间隙的示意图；
图3为本发明实施例提供的玻璃的图案示意图；
图4为本发明实施例提供的测量玻璃的上表面的探测光线示意图；
图5为本发明实施例提供的测量玻璃的下表面的探测光线示意图；
图6为本发明实施例提供的测量蒸镀掩膜板与玻璃贴合的表面的探测光线示意图；
图7为本发明实施例提供的蒸镀掩膜板高度与电感荷耦合装置高度的匹配关系示意图；
图8为本发明实施例提供的蒸镀掩膜板高度区间与电感荷耦合装置高度的匹配关系示意图；
图9为本发明实施例提供的示例产品的A列、S列、H列位置示意图；
图10为本发明实施例提供的示例产品的A列、S列、H列的贴合间隙曲线示意图；
图11为本发明实施例提供的示例产品的的混色不良发生位置示意图；
图12为本发明实施例提供的蒸镀掩膜板与玻璃的贴合间隙确定装置结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明，而非对该发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与发明相关的部分。
需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。
请参考图1，本发明实施例提供的蒸镀掩膜板与玻璃的贴合间隙确定方法，包括：
步骤S101、在蒸镀掩膜板与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位与玻璃表面的第一间隙；
步骤S102、在蒸镀掩膜板的平坦局部与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面与玻璃同一表面的第二间隙；
步骤S103、确定蒸镀掩膜板各个部位与玻璃的贴合间隙为第一间隙减去第二间隙的差值。
通过该方法，即可确定蒸镀掩膜板各个部位与玻璃的贴合间隙，确定了蒸镀掩膜板各个部位与玻璃的贴合间隙后，即可根据该贴合间隙在生产过程中在产品蒸镀前可以根据Gap分析结果提前判定产品不良类型及比率，从而大幅降低蒸镀成本并提高不良改善效率。
在确定贴合间隙时，使用专属Glass(玻璃)与Mask(蒸镀掩膜板)进行贴合，专属Glass的大小、材质与量产使用BP(back pannel，背板)相同，贴合后对位调整Glass与Mask相对位置，如图2所示，使用电感荷耦合装置(CCD)分别对Mask上的Pixel(像素面，上表面，和玻璃接触的面)与Glass上的Pattern进行聚焦并获取相应电感荷耦合高度，得到Mask与Glass贴合的第一间隙；借助平坦载台，将Mask置于载台上然后将Glass贴合在Mask的平坦局部上，使用电感荷耦合装置分别对Mask上的Pixel与Glass上的Pattern进行聚焦并获取相应电感荷耦合高度，进而获得第二间隙。最后，通过第一间隙和第二间隙可计算得到Glass与Mask贴合后的Gap数值及形态。
Glass确保满足实际量产玻璃性质、模拟贴合条件、第一间隙和第二间隙的确定需要的适当光强下的透光性；Glass材质、大小、厚度与正常量产玻璃材质相同，玻璃上的图案可通过刻蚀形成，其它区域为透光区域。
进一步，本发明实施例中，所使用的玻璃可以是具有透明图案的玻璃，当玻璃上的图案是透明图案时，玻璃的透光率更大，从而便于进行第一间隙、第二间隙的测量，提高测量的准确度。
透明图案可以是通过钼制作的图案，也可以是通过其它透明材料制作的图案。
玻璃上的透明图案可以是均匀设置的，例如，如图3所示，每个图案大小为10um～25um，相邻图案间距为20um～30um，在实际应用中，本领域技术人员也可以根据实际情况，设计玻璃上的透明图案。
步骤S101和步骤S102中的玻璃表面，可以是玻璃的上表面，也可以是玻璃的下表面，但是步骤S101和步骤S102中的玻璃表面必须是同一个表面，即，步骤S101中的玻璃表面若是玻璃的上表面，则步骤S102中的玻璃表面必须也是玻璃的上表面，同样的，步骤S101中的玻璃表面若是玻璃的下表面，则步骤S102中的玻璃表面必须也是玻璃的下表面。
具体的，步骤S101中，在蒸镀掩膜板与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位与玻璃表面的第一间隙，包括：
在蒸镀掩膜板与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位相对参考平面的绝对高度以及玻璃表面相应部位相对参考平面的绝对高度；
确定蒸镀掩膜板各个部位与玻璃表面的第一间隙为，蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位相对参考平面的绝对高度与玻璃表面相应部位相对参考平面的绝对高度的差值；
步骤S102中，在蒸镀掩膜板的平坦局部与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面与玻璃同一表面的第二间隙，包括：
在蒸镀掩膜板的平坦局部与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面相对参考平面的绝对高度以及玻璃同一表面相应部位相对参考平面的绝对高度；
确定蒸镀掩膜板与玻璃同一表面的第二间隙为，蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面相对参考平面的绝对高度与玻璃相应部位同一表面相对参考平面的绝对高度的差值。
在确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位相对参考平面的绝对高度以及玻璃表面相应部位相对参考平面的绝对高度时，以及在确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面相对参考平面的绝对高度以及玻璃同一表面相应部位相对参考平面的绝对高度时，均可以通过电感耦合装置来确定。
当采用的玻璃表面为玻璃的上表面时，电感耦合装置确定玻璃表面相应部位相对参考平面的绝对高度及确定玻璃同一表面相应部位相对参考平面的绝对高度时，所探测的光线如图4所示；
当采用的玻璃表面为玻璃的下表面时，电感耦合装置确定玻璃表面相应部位相对参考平面的绝对高度及确定玻璃同一表面相应部位相对参考平面的绝对高度时，所探测的光线如图5所示；
电感耦合装置确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位相对参考平面的绝对高度及确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面相对参考平面的绝对高度时，所探测的光线如图6所示。
进一步，为了确保电感荷耦合装置对特定高度层的探测效果，不同层间探测图像需要具有显著的灰阶差，以及具有合适的感光强度。
Mask在未模拟贴合前具有较小的下沉量(100um～250um)，当Mask与Glass模拟贴合后Mask与Glass的下沉量达到700um～900um，其中Mask与Glass的下沉形态基本一致。由于模拟贴合后Mask与Glass的下沉量较大，电感荷耦合装置可能会无法准确探测到目标层高度，进而出现各层别探测出现交叉错乱的问题，导致无法进行。
为了确保每次探测的层高均为目标对象，提高测量准确性，需要依据Mask与Glass模拟贴合后的下沉形态对电感荷耦合装置的CCD Z Axis高度进行调整，CCD Z Axis高度应随Mask或Glass的高度差进行补偿。
即，在确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位相对参考平面的绝对高度以及玻璃表面相应部位相对参考平面的绝对高度时，根据不同部位的下沉量，调整电感耦合装置的高度。
例如：Mask高度差为-10um，则CCD Z Axis高度补偿应w为-10um。图7为本发明具体实施例中Mask高度CCD Z Axis高度的匹配关系，通过该CCD Z Axis高度设计方式可以有效确保电感荷耦合装置探测的准确性与有效性。
进一步，可以根据Mask、Glass High及与之匹配的CCD Z Axis高度关系，将CCD ZAxis高度设计为阶梯状，如图8所示，阶梯设置的优点在于降低对感荷耦合装置CCD Z AxisAxis高度控制的难度，简化实际工作量。
此时，根据不同部位的下沉量，调整电感耦合装置的高度，包括：
根据各个部位的下沉量所在的区间，调整电感耦合装置的高度至该区间对应的高度。
阶梯长度可以等距设置，可以等差设置。对于每个阶梯内对应的Mask/Glass高度差小于50um较佳，相邻阶梯高度差控制在50um～150um为宜。
针对当前圆形APP产品1.39Watch存在的Q Glass四周边缘混色问题进行分析，不良分析表明Q Glass四周边缘混色主要是由R像素Shadow及PPA偏移导致，其最终原因为蒸镀过程中Glass与Mask贴合间隙异常导致。
采用本发明中Glass与Mask模拟贴合Gap分析方法对1.39Watch REML型Mask进行分析，分别对Mask混色发生比率较低的中间区域的H列及650边两端混色发生比率较高的A列、S列cell进行Gap分析，A列、S列、H列位置如图9所示，分析结果如图10所示，Gap大小及幅度严重程度顺序：S列>A列>H列，通过对比如图11所示的Gap与产品混色不良发生位置Mapping(地图)，两者匹配，即Gap越大导致产品混色的比率越高，Gap位置与混色发位置匹配，图11中，数值越大，表示该位置的混色不良越严重。因此本发明实施例中模拟贴合Gap与实际蒸镀工艺中Gap一致。
可见，通过本发明实施例提供的蒸镀掩膜板与玻璃的贴合间隙确定方法，可以准确分析蒸镀工艺中Mask与Glass贴合Gap，且模拟结果准确性较高，弥补了现有技术中无法分析Mask与Glass贴合Gap的瓶颈；并且，在产品蒸镀前可以根据Gap分析结果提前判定产品不良类型及比率，从而大幅降低蒸镀成本并提高不良改善效率；将该方法应用于产品设计或变更中可以显著降低设计验证成本并提高设计成功率。
应当注意，尽管在附图中以特定顺序描述了本发明方法的操作，但是，这并非要求或者暗示必须按照该特定顺序来执行这些操作，或是必须执行全部所示的操作才能实现期望的结果。相反，流程图中描绘的步骤可以改变执行顺序。例如，步骤S101和步骤S102。附加地或备选地，可以省略某些步骤，将多个步骤合并为一个步骤执行，和/或将一个步骤分解为多个步骤执行。
本发明实施例还相应提供一种蒸镀掩膜板与玻璃的贴合间隙确定装置，如图12所示，包括：
第一间隙确定单元1201，用于在蒸镀掩膜板与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位与玻璃表面的第一间隙；
第二间隙确定单元1202，用于在蒸镀掩膜板的平坦局部与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面与玻璃同一表面的第二间隙；
贴合间隙确定单元1203，用于确定蒸镀掩膜板各个部位与玻璃的贴合间隙为第一间隙减去第二间隙的差值。
进一步，第一间隙确定单元1201用于：
在蒸镀掩膜板与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位相对参考平面的绝对高度以及玻璃表面相应部位相对参考平面的绝对高度；
确定蒸镀掩膜板各个部位与玻璃表面的第一间隙为，蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位相对参考平面的绝对高度与玻璃表面相应部位相对参考平面的绝对高度的差值；
第二间隙确定单元1202用于：
在蒸镀掩膜板的平坦局部与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面相对参考平面的绝对高度以及玻璃同一表面相应部位相对参考平面的绝对高度；
确定蒸镀掩膜板与玻璃同一表面的第二间隙为，蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面相对参考平面的绝对高度与玻璃相应部位同一表面相对参考平面的绝对高度的差值。
更进一步，第一间隙确定单元1201通过电感耦合装置确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位相对参考平面的绝对高度以及玻璃表面相应部位相对参考平面的绝对高度；以及
第二间隙确定单元1202通过电感耦合装置确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面相对参考平面的绝对高度以及玻璃同一表面相应部位相对参考平面的绝对高度。
更进一步，第一间隙确定单元1201在确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位相对参考平面的绝对高度以及玻璃表面相应部位相对参考平面的绝对高度时，根据不同部位的下沉量，调整电感耦合装置的高度。
更进一步，第一间隙确定单元1201根据不同部位的下沉量，调整电感耦合装置的高度，包括：
根据各个部位的下沉量所在的区间，调整电感耦合装置的高度至该区间对应的高度。
应当理解，该装置中记载的诸单元或模块与参考图1描述的方法中的各个步骤相对应。由此，上文针对方法描述的操作和特征同样适用于该装置及其中包含的单元，在此不再赘述。该装置可以预先实现在电子设备的浏览器或其他安全应用中，也可以通过下载等方式而加载到电子设备的浏览器或其安全应用中。该装置中的相应单元可以与电子设备中的单元相互配合以实现本申请实施例的方案。
本发明实施例还相应提供一种设备，包括处理器和存储器；
其中，存储器包含可由处理器执行的指令以使得所述处理器执行如图1描述的方法。
特别地，根据本公开的实施例，上文参考图1描述的过程可以被实现为计算机软件程序。例如，本公开的实施例包括一种计算机程序产品，其包括有形地包含在机器可读介质上的计算机程序，所述计算机程序包含用于执行图1的方法的程序代码。在这样的实施例中，该计算机程序可以通过通信部分从网络上被下载和安装，和/或从可拆卸介质被安装。
附图中的流程图和框图，图示了按照本发明各种实施例的系统、方法和计算机程序产品的可能实现的体系架构、功能和操作。在这点上，流程图或框图中的每个方框可以代表一个模块、程序段、或代码的一部分，所述模块、程序段、或代码的一部分包含一个或多个用于实现规定的逻辑功能的可执行指令。也应当注意，在有些作为替换的实现中，方框中所标注的功能也可以以不同于附图中所标注的顺序发生。例如，两个接连地表示的方框实际上可以基本并行地执行，它们有时也可以按相反的顺序执行，这依所涉及的功能而定。也要注意的是，框图和/或流程图中的每个方框、以及框图和/或流程图中的方框的组合，可以用执行规定的功能或操作的专用的基于硬件的系统来实现，或者可以用专用硬件与计算机指令的组合来实现。
描述于本申请实施例中所涉及到的单元或模块可以通过软件的方式实现，也可以通过硬件的方式来实现。所描述的单元或模块也可以设置在处理器中，例如，可以描述为：一种处理器包括XX单元、YY单元以及ZZ单元。其中，这些单元或模块的名称在某种情况下并不构成对该单元或模块本身的限定，例如，XX单元还可以被描述为“用于XX的单元”。
作为另一方面，本申请还提供了一种计算机可读存储介质，该计算机可读存储介质可以是上述实施例中所述装置中所包含的计算机可读存储介质；也可以是单独存在，未装配入设备中的计算机可读存储介质。计算机可读存储介质存储有一个或者一个以上程序，所述程序被一个或者一个以上的处理器用来执行描述于本申请的公式输入方法。
以上描述仅为本申请的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解，本申请中所涉及的发明范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离所述发明构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。

Claims (15)

1.一种蒸镀掩膜板与玻璃的贴合间隙确定方法，其特征在于，包括：
在蒸镀掩膜板与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位与玻璃表面的第一间隙；
在蒸镀掩膜板的平坦局部与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面与玻璃同一表面的第二间隙；
确定蒸镀掩膜板各个部位与玻璃的贴合间隙为所述第一间隙减去所述第二间隙的差值。
2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述玻璃为具有透明图案的玻璃。
3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述透明图案通过钼制作的图案。
4.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述玻璃上的透明图案均匀设置，每个图案大小为10um～25um，相邻图案间距为20um～30um。
5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述玻璃表面为玻璃的上表面或者玻璃的下表面。
6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在蒸镀掩膜板与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位与玻璃表面的第一间隙，包括：
在蒸镀掩膜板与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位相对参考平面的绝对高度以及玻璃表面相应部位相对参考平面的绝对高度；
确定蒸镀掩膜板各个部位与玻璃表面的第一间隙为，蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位相对参考平面的绝对高度与玻璃表面相应部位相对参考平面的绝对高度的差值；
所述在蒸镀掩膜板的平坦局部与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面与玻璃同一表面的第二间隙，包括：
在蒸镀掩膜板的平坦局部与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面相对参考平面的绝对高度以及玻璃同一表面相应部位相对参考平面的绝对高度；
确定蒸镀掩膜板与玻璃同一表面的第二间隙为，蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面相对参考平面的绝对高度与玻璃相应部位同一表面相对参考平面的绝对高度的差值。
7.如权利要求6所述的方法，其特征在于，通过电感耦合装置确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位相对参考平面的绝对高度以及玻璃表面相应部位相对参考平面的绝对高度；以及
通过电感耦合装置确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面相对参考平面的绝对高度以及玻璃同一表面相应部位相对参考平面的绝对高度。
8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，在确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位相对参考平面的绝对高度以及玻璃表面相应部位相对参考平面的绝对高度时，根据不同部位的下沉量，调整电感耦合装置的高度。
9.如权利要求8所述的方法，其特征在于，所述根据不同部位的下沉量，调整电感耦合装置的高度，包括：
根据各个部位的下沉量所在的区间，调整电感耦合装置的高度至该区间对应的高度。
10.一种蒸镀掩膜板与玻璃的贴合间隙确定装置，其特征在于，包括：
第一间隙确定单元，用于在蒸镀掩膜板与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位与玻璃表面的第一间隙；
第二间隙确定单元，用于在蒸镀掩膜板的平坦局部与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面与玻璃同一表面的第二间隙；
贴合间隙确定单元，用于确定蒸镀掩膜板各个部位与玻璃的贴合间隙为所述第一间隙减去所述第二间隙的差值。
11.如权利要求10所述的装置，其特征在于，所述第一间隙确定单元用于：
在蒸镀掩膜板与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位相对参考平面的绝对高度以及玻璃表面相应部位相对参考平面的绝对高度；
确定蒸镀掩膜板各个部位与玻璃表面的第一间隙为，蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位相对参考平面的绝对高度与玻璃表面相应部位相对参考平面的绝对高度的差值；
所述第二间隙确定单元用于：
在蒸镀掩膜板的平坦局部与玻璃贴合后，确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面相对参考平面的绝对高度以及玻璃同一表面相应部位相对参考平面的绝对高度；
确定蒸镀掩膜板与玻璃同一表面的第二间隙为，蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面相对参考平面的绝对高度与玻璃相应部位同一表面相对参考平面的绝对高度的差值。
12.如权利要求11所述的装置，其特征在于，所述第一间隙确定单元通过电感耦合装置确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位相对参考平面的绝对高度以及玻璃表面相应部位相对参考平面的绝对高度；以及
所述第二间隙确定单元通过电感耦合装置确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面相对参考平面的绝对高度以及玻璃同一表面相应部位相对参考平面的绝对高度。
13.如权利要求12所述的装置，其特征在于，所述第一间隙确定单元在确定蒸镀掩膜板贴近玻璃的表面的各个部位相对参考平面的绝对高度以及玻璃表面相应部位相对参考平面的绝对高度时，根据不同部位的下沉量，调整电感耦合装置的高度。
14.如权利要求13所述的装置，其特征在于，所述第一间隙确定单元根据不同部位的下沉量，调整电感耦合装置的高度，包括：
根据各个部位的下沉量所在的区间，调整电感耦合装置的高度至该区间对应的高度。
15.一种设备，包括处理器和存储器；其特征在于：
所述存储器包含可由所述处理器执行的指令以使得所述处理器执行如权利要求1-9任一所述的方法。
CN201810930390.0A 2018-08-15 2018-08-15 一种蒸镀掩膜板与玻璃的贴合间隙确定方法、装置及设备 Active CN108950476B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810930390.0A CN108950476B (zh) 2018-08-15 2018-08-15 一种蒸镀掩膜板与玻璃的贴合间隙确定方法、装置及设备

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201810930390.0A CN108950476B (zh) 2018-08-15 2018-08-15 一种蒸镀掩膜板与玻璃的贴合间隙确定方法、装置及设备

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN108950476A true CN108950476A (zh) 2018-12-07
CN108950476B CN108950476B (zh) 2021-01-26

Family

ID=64470017

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810930390.0A Active CN108950476B (zh) 2018-08-15 2018-08-15 一种蒸镀掩膜板与玻璃的贴合间隙确定方法、装置及设备

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN108950476B (zh)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1120683A (zh) * 1994-03-15 1996-04-17 松下电器产业株式会社 曝光方法及其装置
JP2014224942A (ja) * 2013-05-17 2014-12-04 凸版印刷株式会社 プロキシミティ露光機
US20160144392A1 (en) * 2014-11-25 2016-05-26 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus for organic layer deposition
CN105702880A (zh) * 2014-11-28 2016-06-22 上海和辉光电有限公司 光学对位补偿装置、贴合度检测装置、蒸镀系统及其方法
CN106129270A (zh) * 2016-07-01 2016-11-16 武汉华星光电技术有限公司 监测掩膜板形成图案位置的方法以及基板
CN108400256A (zh) * 2018-02-02 2018-08-14 信利（惠州）智能显示有限公司 一种贴合方法及系统和蒸镀装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1120683A (zh) * 1994-03-15 1996-04-17 松下电器产业株式会社 曝光方法及其装置
JP2014224942A (ja) * 2013-05-17 2014-12-04 凸版印刷株式会社 プロキシミティ露光機
US20160144392A1 (en) * 2014-11-25 2016-05-26 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus for organic layer deposition
CN105702880A (zh) * 2014-11-28 2016-06-22 上海和辉光电有限公司 光学对位补偿装置、贴合度检测装置、蒸镀系统及其方法
CN106129270A (zh) * 2016-07-01 2016-11-16 武汉华星光电技术有限公司 监测掩膜板形成图案位置的方法以及基板
CN108400256A (zh) * 2018-02-02 2018-08-14 信利（惠州）智能显示有限公司 一种贴合方法及系统和蒸镀装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN108950476B (zh) 2021-01-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9134615B2 (en) Exposure method for glass substrate of liquid crystal display
US9897876B2 (en) Display substrate and method of manufacturing the same, display device
CN104317158B (zh) 一种掩膜板、掩膜板组、彩膜基板及显示装置
Croke et al. Aligning VLBI images of active galactic nuclei at different frequencies
CN102768424B (zh) 双视角显示面板及其制造方法
CN102036511A (zh) 一种多层电路板制造芯板尺寸非线性变化分类补偿方法
CN106200254A (zh) 掩膜版及掩膜曝光系统、拼接曝光方法、基板
CN109285972A (zh) 一种发光材料的位置调整方法及装置
CN103092428A (zh) 互动式显示面板
KR20120099492A (ko) 다색인쇄 품질관리방법
CN109913809A (zh) 一种掩膜装置及一种蒸镀方法
CN103698934B (zh) 显示面板
CN100561339C (zh) 光掩模及薄膜晶体管基板的制造方法
CN110262108A (zh) 显示面板和显示装置
CN105140242B (zh) 一种显示基板及其制作方法、显示装置
CN103676254B (zh) 一种透明显示装置及其驱动方法、电子设备
CN107728389A (zh) 液晶显示面板及其制作方法
CN110629160B (zh) 掩膜板组件
CN108950476A (zh) 一种蒸镀掩膜板与玻璃的贴合间隙确定方法、装置及设备
CN102540553A (zh) 一种具有标尺结构的彩色滤光基板及其制造方法
US8745546B2 (en) Mask overlay method, mask, and semiconductor device using the same
CN102650831B (zh) 曝光机台及曝光机台中自由设定遮板的方法
CN104849896B (zh) 一种液晶显示面板及对位数值的读取方法、读取装置
CN107175940B (zh) 边框图案丝印方法
CN202735676U (zh) 接近式曝光掩膜板

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant