CN108874231A - 触控显示基板及其制备方法、修复方法、触控显示面板 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种触控显示基板及其制备方法、修复方法、触控显示面板。触控显示基板包括由栅线和数据线限定的多个像素单元，以及设置在相邻像素单元之间的触控引线和作为冗余触控引线的连接线，所述触控引线通过多个连接过孔与所述连接线连接。修复方法包括：定位短路点后，分别确定所述短路点两侧的第一连接过孔和第二连接过孔；分别截断所述短路点与第一连接过孔之间、短路点与第二连接过孔之间的触控引线。本发明通过设置作为冗余触控引线的连接线，且连接线与触控引线通过多个连接过孔连接，可以有效消除因触控引线和数据线短路造成的暗线不良和触控电极不良，提高了良品率。

Description

触控显示基板及其制备方法、修复方法、触控显示面板

技术领域

本发明涉及显示技术领域，具体涉及一种触控显示基板及其制备方法、修复方法。

背景技术

随着显示技术的飞速发展，触摸面板(Touch Panel)已经逐渐遍及人们的生活中。触摸面板按照组成结构可以分为外挂式(Add on Mode)、覆盖表面式(On Cell)、内嵌式(InCell)等。其中，内嵌式触摸面板是将触摸模组的触控电极内嵌在显示模组内部，将显示与触控合二为一，不仅大大减小了模组整体厚度，产品更轻薄，而且大大降低了制作成本。其中，内嵌式触控面板中，触控和显示驱动器集成(Touch and Display DriverIntegration，TDDI)作为一项新的技术，由于具有外型轻薄、亮度高，成本低等优点，市场占有率越来越高。

目前，采用TDDI技术的触摸显示面板主要包括两种结构形式，其一是触控引线(Touch Pattern Metal，TPM)单独一层结构，触控引线通过一次单独的构图工艺制备，该结构需要11次构图工艺(11mask Array)；其二是触控引线和数据线同层结构，触控引线和数据线通过同一次构图工艺制备，该结构需要9次构图工艺(9mask Array)。

触控引线和数据线同层结构一般被称为双源(Dual source)结构，虽然有构图工艺次数少、生产成本低等优点，但由于触控引线和数据线同层且邻近设置，会额外产生触控引线和数据线短路问题，触控引线和数据线短路问题则引起暗线不良和触控电极不良。

发明内容

本发明实施例所要解决的技术问题是，提供一种触控显示基板及其制备方法、修复方法，在触控引线和数据线出现短路时，消除暗线不良和触控电极不良。

为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种触控显示基板，包括由栅线和数据线限定的多个像素单元，以及设置在相邻像素单元之间的触控引线和作为冗余触控引线的连接线，所述触控引线通过多个连接过孔与所述连接线连接。

可选地，所述触控引线与数据线同层且平行设置，形成双源结构。

可选地，所述连接线与栅线同层设置，设置在相邻的两个栅线之间，与所述触控引线平行。

可选地，在平行于栅线方向，所述连接线在基底上的正投影与所述触控引线在基底上的正投影重合。

本发明实施例还提供了一种触控显示面板，包括前述的触控显示基板。

为了解决上述技术问题，本发明实施例还提供了一种触控显示基板的制备方法，包括：

形成栅线和作为冗余触控引线的连接线；

形成数据线和触控引线，所述触控引线通过多个连接过孔与所述连接线连接。

可选地，形成栅线和作为冗余触控引线的连接线，包括：

形成栅线和连接线，所述连接线与数据线平行，设置在相邻的两个栅线之间；

形成覆盖所述栅线和连接线的绝缘层，所述绝缘层上开设有暴露出所述连接线的多个连接过孔。

可选地，形成数据线和触控引线，所述触控引线通过多个连接过孔与所述连接线连接，包括：

在所述绝缘层上形成数据线和触控引线，所述触控引线为与数据线平行的双源结构，所述触控引线通过所述多个连接过孔与所述连接线连接。

可选地，在平行于栅线方向，所述连接线在基底上的正投影与所述触控引线在基底上的正投影重合。

为了解决上述技术问题，本发明实施例还提供了一种触控显示基板的修复方法，触控显示基板包括由栅线和数据线限定的多个像素单元，以及设置在相邻像素单元之间的触控引线和作为冗余触控引线的连接线，所述触控引线通过多个连接过孔与所述连接线连接；所述修复方法包括：

定位短路点后，分别确定所述短路点两侧的第一连接过孔和第二连接过孔；

分别截断所述短路点与第一连接过孔之间、短路点与第二连接过孔之间的触控引线。

本发明实施例提供了一种触控显示基板及其制备方法、修复方法、触控显示面板，触控显示基板通过设置作为冗余触控引线的连接线，且连接线与触控引线通过多个连接过孔连接，可以有效消除因触控引线和数据线短路造成的暗线不良和触控电极不良，提高了良品率。当数据线和触控引线在某处出现短路时，将短路点两侧的触控引线断开，使短路点隔离，即可消除触控引线和数据线短路问题，而断开的触控引线可以通过连接线导通，保证了触控引线的正常工作。

当然，实施本发明的任一产品或方法并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。本发明的其它特征和优点将在随后的说明书实施例中阐述，并且，部分地从说明书实施例中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。本发明实施例的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。

附图说明

附图用来提供对本发明技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本发明的技术方案，并不构成对本发明技术方案的限制。附图中各部件的形状和大小不反映真实比例，目的只是示意说明本发明内容。

图1为现有双源结构触控显示装置的结构示意图；

图2为图1中C位置的放大图；

图3为本发明实施例触控显示基板的结构示意图；

图4A、图4B为本发明第一实施例形成栅线、栅电极和连接线图案后的示意图；

图5A、图5B为本发明第一实施例形成有源层图案后的示意图；

图6A、图6B为本发明第一实施例形成连接过孔图案后的示意图；

图7A、图7B为本发明第一实施例形成数据线、触控引线、源电极和漏电极图案后的示意图；

图8A和图8B为本发明第一实施例短路修复的示意图；

图9为本发明实施例触控显示基板的制备方法的流程图；

图10为本发明实施例触控显示基板的修复方法的流程图。

附图标记说明:

10—基底； 11—栅电极； 12—第一绝缘层；

13—有源层； 14—连接过孔； 15—源电极；

16—漏电极； 20—栅线； 30—数据线；

40—薄膜晶体管； 50—像素电极； 60—触控引线；

70—连接线。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。

图1为现有双源结构触控显示装置的结构示意图，图2为图1中C位置的放大图。如图1所示，触控显示装置中每一个大小约为4*4mm或5*5mm的矩形图案即为一个触控电极，每个触控电极通过触控引线60与触控驱动电路(未示出)连接。工作时，人手指的触摸会导致相应触控电极的电容发生变化，触控驱动电路根据触控电极的电容变化来判断手指的具体位置。通常，一个触控电极覆盖多个像素，由一根触控引线60控制，触控引线60设置在相邻的像素之间，与数据线30同层、平行且邻近。如图1所示的触控显示装置采用分时驱动的工作方式，一帧有效时间被划分为显示时段(Display Time)和触控时段(Touch Time)，显示时段和触控时段的驱动信号分开处理。在显示时段内，数据线由数据驱动电路供给显示信号，触控引线不进行触控信号扫描，确保正常显示。在触控时段内，触控驱动电路通过触控引线进行触控信号扫描，此时一帧显示已经完成，显示状态基本不受触控信号影响，两者分时独立工作。如图2所示，由于一个触控电极覆盖多个像素，因此只有需要连接触控电极的位置设置触控引线60。在同时设置触控引线60和数据线30的像素内，触控引线60通过过孔连接触控电极。该结构中，触控引线和数据线平行设置，其两者间距较小，以提高开口率，因而在制备过程中会产生触控引线和数据线短路问题，短路引起暗线不良和触控电极不良，降低了良品率，严重时会导致产品报废。因此，在触控引线和数据线出现短路时，如何消除暗线不良和触控电极不良，提高良品率，一直是本领域亟待解决的技术问题。

为此，本发明实施例提供了一种触控显示基板、触控显示基板的制备方法、触控显示基板的修复方法以及触控显示面板，在触控引线和数据线出现短路时，可以有效消除暗线不良和触控电极不良，提高良品率。本发明实施例的设计思路是，设置作为冗余触控引线的连接线，连接线与触控引线预先通过多个连接过孔连接，当触控引线和数据线出现短路时，通过截断触控引线来隔离短路点，以有效消除暗线不良和触控电极不良。

图3为本发明实施例触控显示基板的结构示意图。如图3所示，本发明实施例触控显示基板的主体结构包括栅线20、数据线30、薄膜晶体管40、像素电极50、触控引线60和连接线70，栅线20和数据线30垂直交叉限定若干个像素单元，薄膜晶体管40和像素电极50设置在每个像素单元内，触控引线60设置在相邻的像素单元之间。薄膜晶体管40用于在显示时段内将来自数据线30的显示信号加载到像素电极50上，触控引线60用于在触控时段向触控电极加载触控扫描信号。本发明实施例中，连接线70设置在触控引线60相对应的位置，且通过多个过孔与触控引线60连接。当数据线和触控引线在某处出现短路时，通过切断短路点两侧的触控引线60来隔离短路点，而切断点外侧的触控引线60通过连接线70导通。

本发明实施例所提供的触控显示基板，通过设置与触控引线通过多个连接过孔连接的连接线，可以有效消除因触控引线和数据线短路造成的暗线不良和触控电极不良，提高了良品率。当数据线和触控引线在某处出现短路时，将短路点两侧的触控引线断开，使短路点隔离，因而消除了触控引线和数据线短路问题，而断开的触控引线通过预先设置的连接线导通，使触控引线保证正常工作。

下面通过具体实施例详细说明本发明实施例的技术方案。

第一实施例

本实施例触控显示基板的主体结构包括栅线、数据线、薄膜晶体管、像素电极、触控引线和连接线，栅线和数据线垂直交叉限定若干个像素单元，薄膜晶体管和像素电极设置在每个像素单元内，触控引线设置在相邻的像素单元之间，并与触控电极连接。本实施例中，连接线与栅线同层设置且通过同一次构图工艺形成，覆盖栅线和连接线的第一绝缘层上开设有多个连接过孔，触控引线通过该多个连接过孔与连接线连接。

下面通过触控显示基板的制备过程进一步说明本实施例的技术方案。

图4A～图7B为本发明第一实施例制备触控显示基板的示意图。其中，本实施例中所说的“构图工艺”包括沉积膜层、涂覆光刻胶、掩模曝光、显影、刻蚀、剥离光刻胶等处理，是现有成熟的制备工艺。沉积可采用溅射、蒸镀、化学气相沉积等已知工艺，涂覆可采用已知的涂覆工艺，刻蚀可采用已知的方法，在此不做具体的限定。

首先，在基底上通过构图工艺形成栅线、栅电极和连接线图案。形成栅线、栅电极和连接线图案包括：在基底上沉积第一金属薄膜，在第一金属薄膜上涂覆一层光刻胶，采用单色调掩膜版对光刻胶进行曝光并显影，在栅线、栅电极和连接线图案位置形成未曝光区域，保留有光刻胶，在其它位置形成完全曝光区域，光刻胶被去除，对完全曝光区域的第一金属薄膜进行刻蚀并剥离剩余的光刻胶，在基底10上形成栅线20、栅电极11和连接线70图案，如图4A、图4B所示，图4B为图4A中A-A向的剖视图。其中，连接线70为条形状，长度方向垂直于栅线20，在垂直于栅线20方向，条形状连接线位于相邻的两个栅线20之间，在平行于栅线20方向，条形状70连接线的位置与后续形成的触控引线的位置相对应。

随后，在形成有前述图案的基底上，通过构图工艺形成有源层图案。形成有源层图案包括：沉积第一绝缘层和有源层薄膜，在有源层薄膜上涂覆一层光刻胶，采用单色调掩膜版对光刻胶进行曝光并显影，在有源层图案位置形成未曝光区域，保留有光刻胶，在其它位置形成完全曝光区域，光刻胶被去除，对完全曝光区域的有源层薄膜进行刻蚀并剥离剩余的光刻胶，形成第一绝缘层12和有源层13图案，第一绝缘层12覆盖栅线20、栅电极11和连接线70图案，有源层13设置在栅电极11的上方，如图5A、图5B所示，图5B为图5A中A-A向的剖视图。

随后，在形成有前述图案的基底上，通过构图工艺形成连接过孔图案。形成连接过孔图案包括：在第一绝缘层12上涂覆一层光刻胶，采用单色调掩膜版对光刻胶进行曝光并显影，在连接过孔图案位置形成完全曝光区域，光刻胶被去除，在其它位置形成未曝光区域，保留有光刻胶，对完全曝光区域的第一绝缘层进行刻蚀并剥离剩余的光刻胶，在连接线70上形成多个连接过孔14图案，连接过孔14内的第一绝缘层被刻蚀掉，暴露出连接线70的表面，如图6A、图6B所示，图6B为图6A中A-A向的剖视图。

随后，在形成有前述图案的基底上，通过构图工艺形成数据线、触控引线、源电极和漏电极图案。形成数据线、触控引线、源电极和漏电极图案包括：在形成有前述图案的基底上沉积第二金属薄膜，在第二金属薄膜上涂覆一层光刻胶，采用单色调掩膜版对光刻胶进行曝光并显影，在数据线、触控引线、源电极和漏电极图案位置形成未曝光区域，保留有光刻胶，在其它位置形成完全曝光区域，光刻胶被去除，对完全曝光区域的第二金属薄膜进行刻蚀并剥离剩余的光刻胶，形成数据线30、触控引线60、源电极15和漏电极16图案，如图7A、图7B所示，图7B为图7A中A-A向的剖视图。其中，源电极15与数据线30连接，漏电极16与源电极15相对设置，其间形成水平沟道，栅电极11、有源层13、源电极15和漏电极16形成薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)。触控引线60与数据线30平行，邻近数据线30的一侧形成双源结构，触控引线60通过多个连接过孔14与连接线70连接。

随后，在形成有前述图案的基底上，通过构图工艺依次形成钝化层、像素电极、层间绝缘层、触控电极等图案，钝化层上开设有暴露出漏电极的钝化层过孔，使像素电极通过钝化层过孔与漏电极连接，层间绝缘层上开设有暴露出触控引线的层间绝缘层过孔，使触控电极通过层间绝缘层过孔与触控引线连接，最后形成本实施例触控显示基板。形成钝化层、像素电极、层间绝缘层、触控电极等图案的过程与现有技术相同，这里不再赘述。

本实施例中，基底可以采用玻璃基底或石英基底。第一金属薄膜和第二金属薄膜可以采用铂Pt、钌Ru、金Au、银Ag、钼Mo、铬Cr、铝Al、钽Ta、钛Ti、钨W等金属中的一种或多种。第一绝缘层和钝化层可以采用氮化硅SiNx、氧化硅SiOx或SiNx/SiOx的复合薄膜。有源层的材料既可以是单晶硅，也可以采用多晶硅，形成低温多晶硅(Low Temperature Poly-Silicon，LTPS)薄膜晶体管，还可以采用金属氧化物，形成氧化物(Oxide)薄膜晶体管，金属氧化物材料可以是铟镓锌氧化物(Indium Gallium Zinc Oxide，IGZO)或铟锡锌氧化物(Indium Tin Zinc Oxide，ITZO)。像素电极和触控电极可以采用氧化铟锡ITO或氧化铟锌IZO。

需要说明的是，本实施例描述的制备触控显示基板的过程仅仅是一种示例，实际实施时，制备本实施例触控显示基板也可以采用更少的构图工艺或采用其它次序。例如，前述形成有源层图案和连接过孔图案，既可以采用本实施例的二次构图工艺，也可以通过采用半色调掩膜或灰色调掩技术的一次构图工艺形成，本实施例在此不做具体限定。

图8A和图8B为本发明第一实施例短路修复的示意图。如图8A和图8B所示，假设制备过程中出现了触控引线和数据线短路问题，且通过自动光学检测(Automatic OpticInspection，AOI)定位到短路点B。确定短路点B后，先根据短路点B位置分别确定短路点B两侧的两个连接过孔14，如邻近的两个连接过孔14，称之为第一连接过孔和第二连接过孔，随后采用激光切割(Laser Cutting)分别在第一连接过孔与短路点B之间的某一位置、在短路点B与第二连接过孔之间的某一位置进行切割，将两位置的触控引线60截断，形成第一截断点Q1和第二截断点Q2。此时，在数据线30和触控引线60所在膜层，由于短路点B两侧的触控引线60被截断，短路点B被第一截断点Q1和第二截断点Q2隔离，因而消除了触控引线和数据线短路问题，消除了暗线不良。由于触控引线60通过多个连接过孔14与预先形成的连接线70连接，第一截断点Q1外侧和第二截断点Q2外侧的触控引线60仍可以通过连接线70导通，触控引线60可以保证正常工作，消除了触控电极不良。

通过图4A～图7B所示的制备触控显示基板的过程可以看出，本实施例提出的在制备栅线时同时形成连接线且连接线的位置与后续形成的触控引线的位置相对应的方案，不仅有效消除了因触控引线和数据线短路造成的暗线不良和触控电极不良，而且不会影响触控显示基板的正常工作。具体地，由于一个触控电极覆盖多个像素，由一根触控引线控制，因此触控引线的数量比数据线的数量少，而且根据触控引线所连接的触控电极的位置，触控引线的长度也不同，因而使得所设置的连接线的数量较少，所设置的连接线的位置比较分散，对触控显示基板其它膜层的结构影响较小。由于目前的触控显示基板中，触控引线的下方没有设置其它结构，因此将连接线设置在触控引线的下方，不需修改现有设计，也不需改变现有工艺，在制备栅线的构图工艺中同时形成连接线即可。由于数据线附近布置有薄膜晶体管，如果将连接线设置在数据线下方，数据线下方的连接线以及过孔结构会影响到薄膜晶体管，降低薄膜晶体管的可靠性和工作性能。相比之下，本实施例将连接线设置在触控引线下方，与薄膜晶体管的距离较远，连接线的位置以及过孔结构不会影响薄膜晶体管，因此不会影响触控显示基板的正常工作。本实施例通过设置连接线，连接线与触控引线多点连接形成冗余触控引线，有效消除了因触控引线和数据线短路造成的暗线不良和触控电极不良，提高了良品率。当触控引线和数据线出现短路点时，将短路点两侧的触控引线断开，隔离短路点，而断开的触控引线通过连接线导通。

如图7A、图7B所示，本实施例触控显示基板包括：

基底10；

设置在基底10上的栅电极11、栅线20和连接线70；栅电极11与栅线20连接，连接线70为条形状，长度方向垂直于栅线20，设置在相邻的两个栅线20之间；

覆盖栅电极11、栅线20和连接线70的第一绝缘层12，第一绝缘层12上开设有暴露出连接线70的多个连接过孔14；

设置在第一绝缘层12上的有源层13；

设置在第一绝缘层12上的数据线30和触控引线60，设置在有源层13上的源电极15和漏电极16；源电极15的一端与数据线30连接，另一端设置在有源层13上，与设置在有源层13上的漏电极16的一端相对设置，其间区域形成水平沟道；触控引线60与数据线30同层，位于数据线30的一侧且与数据线30平行形成双源结构，触控引线60通过第一绝缘层12上开设的多个连接过孔14与作为冗余触控引线的连接线70连接。

进一步地，触控显示基板还包括覆盖数据线、触控引线、源电极和漏电极的钝化层，钝化层上开设有暴露出漏电极的钝化层过孔。设置在钝化层上的像素电极，像素电极通过钝化层过孔与漏电极连接。覆盖像素电极的层间绝缘层，层间绝缘层上开设有暴露出触控引线的层间绝缘层过孔。设置在层间绝缘层上的触控电极，触控电极通过层间绝缘层过孔与触控引线连接。

本实施例中，连接线与栅线同层设置，为条形状，条形状的长度方向垂直于栅线。在垂直于栅线方向，条形状连接线位于两个栅线之间，在平行于栅线方向，条形状连接线的位置与触控引线的位置相对应。本实施例中，连接线的位置与触控引线的位置相对应是指，在平行于栅线方向，连接线在基底上的正投影与触控引线在基底上的正投影重合，即连接线在基底上正投影的宽度等于触控引线在基底上正投影的宽度。实际实施时，连接线的宽度也可以大于触控引线的的宽度，但如果连接线宽度较大可能使连接线超出黑矩阵的覆盖范围，影响显示区域。实际实施时，连接线的宽度也可以小于触控引线的的宽度，但如果连接线宽度较小，可能会影响触控引线与连接线的连接可靠性，还会增加连接线的电阻。本实施例通过将连接线和触控引线的宽度相同，且位置相对应，既不会影响显示区域，也不会影响信号传输，且保证了触控引线与连接线的连接可靠性。

本实施例中，多个连接过孔是指至少2个连接过孔，2个连接过孔分别设置在条形状连接线的端部，端部为条形状连接线邻近栅线的位置。这样，只要出现的短路点位于任意2个连接过孔之间，将每个连接过孔与短路点之间某一位置的触控引线截断，即可消除短路点。实际实施时，连接过孔还可以设置3个、4个或多个，可以均匀设置在条形状的连接线上。

第二实施例

本实施例触控显示基板的主体结构与前述第一实施例相同，包括栅线、数据线、薄膜晶体管、像素电极、触控引线和连接线，栅线和数据线垂直交叉限定若干个像素单元，薄膜晶体管和像素电极设置在每个像素单元内，触控引线设置在相邻的像素单元之间，并与触控电极连接。不同于第一实施例的底栅结构，本申请实施例为顶栅结构。

本实施例触控显示基板的制备过程包括：首先，通过构图工艺在基底上形成遮挡层和有源层图案。随后，沉积第一绝缘层，通过构图工艺在第一绝缘层上形成栅电极、栅线和连接线图案。随后，沉积第二绝缘层，通过构图工艺在第二绝缘层形成有源层过孔和多个连接过孔图案，有源层过孔中的第一绝缘层和第二绝缘层被刻蚀掉，暴露出有源层的表面，多个连接过孔中的第二绝缘层被刻蚀掉，暴露出连接线的表面。随后，通过构图工艺在第二绝缘层上形成数据线、触控引线、源电极和漏电极，源电极和漏电极分别通过有源层过孔与有源层连接，触控引线通过多个连接过孔与连接线连接。随后，在形成有前述图案的基底上，通过构图工艺依次形成钝化层、像素电极、层间绝缘层、触控电极等图案。

本实施例触控显示基板包括：

基底；

设置在基底上的遮光层和有源层；

覆盖遮光层和有源层的第一绝缘层；

设置在第一绝缘层上的栅电极、栅线和连接线；栅电极与栅线连接，连接线为条形状，长度方向垂直于栅线，设置在相邻的两个栅线之间；

覆盖栅电极、栅线和连接线的第二绝缘层，第二绝缘层上开设有暴露出有源层的有源层过孔和暴露出连接线的多个连接过孔图案；

设置在第二绝缘层上的数据线、触控引线、源电极和漏电极，源电极的一端与数据线连接，另一端设置在有源层上，与设置在有源层上的漏电极的一端相对设置，其间区域形成水平沟道；触控引线与数据线同层，位于数据线的一侧且与数据线平行形成双源结构，触控引线通过多个连接过孔与作为冗余触控引线的连接线连接。

进一步地，触控显示基板还包括覆盖数据线、触控引线、源电极和漏电极的钝化层，钝化层上开设有暴露出漏电极的钝化层过孔。设置在钝化层上的像素电极，像素电极通过钝化层过孔与漏电极连接。覆盖像素电极的层间绝缘层，层间绝缘层上开设有暴露出触控引线的层间绝缘层过孔。设置在层间绝缘层上的触控电极，触控电极通过层间绝缘层过孔与触控引线连接。

与前述第一实施例相同，本实施例有效消除了因触控引线和数据线短路造成的暗线不良和触控电极不良，提高了良品率。

第三实施例

基于本发明的技术构思，前述实施例的技术方案还可以进行多方面扩展。作为一种实现方案，连接线可以设置在其它膜层内，而不一定与栅线同层，例如可以设置成与遮挡层同层。作为另一种实现方案，连接线可以设置在触控引线和数据线之上的膜层内，即相对于触控引线和数据线所在膜层，连接线设置在远离基底的膜层内，此时可以从基底背面进行触控引线切割。作为又一种实现方案，连接线可以单独设置在一个膜层内，通过一次单独的构图工艺制备。其它扩展本发明在此不做具体限定，上述扩展均可以实现有效消除因触控引线和数据线短路造成的暗线不良和触控电极不良，提高良品率。

第四实施例

基于前述实施例的发明构思，本实施例提供了一种触控显示基板的制备方法。图9为本发明实施例触控显示基板的制备方法的流程图。如图9所示，触控显示基板的制备方法包括：

S1、形成栅线和作为冗余触控引线的连接线；

S2、形成数据线和触控引线，所述触控引线通过多个连接过孔与所述连接线连接。

其中，形成栅线和作为冗余触控引线的连接线，包括：

形成栅线和连接线，所述连接线与数据线平行，设置在相邻的两个栅线之间；

形成覆盖所述栅线和连接线的绝缘层，所述绝缘层上开设有暴露出所述连接线的多个连接过孔。

其中，形成数据线和触控引线，所述触控引线通过多个连接过孔与所述连接线连接，包括：

在所述绝缘层上形成数据线和触控引线，所述触控引线为与数据线平行的双源结构，所述触控引线通过所述多个连接过孔与所述连接线连接。

其中，在平行于栅线方向，所述连接线在基底上的正投影与所述触控引线在基底上的正投影重合。

其中，所述多个连接过孔至少包括分别设置在所述连接线端部的2个连接过孔。

本实施例通过预先形成连接线，后续形成的触控引线通过多个过孔与连接线连接。有效消除了因触控引线和数据线短路造成的暗线不良和触控电极不良，提高了良品率。当触控引线和数据线出现短路点时，将短路点两侧的触控引线断开，隔离短路点，而断开的触控引线通过连接线导通。

第五实施例

基于前述实施例的发明构思，本实施例还提供了一种触控显示基板的修复方法。图10为本发明实施例触控显示基板的修复方法的流程图。其中，触控显示基板采用前述第一～第三实施例所描述的结构。如图10所示，触控显示基板的修复方法，包括：

T1、定位短路点后，分别确定所述短路点两侧的第一连接过孔和第二连接过孔；

T2、分别截断所述短路点与第一连接过孔之间、短路点与第二连接过孔之间的触控引线。

其中，短路点定位可以采用自动光学检测方式，截断触控引线可以采用激光切割方式。

本实施例通过预先设置连接线，连接线与触控引线通过多个过孔连接形成冗余触控引线，有效消除了因触控引线和数据线短路造成的暗线不良和触控电极不良，提高了良品率。当触控引线和数据线出现短路点时，将短路点两侧的触控引线断开，隔离短路点，而断开的触控引线通过连接线导通。

第六实施例

基于前述实施例的发明构思，本发明实施例还提供了一种触控显示装置，触控显示装置包括采用前述实施例的触控显示基板。触控显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。

在本发明实施例的描述中，需要理解的是，术语“中部”、“上”、“下”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

在本发明实施例的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

虽然本发明所揭露的实施方式如上，但所述的内容仅为便于理解本发明而采用的实施方式，并非用以限定本发明。任何本发明所属领域内的技术人员，在不脱离本发明所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化，但本发明的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种触控显示基板，其特征在于，包括由栅线和数据线限定的多个像素单元，以及设置在相邻像素单元之间的触控引线和作为冗余触控引线的连接线，所述触控引线通过多个连接过孔与所述连接线连接。

2.根据权利要求1所述的触控显示基板，其特征在于，所述触控引线与数据线同层且平行设置，形成双源结构。

3.根据权利要求1所述的触控显示基板，其特征在于，所述连接线与栅线同层设置，设置在相邻的两个栅线之间，与所述触控引线平行。

4.根据权利要求1所述的触控显示基板，其特征在于，在平行于栅线方向，所述连接线在基底上的正投影与所述触控引线在基底上的正投影重合。

5.一种触控显示面板，其特征在于，包括如权利要求1～4任一所述的触控显示基板。

6.一种触控显示基板的制备方法，其特征在于，包括：

形成栅线和作为冗余触控引线的连接线；

形成数据线和触控引线，所述触控引线通过多个连接过孔与所述连接线连接。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，形成栅线和作为冗余触控引线的连接线，包括：

形成栅线和连接线，所述连接线与数据线平行，设置在相邻的两个栅线之间；

形成覆盖所述栅线和连接线的绝缘层，所述绝缘层上开设有暴露出所述连接线的多个连接过孔。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，形成数据线和触控引线，所述触控引线通过多个连接过孔与所述连接线连接，包括：

在所述绝缘层上形成数据线和触控引线，所述触控引线为与数据线平行的双源结构，所述触控引线通过所述多个连接过孔与所述连接线连接。

9.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，在平行于栅线方向，所述连接线在基底上的正投影与所述触控引线在基底上的正投影重合。

10.一种触控显示基板的修复方法，其特征在于，触控显示基板包括由栅线和数据线限定的多个像素单元，以及设置在相邻像素单元之间的触控引线和作为冗余触控引线的连接线，所述触控引线通过多个连接过孔与所述连接线连接；所述修复方法包括：

定位短路点后，分别确定所述短路点两侧的第一连接过孔和第二连接过孔；

分别截断所述短路点与第一连接过孔之间、短路点与第二连接过孔之间的触控引线。