CN108780162A - 光学薄膜的制造方法以及模具 - Google Patents

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Abstract

本发明能够提供防污性以及耐磨性优良的光学薄膜的制造方法。本发明的光学薄膜的制造方法，包括：涂布下层树脂以及上层树脂的工序(1)；在已涂布的所述下层树脂以及所述上层树脂被层叠的状态下，从所述上层树脂侧将模具推压至所述下层树脂以及所述上层树脂，形成在表面具有所述凹凸构造的树脂层的工序(2)；使所述树脂层硬化的工序(3)，所述上层树脂包括含氟单体，所述模具的表面涂布有脱模剂，在涂布了所述脱模剂的所述模具的表面通过θ/2法测量的十六烷的接触角与通过X射线光电子能谱法测量的氟原子数相对于碳原子数、铝原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在规定范围内。

Description

光学薄膜的制造方法以及模具
技术领域
本发明涉及光学薄膜的制造方法以及模具。更详细地，涉及具有纳米尺寸的凹凸结构的光学薄膜的制造方法以及适用于上述光学薄膜的制造方法的模具。
背景技术
已知具有纳米尺寸的凹凸结构(纳米结构)的光学薄膜具有优良的抗反射性。根据这样的凹凸构造，由于从空气层到基材薄膜折射率连续地变化，从而能够急剧地减少反射光。
现有技术文献
非专利文献
[专利文献1]nanoscience株式会社，“XPS分析的豆知识”、“碳的化学状态(C1s的键能的迁移(化学迁移))”、“online”、2014年(平成28年2月17日检索)，网络(URL:http://www.)nanoscience.co.jp/knowledge/XPS/knowledge02.html)[非专利文献2]A.M.Ferraria等，“关于直接氟化的HDPE的XPS的研究：问题以及解决方案(XPS studies ofdirectly fluorinated HDPE:problems and solutions)”、Polymer 44、2003、pp.7241-7249[非专利文献3]Thermo Fisher Scientific株式会社(Thermo Fisher ScientificInc.)、“Oxygen”、“一般的化学状态的键能(Binding energies of common chemicalstates)”，“online”，2013年，(平成28年2月17日检索)，网络(URL:http://xpssimplified.)com/elements/oxygen.php)[非专利文献4]N.Stobie等，“银掺杂的全氟聚醚聚氨酯涂布：抗菌性以及表面解析(Silver Doped Perfluoropolyether-UrethaneCoatings:Antibacterial Activity and Surface Analysis)、Colloids and SurfacesB:Biointerfaces、Vol.”72、2009、pp.62-67
发明内容
发明要解决的问题
在制造这种光学薄膜之际，通常使用用于形成凹凸结构的模具。并且，为了提高脱模性，会对模具利用脱模剂实施表面处理，即实施脱模处理。但是，本发明者进行检讨之后发现，在使用了脱模剂的脱模效果不充分的模具的情况下，获得的光学薄膜的防水性以及防油性，即，防污性不充分。因此，存在在光学薄膜表面附着的指纹、油等污物容易扩散，进一步，擦去进入凸部之间的污物变得困难的问题。另外，也存在光学薄膜的表面的摩擦阻力变大(光滑性下降)、耐磨性下降的问题。
本发明鉴于上述现状而形成，其目的在于提供防污性以及耐磨性优良的光学薄膜的制造方法。另外，目的还在于提供制造防污性以及耐磨性优良的光学薄膜之时所使用的模具。
解决问题的方法
本发明者们着眼于，对防污性以及耐磨性优良的光学薄膜的制造方法进行各种检讨之后，涂布下层树脂以及上层树脂，在该二层树脂被层叠的状态下，将模具推压至两层，形成在表面具有纳米尺寸的凹凸结构的树脂层之后，使该树脂层硬化的方法。并且，发现通过使上层树脂包含含氟单体，光学薄膜的表面(凹凸结构的表面)的氟原子浓度高，其结果，防污性以及耐磨性提高。进一步，发现使用在表面涂布了含氟的脱模剂的模具，通过将在涂布了脱模剂的模具的表面的十六烷的接触角和氟原子的浓度设为规定范围，从而，光学薄膜的表面的氟原子的浓度显著提高，其结果，防污性以及耐磨性显著提高。通过上述，想到能成功解决上述问题，达到本发明。
即，本发明的一个方式为表面具有多个凸部以可见光波长以下的间隔设置的凹凸构造的光学薄膜的制造方法，其可以包括：涂布下层树脂以及上层树脂的工序(1)；在已涂布的上述下层树脂以及上述上层树脂被层叠的状态下，从上述上层树脂侧将模具推压至上述下层树脂以及上述上层树脂，形成在表面具有上述凹凸构造的树脂层的工序(2)；使上述树脂层硬化的工序(3)，上述上层树脂包括含氟单体，上述模具的表面涂布有脱模剂，上述脱模剂含有碳原子、氧原子以及氟原子作为构成原子，上述模具含有铝原子以及氧原子作为构成原子，在涂布了上述脱模剂的上述模具的表面滴下十六烷，当将通过θ/2法测量的紧跟着十六烷滴下后的接触角定义为θA(单位：°)，将十六烷滴下四分钟之后的接触角定义为θB(单位：°)时，θA以及θB为85°以上，且θA与θB之差为3.5°以下，通过X射线光束直径100μm，分析面积1000μm×500μm，以及光电子的取出角度45°的条件下的X射线光电子能谱法测量的涂布了上述脱模剂的上述模具表面的氟原子数相对于碳原子数、铝原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在30atm％以上。
本发明的另一个方式为多个凹部以可见光波长以下的间隔设置于表面的模具，上述模具的表面配置有脱模剂，上述脱模剂含有碳原子、氧原子以及氟原子作为构成原子，上述模具含有铝原子以及氧原子作为构成原子，在配置了上述脱模剂的上述模具的表面滴下十六烷，当将通过θ/2法测量的紧跟着十六烷滴下后的接触角定义为θA(单位：°)，将十六烷滴下四分钟之后的接触角定义为θB(单位：°)时，θA以及θB为85°以上，且θA与θB之差为3.5°以下，通过X射线光束直径100μm，分析面积1000μm×500μm，以及光电子的取出角度45°的条件下的X射线光电子能谱法测量的配置了上述脱模剂的上述模具表面的氟原子数相对于碳原子数、铝原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在30atm％以上。
发明效果
根据本发明，能够提供防污性以及耐磨性优良的光学薄膜的制造方法。另外，能够提供制造防污性以及耐磨性优良的光学薄膜之时所使用的模具。
附图的简单说明
图1是用于说明实施方式一的光学薄膜的制造步骤的剖面示意图(工序a～d)。
图2是表示实施方式一的模具的剖面示意图。
图3是用于说明实施方式二的光学薄膜的制造步骤的剖面示意图(工序a～e)。
图4是用于说明实施方式三的光学薄膜的制造步骤的剖面示意图(工序a～d)。
图5是用于说明实施方式四的光学薄膜的制造步骤的剖面示意图(工序a～e)。
图6是表示实施例一至三以及对比例一、二的光学薄膜的表面的窄谱的图表，(a)表示C1s峰，(b)表示N1s峰，(c)表示O1s峰，(d)表示F1s峰。
图7是表示图6(a)中的实施例一的C1s峰的解析结果的图表。
图8是表示图6(a)中的实施例二的C1s峰的解析结果的图表。
图9是表示图6(a)中的实施例三的C1s峰的解析结果的图表。
图10是表示图6(a)中的对比例一的C1s峰的解析结果的图表。
图11是表示图6(a)中的对比例二的C1s峰的解析结果的图表。
图12是表示图6(c)中的实施例一的O1s峰的解析结果的图表。
图13是表示图6(c)中的实施例二的O1s峰的解析结果的图表。
图14是表示图6(c)中的实施例三的O1s峰的解析结果的图表。
图15是表示图6(c)中的对比例一的O1s峰的解析结果的图表。
图16是表示图6(c)中的对比例二的O1s峰的解析结果的图表。
发明的实施方式
以下揭示实施方式，关于本发明参照附图更详细地进行说明，但本发明并不仅限于这些实施方式。另外，各实施方式的构成在不脱离本发明主旨的范围内可以适当组合、变更。
[实施方式一]
参照图1在以下说明实施方式一的光学薄膜的制造方法。图1是用于说明实施方式一的光学薄膜的制造步骤的剖面示意图(工序a～d)。
(a)下层树脂以及上层树脂的涂布
首先，如图1(a)所示，在基材薄膜2上涂布下层树脂5a。另一方面，在模具6上涂布上层树脂5b。模具6的表面预先涂布有脱模剂7。
作为下层树脂5a以及上层树脂5b的涂布方法没有特别限定，可举出以喷射法、凹版印刷法、狭缝式模头挤出涂布法等涂布的方法。从能够容易调整膜厚，且降低装置成本的观点来看，优选以喷射法来涂布的方法。其中，还特别优选使用旋流喷嘴、静电喷嘴或者超声波喷嘴来涂布。
(b)凹凸构造的形成
如图1的(b)所示，将涂布有上层树脂5b的模具6从上层树脂5b侧推压到涂布于基材薄膜2的下层树脂5a，使上层树脂5b层叠于下层树脂5a上的同时形成凹凸结构。其结果，形成与基材薄膜2的相反一侧的表面具有凹凸结构的树脂层8。树脂层8为下层树脂5a以及上层树脂5b一体化，不存在二者的界面的树脂层。
(c)树脂层的硬化
使形成有凹凸结构的树脂层8硬化(聚合)。其结果，形成如图1的(c)所示的聚合体层3(树脂层8的硬化物)。
树脂层8的硬化优选利用活性能量射线的照射来进行。本说明书中，活性能量射线是指紫外线、可见光线、红外线、等离子体等。树脂8优选为利用紫外线硬化的树脂。活性能量射线的照射可以从基材薄膜2一侧进行，也可以从树脂8一侧进行。另外，对树脂8的活性能量射线的照射次数没有特别限定，可以仅为一次，也可以为多次。
(d)模具的剥离
从聚合体层3剥离表面涂布有脱模剂7的模具6。其结果，完成图1的(d)所示的光学薄膜1。形成于聚合体层3的与基材薄膜2相反的一侧的表面的凹凸结构，相当于多个凸部(突起)4以可见光波长以下的间隔(相邻凸部4的顶点间的距离)P设置的构造，即，蛾眼构造(蛾的眼睛状的构造)。由此，光学薄膜1相当于在表面具有蛾眼构造的抗反射薄膜。由此，光学薄膜1能够表现出由蛾眼构造带来的优良的抗反射性(低反射性)。
在上述制造步骤中，如果将基材2设为辊状的话，就能够连续并有效地进行上述步骤(a)～(d)。
接下来，关于制造光学薄膜1之时所使用的各部件，说明如下。
作为基材2的材料可以列举三醋酸纤维素(TAC)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、甲基丙烯酸甲酯(MMA)、环烯烃聚合物(COP)、聚碳酸酯(PC)等，只要根据使用环境选择即可。根据这样的材料，能够获得硬度高且透明性以及耐候性优良的基材薄膜2。基材2的表面可以实施了易粘着处理，例如能够使用实施了易粘着处理的三醋酸纤维素薄膜(TAC薄膜)等。基材2的表面也可以实施了皂化处理，例如能够使用实施了皂化处理的三醋酸纤维素薄膜(TAC薄膜)等。
基材2的厚度没有特别限定，从保证透明性以及加工性的观点来看，优选为10μm以上、120μm以下，更优选为40μm以上、80μm以下。
上层树脂5b包含含氟单体。通过上层树脂5b包含含氟单体，聚合体层3的与基材薄膜2相反的一侧的表面的氟原子浓度提高。其结果，聚合体层3的表面能降低，能够获得防污性优良的光学薄膜1。另外，聚合体层3的与基材薄膜2相反的一侧的表面的光滑性提高，能够获得耐磨性优良的光学薄膜1。
含氟单体优选具有反应性部位和包含从氟烷基、氟氧烷基、氟烯基、氟亚烷基以及氟氧基亚烷基构成的群中选择的至少一个的部位。
反应性部位是指利用光、热等外部能量与其他成分发生反应的部位。作为这些反应性部位，例如，可举出：烷氧基硅烷基、甲硅烷基醚基团、烷氧基硅烷基水解后的硅醇基、羧基、羟基、环氧基、乙烯基、烯丙基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基等。作为反应性部位，从反应性以及操作性的观点出发，优选烷氧基硅烷基、甲硅烷基醚基团、硅醇基、环氧基、乙烯基、烯丙基、丙烯酰基或者甲基丙烯酰基，更优选乙烯基、烯丙基、丙烯酰基、或者甲基丙烯酰基，特别优选丙烯酰基或者甲基丙烯酰基。
氟烷基、氟氧烷基、氟烯基、氟亚烷基以及氟氧基亚烷基分别是将烷基、氧烷基、烯基、亚烷基以及氧基亚烷基所具有的氢原子的至少一部分由氟原子取代了的取代基。氟烷基、氟氧烷基、氟烯基、氟亚烷基以及氟氧基亚烷基均为主要由氟原子以及碳原子构成的取代基，其构造中可以存在分支部，也可以多个这些取代基相连结。
含氟单体的一个例子，以下述一般式(A)所表示。
Rf1-R2-D1(A)
上述一般式(A)中，Rf1表示包含从氟烷基、氟氧烷基、氟烯基、氟亚烷基以及氟氧基亚烷基构成的群中选择的至少一个的部位。R2表示亚烷基、次烷基、或者从它们导出的酯结构、聚氨酯结构、醚结构、三嗪结构。D1表示反应性部位。
作为上述通式(A)所表的含氟单体，例如可举出：2,2,2-三氟乙基丙烯酸酯，2,2,3,3,3-五氟丙基丙烯酸酯，2-全氟丁基乙基丙烯酸酯、3-全氟丁基-2-羟基丙基丙烯酸酯、2-全氟己基乙基丙烯酸酯、3-全氟己基-2-羟基丙基丙烯酸酯、2-全氟辛基乙基丙烯酸酯、3-全氟辛基-2-羟基丙基丙烯酸酯、2-全氟癸基乙基丙烯酸酯、2-全氟-3-甲基丁基乙基丙烯酸酯、3-全氟-3-甲氧基丁基-2-羟基丙基丙烯酸酯、2-全氟-5-甲基己基乙基丙烯酸酯、3-全氟-5-甲基己基-2-羟基丙基丙烯酸酯、2-全氟-7-甲基辛基-2-羟基丙基丙烯酸酯、四氟丙基丙烯酸酯、八氟戊基丙烯酸酯、十二氟庚基丙烯酸酯、十六氟壬基丙烯酸酯、六氟丁基丙烯酸酯、2,2,2-三氟乙基甲基丙烯酸酯、2,2,3,3,3-五氟丙基甲基丙烯酸酯、2-全氟丁基乙基甲基丙烯酸酯、3-全氟丁基-2-羟基丙基甲基丙烯酸酯、2-全氟辛基乙基甲基丙烯酸酯、3-全氟辛基-2-羟基丙基甲基丙烯酸酯、2-全氟癸基乙基甲基丙烯酸酯、2-全氟-3-甲基丁基乙基甲基丙烯酸、3-全氟-3-甲基丁基-2-羟基丙基甲基丙烯酸酯、2-全氟-5-甲基己基乙基甲基丙烯酸酯、3-全氟-5-甲基己基-2-羟基丙基甲基丙烯酸酯、2-全氟-7-甲基辛基乙基甲基丙烯酸酯、3-全氟-7-甲基辛基乙基甲基丙烯酸酯、四氟丙基甲基丙烯酸酯、八氟戊基甲基丙烯酸酯、十二氟庚基甲基丙烯酸酯、十六氟壬基甲基丙烯酸酯、1-三氟甲基三氯乙基甲基丙烯酸酯、六氟丁基甲基丙烯酸酯、三丙烯酰-十七氟壬烯基-季戊四醇等。
作为含氟单体的优选材料，列举例如具有含氟聚醚部位的材料。含氟聚醚部位为由氟烷基、氧氟烷基、氟代氧烷基二基构成的部位，以下述一般式(B)或(C)所代表的构造。
CFn1H(3-n1)-(CFn2H(2-n2))kO-(CFn3H(2-n3))mO-(B)
-(CFn4H(2-n4))pO-(CFn5H(2-n5))sO-(C)
上述一般式(B)以及(C)中，n1为1～3的整数，n2～n5为1或2，k、m、p以及s为0以上的整数。作为n1～n5的优选组合是，n1为2或3，n2～n5为1或2的组合，作为更优选的组合是，n1为3，n2以及n4为2，n3以及n5为1或2的组合。
含氟聚醚部位中所包含的碳数优选为4以上、12以下，更优选为4以上、10以下，进一步优选为6以上、8以下。在碳数不足4的情况下，存在表面能降低的可能。碳数多于12的情况下，存在向溶剂的溶解性降低的可能。此外，含氟单体可以在每一分子中具有多个含氟聚醚部位。
作为包含含氟单体作为构成成分的含氟化合物中的公知的化合物，例如可举出：大金工业株式会社制造的氟系添加剂(产品名：OPTOOL(注册商标)DAC-HP)、大金工业株式会社制造的氟系添加剂(产品名：OPTOOLDSX)、大金工业株式会社制造的氟系添加剂(产品名：OPTOOLAES4)、旭硝子株式会社制造的氟系添加剂(产品名：Afluid)、DIC株式会社制造的氟系添加剂(产品名：Megafac(注册商标)RS-76-NS)、DIC株式会社制造的氟系添加剂(产品名：Megafac RS-75)、油脂产品株式会社制造的氟系添加剂(产品名：C10GACRY)、油脂产品株式会社制造的氟系添加剂(产品名：C8HGOL)等。含氟化合物优选利用紫外线进行聚合，更优选具有-OCF2-链以及/或者＝NCO-链。上层树脂5b可以包含一种含氟化合物，也可以包含多种含氟化合物。
含氟单体可以也包含在下层树脂5a中。这种情况下，优选上层树脂5b中的含氟单体的浓度比下层树脂5a中的含氟单体的浓度高。下层树脂5a优选不包含含氟单体。
优选上层树脂5b中的含氟单体的浓度比0重量％高，且在10重量％以下。上层树脂5b中的含氟单体的浓度比10重量％高的情况下，由于含氟单体过多，存在发生渗出以及成本上升的危险。
下层树脂5a以及上层树脂5b可以分别适当包含多官能团丙烯酸酯、单官能团丙烯酸酯、聚合引发剂等。
作为多官能团丙烯酸酯，例如可举出：聚氨酯丙烯酸酯；乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯；季戊四醇三丙烯酸酯；1,9-壬二醇二丙烯酸酯；二季戊四醇六丙烯酸酯；三季戊四醇丙烯酸酯、单和二季戊四醇丙烯酸酯以及聚季戊四醇丙烯酸酯的混合物；乙氧基化聚甘油聚丙烯酸酯；三羟甲基丙烷三丙烯酸酯；烷氧基化二季戊四醇聚丙烯酸酯；聚乙二醇200二丙烯酸酯；聚乙二醇300二丙烯酸酯；聚乙二醇400二丙烯酸酯；聚乙二醇600二丙烯酸酯；六官能聚酯丙烯酸酯；乙氧基化甘油三丙烯酸酯；1,6-己二醇二丙烯酸酯；三丙二醇二丙烯酸酯；乙氧基化(4摩尔加合物)双酚A二丙烯酸酯；二丙二醇二丙烯酸酯等。作为聚氨酯丙烯酸酯中公知的产品，例如可举出：共荣社化学株式会社制造的多官能团丙烯酸酯(产品名：UA-306H)、新中村化学工业株式会社制造的多官能团丙烯酸酯(产品名：U-10PA)、新中村化学工业株式会社制造的多官能团丙烯酸酯(产品名：UA-7100)等。作为乙氧基化季戊四醇四丙烯酸酯中公知的产品，例如可举出：新中村化学工业株式会社制造的多官能团丙烯酸酯(产品名：ATM-35E)等。作为季戊四醇三丙烯酸酯中公知的产品，例如可举出：新中村化学工业株式会社制造的多官能团丙烯酸酯(产品名：A-TMM-3LM-N)、新中村化学工业株式会社制造的多官能团丙烯酸酯(产品名：A-TMM-3L)、第一工业制药株式会社制造的多官能团丙烯酸酯(产品名：PET-3)等。作为1,9-壬二醇二丙烯酸酯中公知的产品，例如可举出：新中村化学工业株式会社制造的多官能团丙烯酸酯(产品名：A-NOD-N)等。作为二季戊四醇六丙烯酸酯中公知的产品，例如可举出：共荣社化学株式会社制造的多官能团丙烯酸酯(产品名：轻质丙烯酸酯DPE-6A)、新中村化学工业株式会社制造的多官能团丙烯酸酯(产品名：A-DPH)等。作为三季戊四醇丙烯酸酯、单和二季戊四醇丙烯酸酯以及聚季戊四醇丙烯酸酯的混合物，例如可举出：大阪有机化学工业株式会社制造的多官能团丙烯酸酯(产品名：Viscoat#802)等。作为乙氧基化聚甘油聚丙烯酸酯，例如可举出：新中村化学工业株式会社制造的多官能团丙烯酸酯(产品名：NK ECONOMER(注册商标)A-PG5027E)等。作为三羟甲基丙烷三丙烯酸酯中公知的产品，例如可举出：共荣社化学株式会社制造的多官能团丙烯酸酯(产品名：轻质丙烯酸酯TMP-A)等。作为烷氧基化二季戊四醇聚丙烯酸酯中公知的产品，例如可举出：日本化药株式会社制造的多官能团丙烯酸酯(产品名：KAYARAD(注册商标)DPEA-12)、日本化药株式会社制造的多官能团丙烯酸酯(产品名：KAYARAD DPCA-30)等。作为聚乙二醇200二丙烯酸酯中公知的产品，例如可举出：第一工业制药株式会社制造的多官能团丙烯酸酯(产品名：PE-200)等。作为聚乙二醇300二丙烯酸酯中公知的产品，例如可举出：第一工业制药株式会社制造的多官能团丙烯酸酯(产品名：PE-300)等。作为聚乙二醇400二丙烯酸酯中公知的产品，例如可举出：新中村化学工业株式会社制造的多官能团丙烯酸酯(产品名：A-400)等。作为聚乙二醇600二丙烯酸酯中公知的产品，例如可举出：新中村化学工业株式会社制造的多官能团丙烯酸酯(产品名：A-600)等。作为六官能聚酯丙烯酸酯中公知的产品，例如可举出：Daicel Orneex株式会社制造的多官能团丙烯酸酯(产品名：EBECRYL(注册商标)450)等。作为乙氧基化甘油三丙烯酸酯中公知的产品，例如可举出：新中村化学工业株式会社制造的多官能团丙烯酸酯(产品名：A-GLY-9E)等。作为1，6-己二醇二丙烯酸酯中公知的产品，例如可举出：新中村化学工业株式会社制造的多官能团丙烯酸酯(产品名：A-HD-N)等。作为三丙二醇二丙烯酸酯中公知的产品，例如可举出：新中村化学工业株式会社制造的多官能团丙烯酸酯(产品名：APG-200)等。作为乙氧基化(4摩尔加合物)双酚A二丙烯酸酯中公知的产品，例如可举出：新中村化学工业株式会社制造的多官能团丙烯酸酯(产品名：A-BPE-4)等。作为二丙二醇二丙烯酸酯中的公知的产品，例如可举出：新中村化学工业株式会社制造的多官能团丙烯酸酯(产品名：APG-100)等。下层树脂5a以及上层树脂5b可以分别包含一种多官能团丙烯酸酯，也可以包含多种多官能团丙烯酸酯。
作为单官能团丙烯酸酯中含有烷基的单官能团丙烯酸酯，例如，可举出丙烯酸十二酯、丙烯酸十八酯等。作为丙烯酸十二酯中公知的产品，例如可举出：新中村化学工业株式会社制造的单官能团丙烯酸酯(产品名：LA)等。作为丙烯酸十八酯中公知的产品，例如可举出：日油株式会社制造的单官能团丙烯酸酯(产品名：Blemmer(注册商标)SA)等。
作为单官能团丙烯酸酯中含有环氧乙烷基或者环氧丙烷基的单官能团丙烯酸酯，例如可举出聚乙二醇丙烯酸酯、聚(丙二醇)丙烯酸酯等。作为聚乙二醇丙烯酸酯中公知的产品，例如可举出：新中村化学工业株式会社制造的多官能团丙烯酸酯(产品名：AM-90G)等。作为聚(丙二醇)丙烯酸酯中公知的产品，例如可举出：日油株式会社制造的单官能团丙烯酸酯(产品名：Blemmer AP-400)等。
作为单官能团丙烯酸酯中含有羟基的单官能团丙烯酸酯，例如可举出：甲基丙烯酸-2-羟基乙酯、丙烯酸-4-羟基丁酯等。作为甲基丙烯酸-2-羟基乙酯中公知的产品，例如可举出：株式会社日本触媒制造的单官能团丙烯酸酯(产品名：2HEMA)等。作为丙烯酸-4-羟基丁酯中公知的产品，例如可举出：日本化成株式会社制造的单官能团丙烯酸酯(产品名：4HBA)等。
作为单官能团丙烯酸酯中，含有酰胺基的单官能团丙烯酸酯(以下、也称为单官能团酰胺单体。)例如可举出：N-丙烯酰吗啉、N,N-二甲基丙烯酰胺、N,N-二乙基丙烯酰胺、N-乙烯基-2-吡咯烷酮、N,N-二甲基甲基丙烯酰胺、N-甲氧基-N-甲基-3-苯基-丙烯酰胺等。作为N-丙烯酰吗啉中公知的产品，例如可举出：KJ化工株式会社制造的单官能团酰胺单体(产品名：ACMO(注册商标))等。作为N,N-二甲基丙烯酰胺中公知的产品，例如可举出：KJ化工株式会社制造的单官能团酰胺单体(产品名：DMAA(注册商标))等。作为N,N-二乙基丙烯酰胺中公知的产品，例如可举出：KJ化工株式会社制造的单官能团酰胺单体(产品名：DEAA(注册商标))等。作为N-乙烯基-2-吡咯烷酮中的公知的产品，例如可举出：株式会社日本触媒制造的单官能团酰胺单体(产品名：N-乙烯基吡咯烷酮)等。作为N,N-二甲基甲基丙烯酰胺中公知的产品，例如可举出：东京化成工业株式会社制造的单官能团酰胺单体(产品代码：D0745)等。作为N-甲氧基-N-甲基-3-苯基-丙烯酰胺中公知的产品，例如可举出：西格玛奥德里奇株式会社制造的单官能团酰胺单体等。
下层树脂5a包含单官能团酰胺单体的情况下，酰胺基的氢键结合力能够提高基材薄膜2与聚合体层3的粘着性。特别是，在基材薄膜2包含高极性的三醋酸纤维素的情况下，更具体地，即使在基材薄膜2的至少聚合体层3一侧的表面存在三醋酸纤维素的情况下，也能够提高基材薄膜2与聚合体层3的粘着性。优选单官能团酰胺单体包含N,N-二甲基丙烯酰胺以及N,N-二乙基-2-丙烯酰胺中的至少一个。由于N,N-二甲基丙烯酰胺以及N,N-二乙基-2-丙烯酰胺在单官能团酰胺单体中也算分子量大，玻璃转变温度低，因此，即使含量少，也能够适于提高基材薄膜2与聚合体层3的粘着性。
下层树脂5a以及上层树脂5b可以分别包含一种单官能团丙烯酸酯，也可以包含多种单官能团丙烯酸酯。
作为聚合引发剂，例如可举出：光聚合引发剂等。光聚合引发剂相对于活性能量射线是活性的，并且是为了引发单体聚合的聚合反应而添加的引发剂。作为光聚合引发剂，例如，可采用自由基聚合引发剂、阴离子聚合引发剂、阳离子聚合引发剂等。这种光聚合引发剂，例如可举出：对-叔丁基三氯苯乙酮、2，2′-二乙氧基苯乙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮等苯乙酮类；二苯甲酮、4，4′-双二甲基氨基二苯甲酮、2-氯噻吨酮、2-甲基噻吨酮、2-乙基噻吨酮、2-异丙基噻吨酮等酮类；安息香、安息香甲基醚、安息香异丙基醚、安息香异丁基醚等安息香醚类；苄基二甲基缩酮、羟基环己基苯基酮等苄缩酮类；(2,4,6-三甲基苯甲酰基)二苯基氧化膦、苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦等的酰基氧化膦类；1-羟基环己基苯基甲酮等的烷基酚类等。作为(2,4,6-三甲基苯甲酰基)二苯基氧化膦中的公知产品，可举出BASF公司制造的光聚合引发剂(产品名称：IRGACURE(注册商标)TPO)等。作为苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦中的公知产品能，可举出BASF公司制造的光聚合引发剂(产品名称：IRGACURE819)等。作为1-羟基环己基苯基甲酮中的公知产品可举出BASF公司制造的光聚合引发剂(产品名称：IRGACURE 184)等。
优选下层树脂5a以及上层树脂5b中的至少一个不含有溶剂。即，优选下层树脂5a以及上层树脂5b中的至少一个为无溶剂系。当下层树脂5a以及上层树脂5b中的至少一个为无溶剂系时，能够降低溶剂使用时的成本以及环境面上的负担(使用时的臭气等)。进一步，不需要用于干燥并除去溶剂的装置，能够降低装置成本。另一方面，在上层树脂5b含有溶剂时，含氟单体过度混杂，存在氟原子难以在聚合体层3的与基材2相反的一侧的表面取向的可能。
下层树脂5a的厚度Da虽然没有特别限定，但优选，例如5μm以上、10μm以下。下层树脂5a的厚度Da小于5μm时，存在下层树脂5a的涂布性下降(产生斑点、镜头缺陷等缺点)的可能。下层树脂5a的厚度Da大于10μm时，存在获得的光学薄膜1容易卷曲的可能。如图1的(a)所示，本实施方式的下层树脂5a的厚度Da是指从基材薄膜2一侧的表面到与基材薄膜2相反的一侧的表面的距离。
优选下侧树脂5a的粘度在25℃时，高于10cp，且小于10000cp。下侧树脂5a的25℃时的粘度高于10cp时，在下层树脂5a以及上层树脂5b被层叠的状态下，上层树脂5b中的含氟单体难以混入下层树脂5a中，上层树脂5b(聚合体层3)的与基材薄膜2相反的一侧的表面的氟原子浓度容易提高。下层树脂5a的25℃时的粘度小于10000cp时，下层树脂5a的涂布性提高，容易控制下层树脂5a的厚度。
上层树脂5b的厚度Db虽然没有特别限定，但优选为，例如0.5μm以上、2μm以下。如图1的(a)所示，本实施方式的上层树脂5b的厚度Db是指从与模具6的凹部的底点相对应的位置到与模具6(脱模剂7)相反的一侧的表面的距离。
上层树脂5b的粘度在25℃时，优选高于0.1cp高，且小于100cp。上层树脂5b的25℃时的粘度高于0.1cp时，上层树脂5b的涂布性提高，容易控制上层树脂5b的厚度。上层树脂5b的25℃时的粘度小于100cp时，较佳地确保上层树脂5b中的含氟单体的流动性。因此，在下层树脂5a以及上层树脂5b被层叠的状态下，上层树脂5b中的含氟单体难以混入下层树脂5a中，上层树脂5b(聚合体层3)的与基材薄膜2相反的一侧的表面的氟原子浓度容易提高。
模具6在表面具有以可见光的波长以下的间距(相邻凹部的底点之间的距离)Q设置的多个凹部。因此，根据模具6，能够在树脂层8的表面形成蛾眼结构。
模具6包括铝原子以及氧原子作为构成原子。作为模具6，能够使用例如，通过下述方法制作的模具。首先，通过溅射法使成为模具6的材料的铝在支撑基材上成膜。接下来，对于成膜了的铝层，能够通过交替地重复阳极氧化以及刻蚀，制作蛾眼构造的母模(模具6)。此时，通过调整进行阳极氧化的时间以及进行刻蚀的时间，能够使模具6的凹凸结构变化。
作为支撑基板的材料，可举出例如，玻璃、不锈钢、镍等金属材料；聚丙烯、聚甲基戊烯、环烯系高分子(作为代表，降冰片烯系树脂等的日本瑞翁株式会社制造的“ZEONOR(注册商标)”、JSR株式会社制的“ARTON(注册商标)”)等聚烯烃系树脂；聚碳酸酯树脂、聚乙烯对苯二甲酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、三醋酸纤维素等树脂材料等。另外，代替在支撑基材表面使铝成膜，也可以使用铝制的基材。
作为模具6的形状，例如，可举出平板状、辊状等。
虽然，相邻凹部之间的间隔Q只要是可见光的波长(780nm)以下的话，就没有特别限定，但从实现后述光学薄膜1的相邻凸部4之间的优选间隔P的观点来看，优选为100nm以上、400nm以下，更优选为100nm以上、200nm以下。在本说明书中,模具的相邻凹凸之间的间隔,是指位于由株式会社日立高新技术制造的扫描电子显微镜(商品名：S-4700)拍摄的平面照片的1μm见方的区域内的，所有相邻凹部之间的距离的平均值。
模具6的表面涂布有脱模剂7。因此,在上述工序(d)中,能够容易地从聚合体层3剥离模具6。进一步，能够降低模具6的表面能。因此，在上述工序(b)中，当从上层树脂5b侧将模具6推压至下层树脂5a时，能够使氟原子在上层树脂5b的与基材薄膜2相反的一侧的表面有效地取向。进一步，能够防止在使树脂层8硬化之前，氟原子从树脂层8的与基材薄膜2相反的一侧的表面脱离。因此，在光学薄膜1中，能够使氟原子在聚合体层3的与基材薄膜2相反的一侧的表面有效地取向。
脱模剂7包括碳原子、氧原子以及氟原子作为构成原子。由于脱模剂7含有氟原子，与上层树脂5b中的含氟单体的相互作用增强，能够使上层树脂5b中的氟原子在与基材薄膜2相反的一侧的表面更有效地取向。
作为脱模剂7，可举出例如：包含含氟化合物的脱模剂。作为含氟化合物中的公知的化合物，例如可举出：大金工业株式会社制造的氟系添加剂(产品名：OPTOOL(注册商标)DAC-HP)、大金工业株式会社制造的氟系添加剂(产品名：OPTOOLDSX)、大金工业株式会社制造的氟系添加剂(产品名：OPTOOLAES4)、旭硝子株式会社制造的氟系添加剂(产品名：Afluid)、DIC株式会社制造的氟系添加剂(产品名：Megafac(注册商标)RS-76-NS)、DIC株式会社制造的氟系添加剂(产品名：Megafac RS-75)、油脂产品株式会社制造的氟系添加剂(产品名：C10GACRY)、油脂产品株式会社制造的氟系添加剂(产品名：C8HGOL)等。
例如，大金工业株式会社制造的“OPTOOL DAC-HP”是混合了下述材料之物。此外，赋予各材料的数值表示各材料的混合比例。
·含氟化合物：15重量％以上、25重量％以下
·1,1,2,2,3,3,4-七氟环戊烷：45重量％以上、55重量％以下
·丙二醇单甲醚：25重量％以上、35重量％以下
例如，大金工业株式会社制造的“OPTOOL DSX”是混合了下述材料之物。此外，赋予各材料的数值表示各材料的混合比例。
·含氟化合物：15重量％以上、25重量％以下
·全氟己烷：75重量％以上、85重量％以下
在涂布了脱模剂7的模具6的表面滴下十六烷，当将通过θ/2法测量的紧跟着十六烷滴下后的接触角定义为θA(单位：°)，将十六烷滴下四分钟之后的接触角定义为θB(单位：°)时，为θA以及θB为85°以上，且θA与θB之差为3.5°以下。优选θA以及θB为90°以上，且θA与θB之差为3°以下。虽然希望θA以及θB越大越好，θA以及θB的优选上限值为150°。本说明书中，涂布(配置)了脱模剂的模具的表面，实质上包含涂布(配置)在模具上的脱模剂的表面(与模具相反的一侧的表面)。在本说明书中，紧跟着十六烷的滴下后，是指在滴下的十六烷接触涂布(配置)了脱模剂的模具的表面之后0.5秒以内。在本说明书中，接触角使用协和界面科学株式会社制造的便携接触角计(产品名：PCA-1)，通过θ/2法((θ/2＝arctan(h/r)，θ：接触角，r：液滴半径，h：液滴的高度)来测量的三个位置的接触角的平均值。此处，作为第一个位置的测量点，选择试样的中央部分，作为第二个位置以及第三个位置的测量点，选择在试样的长边方向上距离第一个位置的测量点25mm，且相对于第一个位置的测量点位于彼此点对称位置的两个点。
通过X射线光束直径100μm，分析面积1000μm×500μm，以及光电子的取出角度45°的条件下的X射线光电子能谱法(XPS:X-ray Photoelectron Spectroscopy)测量的涂布了脱模剂7的模具6表面的氟原子数相对于碳原子数、铝原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例(以下，也称为含氟率。)在30atm％以上。涂布有脱模剂7的模具6表面的含氟率优选为43atom％以上，更优选为49atom％以上。涂布有脱模剂7的模具6表面的含氟率的优选上限值为55atom％，更优选的上限值为50atom％。涂布有脱模剂7的模具6表面的含氟率高于55atom％以上时，存在获得的聚合体层3产生白浊的可能。本说明书中，含氟率使用ULVAC-PHI社制造的X射线光电子能谱分析装置(商品名：PHI Quantera SXM)来测量，其装置规格是如下这样。
·X射线源：单色化Alkα射线(1486.6eV)
·分光器：静电型同心半球型分析器
·放大器：多通道式
在使上层树脂5b包含含氟单体的基础上，若将涂布有脱模剂7的模具6的表面的十六烷的接触角与含氟率设为上述范围的话，则聚合体层3的与基材薄膜2相反的一侧的表面的氟原子浓度显著提高。其结果，能够显著提高防污性以及耐磨性。由此，脱模剂7的脱模效果不充分时，涂布有脱模剂7的模具6的表面的十六烷的接触角与含氟率中至少一个在上述范围外。例如，长时间连续进行上述工序(b)时，脱模剂7的脱模效果慢慢降低。因此，若直接继续进行上述工序(b)的话，存在模具6的材料(铝)发生剥离，无法形成凹凸结构的可能。此外，使用表面没有涂布脱模剂7的模具6时也是同样地，存在模具6的材料(铝)发生剥离的情况。根据以上，从维持脱模剂7的脱模效果的观点来看，优选在光学薄膜1的制造工序中，设置能够对模具6的表面提供脱模剂7(例如，每隔规定时间提供脱模剂7)的机构。
脱模剂7的厚度Dc虽然没有特别限定，但优选，例如1nm以上、且5nm以下。脱模剂7的厚度Dc小于1nm时，脱模剂7与模具6的表面(羟基)有效地键合而不粘着，进一步，通过脱模剂7中的含氟单体(含氟系单分子单体)之间的交联而形成的链不变长(交联强度不变高)，其结果，存在脱模剂7的脱模效果下降的可能。脱模剂7的厚度Dc大于5nm时，脱模剂7的表面形状不成为反映了脱模6的凹凸结构的形状，其结果，存在由模具6所形成的蛾眼构造发生变化，其抗反射性以及机械性能下降的可能。如图1的(a)所示，本实施方式的脱模剂7的厚度Dc是指从模具6一侧的表面到与模具6相反的一侧的表面的距离。
虽然聚合体层3的厚度D没有特别限定，但从使氟原子在聚合体层3的与基材薄膜2相反的一侧的表面高浓度地取向的观点来看，优选是薄的。具体地，优选5μm以上、10μm以下。聚合体层3的厚度D小于5μm是，存在聚合体层3的形成时，斑点、镜头缺陷等缺点产生的可能。聚合体层3的厚度D大于10μm时，存在获得的光学薄膜1容易卷曲的可能。如图1的(d)所示，本实施方式的聚合体层3的厚度D是指从基材薄膜2一侧的表面到与凸部4的顶点的距离。
凸部4的形状没有特别限定，例如，可举出由柱状的下部分和半球状的上部分构成的形状(吊钟状)、锥体状(锥形(cone)状、圆锥状)等朝向前端变细的形状(尖锥(taper)的形状)。另外，凸部4也可以为具有分支突起的形状。所谓分支突起表示，在进行用于制作形成蛾眼结构的模具的阳极氧化以及刻蚀的过程中不小心形成的，对应于间隔不规则的部分的凸部。虽然，图1的(d)中相邻凸部4的间隙的底边为倾斜的形状，但也可以是非倾斜而是水平的形状。
虽然，相邻凸部4之间的间隔P只要是可见光的波长(780nm)以下就没有特别限定，但从充分防止莫尔条纹、彩虹状不均匀等光学现象的产生的观点来看，优选为100nm以上、400nm以下，更优选为100nm以上、200nm以下。在本说明书中,光学薄膜的相邻凸部之间的间隔,是指位于由株式会社日立高新技术的扫描电子显微镜(商品名:S-4700)所拍摄的平面照片的1μm见方的区域内的，除去分支突起的所有相邻凸部之间的距离的平均值。此外，相邻凸部之间的间距使用MEIWAFOSIS株式会社制造的osmium coater(商品名：Neoc-ST)，在聚合体层的凹凸结构上涂布和光纯药工业株式会社制造的氧化锇(厚度：5nm)的状态下测量。
虽然凸部4的高度没有特别限定，但从与后述凸部4的优选纵横比二者兼顾的观点来看，优选为50nm以上、且600nm以下，更优选为100nm以上、且300nm以下。在本说明书中,凸部4的高度表示由株式会社日立高新技术的扫描电子显微镜(商品名:S-4700)所拍摄的剖面照片中的除分支突起之外的连续排列的十个凸部的高度的平均值。但是，在选择十个凸部时，除去了具有缺陷或者变形的部分(在准备测量用试料时使其变形的部分等)的凸部。作为试料，使用了在光学薄膜的不存在特异缺陷的区域中采样的试样，例如，光学薄膜被连续制造成辊状的情况下，使用在其中央附近采样的试样。此外，凸部的高度使用MEIWAFOSIS社制造的osmium coater(商品名：NEOC-ST)，在聚合体层的凹凸结构上涂布和光纯药工业株式会社制造的氧化锇(厚度：5nm)的状态下被测量。
凸部4的纵横比没有特别限定，但优选0.8以上、且1.5以下。凸部4的纵横比在1.5以下时，蛾眼构造的加工性充分提高，产生粘连，或者形成蛾眼构造时的转印状况恶化(模具堵塞、或缠绕等)的可能性降低。凸部4的纵横比在0.8以上时，能够充分防止莫尔条纹、彩虹状不均匀等光学现象的产生，实现良好的反射特性。本说明书中，凸部的纵横比，是指通过上述那样的方法测量的相邻凸部之间的间距与凸部的高度之比(高度/间距)。
凸部4的配置没有特别限定，可以随机配置，也可以规则地配置。从充分防止莫尔条纹的产生的观点来看，优选随机配置。
以上，根据实施方式一的光学薄膜的制造方法，能够制造防污性以及耐磨性优良的光学薄膜1。
接下来，参照图2在以下说明实施方式一的模具。图2是表示实施方式一的模具的剖面示意图。
模具6在表面具有以可见光的波长以下的间距(相邻凹部的底点之间的距离)Q设置的多个凹部。因此，根据模具6，能够在对象物(例如，树脂层)的表面形成蛾眼结构。模具6包括铝原子以及氧原子作为构成原子。
模具6的表面配置有脱模剂7。脱模剂7包括碳原子、氧原子以及氟原子作为构成原子。由此，获得具有脱模性，表面能低的模具6。
在配置了脱模剂7的模具6的表面滴下十六烷，当将通过θ/2法测量的紧跟着十六烷滴下后的接触角定义为θA(单位：°)，将十六烷滴下四分钟之后的接触角定义为θB(单位：°)时，θA以及θB为85°以上，且θA与θB之差为3.5°以下。
通过X射线光束直径100μm，分析面积1000μm×500μm，以及光电子的取出角度45°的条件下的X射线光电子能谱法测量的，配置了脱模剂7的模具6表面的氟原子数相对于碳原子数、铝原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在30atm％以上。
若将配置有脱模剂7的模具6的表面的十六烷的接触角与含氟率设为上述范围的话，能够充分获得脱模剂7的脱模效果。因此，实施方式一的模具优选用于制造防污性以及耐磨性优良的光学薄膜之时。
作为实施方式一的模具的一个例子，可举出上述实施方式一的光学薄膜的制造方式中使用的模具。
[实施方式二]
参照图3在以下说明实施方式二的光学薄膜的制造方法。图3是用于说明实施方式二的光学薄膜的制造步骤的剖面示意图(工序a～e)。由于实施方式二的光学薄膜的制造方法除了在基材薄膜上依次涂布下层树脂以及上层树脂之外，与实施方式一的光学薄膜的制造方法相同，关于重复的点适当省略说明。此外，实施方式二的模具由于与实施方式一的模具相同，省略其说明。
(a)下层树脂的涂布
首先，如图3(a)所示，在基材薄膜2上涂布下层树脂5a。
(b)上层树脂的涂布
如图3(b)所示，在已涂布的下层树脂51上涂布上层树脂5b。其结果，上层树脂5b形成于下层树脂5a的与基材薄膜2的相反的一侧。
(c)凹凸构造的形成
如图3(c)所示，在已涂布的下层树脂5a以及上层树脂5b从基材薄膜2侧依次被层叠的状态下，从上层树脂5b侧将模具6推压至下层树脂5a以及上层树脂5b，形成表面具有凹凸结构的树脂层8。模具6的表面预先涂布有脱模剂7。
(d)树脂层的硬化
使形成有凹凸结构的树脂层8硬化。其结果，形成如图3(d)所示的聚合体层3。
(e)模具的剥离
使表面涂布有脱模剂7的模具6从聚合体层3剥离。其结果，完成图3(e)所示的光学薄膜1。
[实施方式三]
参照图4在以下说明实施方式三的光学薄膜的制造方法。图4是用于说明实施方式三的光学薄膜的制造步骤的剖面示意图(工序a～d)。由于实施方式三的光学薄膜的制造方法除了在基材薄膜上同时涂布下层树脂以及上层树脂之外，与实施方式一的光学薄膜的制造方法相同，关于重复的点适当省略说明。此外，由于实施方式三的模具由于与实施方式一的模具相同，省略其说明。
(a)下层树脂以及上层树脂的涂布
首先，如图4(a)所示，在基材薄膜2上同时涂布下层树脂5a以及上层树脂5b。其结果，上层树脂5b形成于下层树脂5a的与基材薄膜2的相反的一侧。作为同时涂布下层树脂5a以及上层树脂5b的方法，可举出以混合挤压方式涂布的方法。
(b)凹凸构造的形成
如图4(b)所示，在已涂布的下层树脂5a以及上层树脂5b从基材薄膜2侧依次被层叠的状态下，从上层树脂5b侧将模具6推压至下层树脂5a以及上层树脂5b，形成表面具有凹凸结构的树脂层8。模具6的表面预先涂布有脱模剂7。
(c)树脂层的硬化
使形成有凹凸结构的树脂层8硬化。其结果，形成如图4(c)所示的聚合体层3。
(d)模具的剥离
使表面涂布有脱模剂7的模具6从聚合体层3剥离。其结果，完成图4(d)所示的光学薄膜1。
根据实施方式三的光学薄膜的制造方法，由于同时涂布下层树脂5a以及上层树脂5b，与实施方式二的光学薄膜的制造方法相比，能够减少工序数。
[实施方式四]
参照图5在以下说明实施方式四的光学薄膜的制造方法。图5是用于说明实施方式四的光学薄膜的制造步骤的剖面示意图(工序a～e)。由于实施方式四的光学薄膜的制造方法除了在模具上依次涂布上层树脂以及下层树脂之外，与实施方式一的光学薄膜的制造方法相同，关于重复的点适当省略说明。此外，由于实施方式四的模具由于与实施方式一的模具相同，省略其说明。
(a)上层树脂的涂布
首先，如图5(a)所示，在模具6上涂布上层树脂5b。模具6的表面预先涂布有脱模剂7。
(b)下层树脂的涂布
如图5(b)所示，在已涂布的上层树脂5b上涂布下层树脂5a。其结果，下层树脂5a形成于上层树脂5b的与模具6的相反的一侧。
(c)凹凸构造的形成
如图5(c)所示，在已涂布的上层树脂5b以及下层树脂5a从模具6侧依次被层叠的状态下，从下层树脂5a侧将基材2推压至下层树脂5a以及上层树脂5b，即，从上层树脂5b侧将模具6推压至下层树脂5a以及上层树脂5b，形成表面具有凹凸结构的树脂层8。
(d)树脂层的硬化
使形成有凹凸结构的树脂层8硬化。其结果，形成如图5(d)所示的聚合体层3。
(e)模具的剥离
使表面涂布有脱模剂7的模具6从聚合体层3剥离。其结果，完成图5(e)所示的光学薄膜1。
以下，列举实施例以及对比例更详细地说明本发明，但本发明并非限定于这些例子。
(材料以及部件)
在实施例以及对比例中，用于制造光学薄膜的材料以及部件是如下所述。
(下层树脂LR-1)
使用了下述材料的混合物(丙烯系树脂)。此外，赋予各材料的数值表示下层树脂中的各成分的浓度。
·氨基甲酸酯丙烯酸酯(新中村化学工业株式会社制造的“U-7100”)：31.8重量％
·季戊四醇三丙烯酸酯(新中村化学工业株式会社制造的“A-TMM-3LM-N”)：28.2重量％
·乙氧基季戊四醇三丙烯酸酯(新中村化学工业株式会社制造的“ATM-35E”)：40重量％
(上层树脂UR-1)
使用了下述材料的混合物(氟系树脂)。此外，赋予各材料的数值表示上层树脂中的各成分的浓度。上层树脂UR-1的有效成分浓度(固体成分浓度)为20重量％。
·4-丙烯酰基吗啉：75重量％以上、且85重量％以下
·全氟聚醚：15重量％以上、且25重量％以下
(上层树脂UR-2)
除了将有效成分浓度(固体成分浓度)变更为10重量％之外，使用了和上层树脂UR-1相同的树脂。
(上层树脂UR-3)
除了将有效成分浓度(固体成分浓度)变更为5重量％之外，使用了和上层树脂UR-1相同的树脂。
(模具M-1)
首先，通过溅射法使铝在10cm见方的玻璃基板上成膜。成膜的铝层的厚度为1.0μm。接下来，通过对成膜的铝层交替重复阳极氧化以及蚀刻，形成开设有多个微小的孔(相邻的孔的底点间的距离为可见光波长以下)的阳极氧化层。具体地，通过按照阳极氧化、蚀刻、阳极氧化、蚀刻、阳极氧化、蚀刻、阳极氧化、蚀刻、以及阳极氧化的顺序进行(阳极氧化：五次，蚀刻：四次)，形成多个具有朝向铝的内部变细的形状(尖锥(taper)的形状)的微小的孔(凹部)，其结果，获得具有凹凸构造的模具M-1。模具M-1的尺寸为5cm×10cm。阳极氧化使用草酸(浓度：0.03重量％)，在液温5℃，施加电压80V的条件下进行。进行一次阳极氧化的时间为25秒。蚀刻使用磷酸(浓度：1mol/l)，在液温30℃的条件下进行。进行一次蚀刻的时间为25分钟。模具M-1的表面规模是如下所述。
·相邻凹部之间的间距Q：200nm
·凹部的深度：400nm
之后，通过在模具M-1的表面涂布脱模剂，实施脱模处理。作为脱模剂，使用以全氟己烷稀释大金工业株式会社制造的“OPTOOL DSX”，固体成分浓度为0.1重量％的溶液。脱模剂的厚度Dc为2～3nm。
(模具M-2～M-6)
使用与模具M-1相同的模具连续地进行树脂的转印，根据使用时间从短到长的顺序准备模具M-2、模具M-3、模具M-4、模具M-5以及模具M-6(使用时间最长的模具)。
[模具的评价]
对模具M-1～M-6，测量涂布有脱模剂的表面的(i)接触角(水以及十六烷)和、(ii)含氟率。在表1以及表2中示出测量结果。
(i)接触角
对涂布有脱模剂的各模具的表面，滴下水(纯水)以及十六烷、测量紧跟着滴下之后、滴下1分钟后、2分钟后、3分钟后、以及4分钟后的接触角。在表1以及表2中也示出紧跟着滴下之后的接触角与滴下四分钟后的接触角的差。此外，所谓“不可滴加”是指接触角过大而不能滴加的状态。
(ii)含氟率
对涂布有脱模剂的各模具表面，通过X射线光电子能谱法进行测量。具体地，首先，测量涂布有脱模剂的各模具的表面的测量光谱。测量光谱的测量条件是如下所述。
·X射线光束直径：100μm(12.5W、15kV)
·分析面积：1000μm×500μm
·光电子取出角度：45°
·通能：224eV
测量了测量光谱的结果，在各模具中，检测到C1s峰、A12p峰、O1s峰以及F1s峰。涂布于各模具表面的脱模剂包括碳原子、氧原子以及氟原子作为构成原子，F1s峰是来源于脱模剂的峰。另外，各模具包括铝原子以及氧原子作为构成原子，A12p峰是来源于模具的峰。
接下来，从获得的测量光谱计算，涂布有脱模剂的各模具表面的氟原子数相对于碳原子数、铝原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例(含氟率)。此外，通过X射线光电子能谱法测量获得的，涂布有脱模剂的模具的表面的含氟率是指从脱模剂的最表面向深度方向上6nm以内的区域的含氟率。
[表1]
[表2]
如表1所示，模具M-1～M-3的每一个，紧跟着十六烷滴下后相对于表面的接触角以及十六烷滴下四分钟后的接触角为85°以上，且二者之差为3.5°以下。进一步，模具M-1～M-3的每一个，表面的含氟率为30atom％以上。
另一方面，如表2所示，模具M-4，紧跟着十六烷滴下后相对于表面的接触角以及十六烷滴下四分钟后的接触角小于85°。进一步，模具M-4，表面的含氟率小于30atom％。
如表2所示，模具M-5，紧跟着十六烷滴下后相对于表面的接触角在85°以上，但十六烷滴下四分钟后的接触角小于85°，且二者之差大于3.5°。进一步，模具M-5，表面的含氟率不足30atom％。
如表2所示，模具M-6，紧跟着十六烷滴下后相对于表面的接触角以及十六烷滴下四分钟后的接触角小于85°，且二者之差大于3.5°。进一步，模具M-6，表面的含氟率小于30atom％。
(实施例一)
通过实施方式四的光学薄膜的制造方法制造实施例一的光学薄膜。
(a)上层树脂的涂布
首先，在模具6上(涂布有脱模剂7的模具6的表面上)，利用吸管滴下来涂布上层树脂5b。
作为上层树脂5b使用了上述上层树脂UR-1。上层树脂5b的厚度Db为1μm。作为表面涂布有脱模剂7的模具6使用了上述模具M-2。
(b)下层树脂的涂布
在已涂布的上层树脂5b上(上层树脂5b的与模具6相反的一侧的表面上)，通过吸管滴下来涂布下层树脂5a。
作为下层树脂5a使用了上述下层树脂LR-1。下层树脂5a的厚度Da为8μm。
(c)凹凸构造的形成
在被涂布的上层树脂5b以及下层树脂5a被从模具6侧依次层叠的状态下，使基材薄膜2覆盖到下层树脂5a上(下层树脂5a的与上层树脂5b相反的一侧的表面上)，用辊将基材薄膜2推压至下层树脂5a侧。即，将涂布有上层树脂5b以及下层树脂5a的模具6推压至基材薄膜2。其结果，形成在与基材薄膜2相反的一侧的表面具有凹凸结构的树脂层8。
作为基材薄膜2使用了东洋纺株式会社制造的带有易粘着层的聚乙烯对苯二甲酸酯薄膜(商品名：Cosmoshine(注册商标)A4300)。基材薄膜2的厚度为60μm。
(d)树脂层的硬化
从基材薄膜2侧对形成有凹凸结构的树脂层8照射紫外线(照射量：1.2j/cm2)使其硬化(聚合)。其结果，形成聚合体层3(树脂层8的硬化物)。
(e)模具的剥离
使表面涂布有脱模剂7的模具6从聚合体层3剥离。其结果，完成光学薄膜1。光学薄膜1的的表面规模是如下所述。
·凸部4的形状：吊钟状
·相邻凸部之间的间距P：200nm
·凸部4的高度：250nm
·凸部4的纵横比为1.25
(实施例二至五以及对比例一至五)
除了变更为如表三至八所示的材料以及部件之外，与实施例一相同地，制作各例的光学薄膜。此外，表三至八中的各材料以及各部件的符号是如下所述。
(下层树脂)
·“LR-1”：下层树脂LR-1
(上层树脂)
·“UR-1”至“UR-3”：上层树脂UR-1至UR-3
(模具)
·“M-1”至“M-6”：模具M-1至M-6
[光学薄膜的评价]
对实施例一至五以及对比例一至五的光学薄膜，评价防污性以及耐磨性。在表3至表8中示出结果。
(防污性)
作为防污性，评价各例的光学薄膜表面的(i)接触角(水以及十六烷)和、(ii)含氟率。
(i)接触角
对各光学薄膜的表面(聚合体层的与基材薄膜相反的一侧的表面)，滴下水(纯水)以及十六烷、测量紧跟着滴下之后、滴下1分钟后、2分钟后、3分钟后、以及4分钟后的接触角。
(ii)含氟率
对各例的光学薄膜的表面(聚合体层的与基材薄膜相反的一侧的表面)，进行X射线光电子能谱法的测量。具体地，首先，测量各例的光学薄膜表面的测量光谱。测量光谱的测量条件是如下所述。
·X射线光束直径：100μm(12.5W、15kV)
·分析面积：1000μm×500μm
·光电子取出角度：45°
·通能：224eV
测量了测量光谱的结果，在各例的光学薄膜中，检测到C1s峰、N1s峰、O1s峰以及F1s峰。即，了解到各例的光学薄膜的聚合体层包括碳原子、氮原子、氧原子以及氟原子作为构成原子。
接下来，从获得的测量光谱计算，聚合体层表面的氟原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例(含氟率)。此外，通过X射线光电子能谱法测量获得的，聚合体层表面的含氟率是指从聚合体层的最表面向深度方向上6nm以内的区域的含氟率。
(耐磨性)
作为耐磨性，评价各例的光学薄膜表面的(i)摩擦阻力和、(ii)钢丝绒耐磨性。
(i)摩擦阻力
在用日本钢丝棉株式会社制造的钢丝绒(产品名：#0000)在各例的光学薄膜的表面(聚合体层的与基材薄膜的相反的一侧的表面)施加400g荷重的状态下，摩擦一次，测量此时的动摩擦阻力值。以钢丝绒摩擦之时，作为试验机使用新东科学株式会社制造的表面性能测量机(商品名：14FW)，设冲程宽度为20mm，速度为0.5mm/s。
(ii)钢丝绒耐磨性
将在用日本钢丝棉株式会社制造的钢丝绒(产品名：#0000)在各例的光学薄膜的表面(聚合体层的与基材薄膜相反的一侧的表面)施加规定荷重的状态下擦拭，受到损伤的时间点的荷重作为评价指标。以钢丝绒摩擦之时，作为试验机使用新东科学株式会社制造的表面性能测量机(商品名：14FW)，设冲程宽度为10mm，速度为100mm/s，将擦拭次数设为10次往复。另外，是否存在损伤的确认通过在照度1001ax(荧光灯)的环境下的目视观察进行。判定基准是如下所述。
○：钢丝绒耐磨性为80g以上。
△：钢丝绒耐磨性为30g以上，且小于80g。
×：钢丝绒耐磨性为小于30g。
[表3]
[表4]
[表5]
[表6]
[表7]
[表8]
如表三至八所示，实施例一至五相比于对比例一至五，光学薄膜表面(聚合体层的表面)的含氟率高。实施例一至五相比于对比例一至五，水以及十六烷相对于光学薄膜的表面的接触角(特别是，紧跟着滴下之后的接触角)大。例如，当将下层树脂以及上层树脂的种类相同的实施例一与对比例一相比较时，水相对于光学薄膜表面的接触角(紧跟着滴下之后)在实施例一中比140°大而无法滴加，相对于此，在对比例1中为101.3°。因此，实施例一比对比例一的防水性优良。另外，十六烷相对于光学薄膜的表面的接触角(紧跟着滴下之后)在实施例一中为89.5°，相对于此，在对比例一中小于20°。因此，实施例一比对比例一的防油性优良。根据以上，实施例一至五比对比例一至五的防污性优良。
如表三至八所示，实施例一至五相比于对比例一至五，摩擦阻力小，钢丝绒耐磨性良好。因此，实施例一至五比对比例一至五的耐磨性优良。
根据以上，实施例一至五比对比例一至五的防污性以及耐磨性优良。即，可以了解到紧跟着十六烷滴下后相对于表面的接触角以及十六烷滴下四分钟后的接触角为85°，且二者之差小于3.5°，若使用表面的含氟率为30atom％以上的模具(模具M-1至M-3)的话，能够获得防污性以及耐磨性优良的光学薄膜。
对于实施例一至三以及对比例一、二的光学薄膜进行进一步解析的结果，在以上进行说明。
首先，从通过上述方法获得的测量光谱计算，聚合体层表面的除氟原子以外的各原子数相对于碳原子数、氮原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例。在表9中示出计算结果。在表9中也示出上述含氟率(氟原子数的比例)。
[表9]
如表9所示，可以了解到实施例一至三相比于对比例一、二，氟原子在聚合体层的表面高浓度地取向。
接下来，通过X射线光电子能谱法，测量各例的光学薄膜表面的窄谱。图6是示出实施例一至三以及对比例一、二的光学薄膜的表面的窄谱的图表，(a)表示C1s峰，(b)表示N1s峰，(c)表示O1s峰，(d)表示F1s峰。图6中的纵轴的“c/s”为“counts/秒”的缩写。这在其他图中也是一样的。窄谱的测量条件是如下所述。
·X射线光束直径：100μm(12.5W、15kV)
·分析面积：1000μm×500μm
·光电子取出角度：45°
·通能：112eV
接下来，将获得的窄谱的C1s峰以及O1s峰的每一个分离为多个峰，从各峰的位置以及形状，鉴别对应于各峰的键型。
图7是表示图6(a)中的实施例一的C1s峰的解析结果的图表。图8是表示图6(a)中的实施例二的C1s峰的解析结果的图表。图9是表示图6(a)中的实施例三的C1s峰的解析结果的图表。图10是表示图6(a)中的对比例一的C1s峰的解析结果的图表。图11是表示图6(a)中的对比例二的C1s峰的解析结果的图表。图7至11中，峰Cs相当于图6(a)中的各例的C1s峰。另一方面，峰C1～C7是以来源于各键型的峰对峰Cs(C1s峰)进行曲线拟合而获得的光谱。此外，进行获得的光谱的带电校正以使峰C1的位置变为284.6eV。
在表10中示出峰C1～C7的位置以及鉴别到的键型。在鉴别各键型之时，使用了上述非专利文献1中记载的信息以及上述非专利文献2的表1。
[表10]
如表10所示，峰C7虽然被鉴定为“CF3键以及OCF2键”，如上述非专利文献2的表1所示那样，来源于CF3键的峰与来源于OCF2键的峰位于几乎相同位置，因此，难以将它们分离为两个峰。
图12是表示图6(c)中的实施例一的O1s峰的解析结果的图表。图13是表示图6(c)中的实施例二的O1s峰的解析结果的图表。图14是表示图6(c)中的实施例三的O1s峰的解析结果的图表。图15是表示图6(c)中的对比例一的O1s峰的解析结果的图表。图16是表示图6(c)中的对比例二的O1s峰的解析结果的图表。图12至16中，峰Os相当于图6(c)中的各例的O1s峰。另一方面，峰O1～O3是以来源于各键型的峰对峰Os(O1s峰)进行曲线拟合获得的光谱。
在表11中示出峰O1～O3的位置以及鉴别到的键型。在鉴别各键型之时，使用了上述非专利文献3中记载的信息以及上述非专利文献4的图2。
[表11]
根据以上，实施例一至三以及对比例一、二，能够将光学薄膜表面的窄谱C1s峰以及O1s峰的每一个分离为来源于各键型的峰。
接下来，从得到的窄谱计算出聚合体层表面的各键型的组成比。在表12以及表13中示出计算结果。
[表12]
[表13]
如表12以及表13所示，可以了解到实施例一至三相比于对比例一、二，氟原子在聚合体层的表面高浓度地取向。
[备注]
本发明的一个方式为表面具有多个凸部以可见光波长以下的间隔设置的凹凸构造的光学薄膜的制造方法，包括：涂布下层树脂以及上层树脂的工序(1)；在已涂布的所述下层树脂以及所述上层树脂被层叠的状态下，从所述上层树脂侧将模具推压至所述下层树脂以及所述上层树脂，形成在表面具有所述凹凸构造的树脂层的工序(2)；使所述树脂层硬化的工序(3)，所述上层树脂包括含氟单体，所述模具的表面涂布有脱模剂，所述脱模剂含有碳原子、氧原子以及氟原子作为构成原子，所述模具含有铝原子以及氧原子作为构成原子，在涂布了所述脱模剂的所述模具的表面滴下十六烷，当将通过θ/2法测量的紧跟着十六烷滴下后的接触角定义为θA(单位：°)，将十六烷滴下四分钟之后的接触角定义为θB(单位：°)时，θA以及θB为85°以上，且θA与θB之差为3.5°以下，通过X射线光束直径100μm，分析面积1000μm×500μm、以及光电子的取出角度45°的条件下的X射线光电子能谱法测量的、涂布了所述脱模剂的所述模具表面的氟原子数相对于碳原子数、铝原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在30atm％以上。
所谓所述工序(1)中的“涂布下层树脂以及上层树脂”不仅包括将所述下层树脂以及所述上层树脂重叠涂布在相同部件上的情况，还包括将所述下层树脂以及所述上层树脂涂布在不同部件上的情况。作为将所述下层树脂以及所述上层树脂涂布在不同部件上的情况，例如，可以是在基材薄膜上涂布所述下层树脂，在所述模具上涂布所述上层树脂。
另外，所述工序(2)中的“在已涂布的所述下层树脂以及所述上层树脂被层叠的状态下，从所述上层树脂层将模具推压至所述下层树脂以及所述上层树脂”不仅包含在所述下层树脂以及所述上层树脂被层叠之后推压所述模具的情况，还包括一边层叠所述下层树脂以及所述上层树脂一边推压所述模具的情况。换言之，在所述工序(2)中，包含同时或者不同时进行层叠所述下层树脂以及所述上层树脂(以下，也称为层叠化步骤。)和从所述上层树脂侧将所述模具推压至所述下层树脂以及所述上层树脂(以下也称为推压步骤。)的方法。
作为同时进行所述层叠化步骤与所述推压步骤的方法，优选以下方法(i)。
(i)将所述下层树脂涂布在基材薄膜上，在所述模具上涂布所述上层树脂，之后，从所述上层树脂侧，将涂布有所述上层树脂的所述模具，推压至涂布于所述基材薄膜上的所述下层树脂的同时(所述推压步骤)，使所述上层树脂层叠于所述下层树脂上(所述层叠化步骤)。
即，也可以是所述工序(1)通过将所述下层树脂涂布在基材薄膜上，将所述上层树脂涂布在所述模具上来进行，所述工序(2)通过从所述上层树脂侧，将涂布有所述上层树脂的所述模具，推压至涂布于所述基材薄膜上的所述下层树脂来进行。这种情况下，能够将所述上层树脂层叠于所述下层树脂上，同时形成所述凹凸结构。进一步，相比于将所述下层树脂以及所述上层树脂依次涂布于所述基材薄膜上的情况(后述方法(ii))，能够降低工序数。另外，根据本方法，能够进一步提高防污性，特别是能够将所述上层树脂的构成材料的损失抑制在最低限度。
作为不同时进行所述层叠化步骤与所述推压步骤的方法，优选以下方法(ii)～(v)。
(ii)在基材薄膜上依次涂布所述下层树脂以及所述上层树脂(所述层叠化步骤)，之后，从所述上层树脂侧将所述模具推压至所述下层树脂以及所述上层树脂(所述推压步骤)。
即，所述工序(1)也可以通过在基材薄膜上依次涂布所述下层树脂以及所述上层树脂来进行。这种情况下，通过一同设置普通的涂布方式(例如，凹版印刷、狭缝式模头挤出涂布法等)的装置，能够有效地进行所述下层树脂以及所述上层树脂的涂布。
(iii)在所述基材薄膜上同时涂布所述下层树脂以及所述上层树脂(所述上层树脂被形成于所述下层树脂的与基材薄膜的相反的一侧)(所述层叠化步骤)，之后从所述上层树脂侧将所述模具推压至所述下层树脂以及所述上层树脂(所述推压步骤)。
即，所述工序(1)也可以通过在基材薄膜上同时涂布所述下层树脂以及所述上层树脂来进行。这种情况下，能够有效地进行所述下层树脂以及所述上层树脂的涂布。进一步，相比于依次将所述下层树脂以及所述上层树脂涂布于所述基材薄膜上的情况(相比于所述方法(ii))，能够简化涂布装置，降低工序数，因此生产性提高。
(iv)在所述模具上依次涂布所述上层树脂以及所述下层树脂(所述层叠化步骤)，之后，将涂布有所述上层树脂以及所述下层树脂的所述模具推压至基材薄膜(所述推压步骤)。
即，所述工序(1)也可以通过在所述模具上依次涂布所述上层树脂以及所述下层树脂来进行。这种情况下，例如，若作为所述模具使用柔性模具的话，不论所述基材薄膜的形状如何，均能够容易形成所述凹凸结构。
(v)在所述模具上同时涂布所述上层树脂以及所述下层树脂(所述下层树脂被形成于所述上层树脂的与所述模具的相反的一侧)(所述层叠化步骤)，之后，将涂布有所述上层树脂以及所述下层树脂的所述模具推压至基材薄膜(所述推压步骤)。
即，所述工序(1)也可以通过在所述模具上同时涂布所述上层树脂以及所述下层树脂来进行。这种情况下，例如，若作为所述模具使用柔性模具的话，不论所述基材薄膜的形状如何，均能够容易形成所述凹凸结构。
附图标记说明
1：光学薄膜
2：基材薄膜
3：重合体层
4：凸部
5a：下层树脂
5b：上层树脂
6：模具
7：脱模剂
8：树脂层
P、Q：间距
D：重合体层的厚度
Da：下层树脂的厚度
Db：上层树脂的厚度
Dc：脱模剂的厚度
C1、C2、C3、C4、C5、C6、C7、Cs、O1、O2、Os3、Os：峰

Claims (6)

1.一种表面具有多个凸部以可见光波长以下的间隔设置的凹凸构造的光学薄膜的制造方法，其特征在于，
包括：涂布下层树脂以及上层树脂的工序(1)；
在已涂布的所述下层树脂以及所述上层树脂被层叠的状态下，从所述上层树脂侧将模具推压至所述下层树脂以及所述上层树脂，形成在表面具有所述凹凸构造的树脂层的工序(2)；
使所述树脂层硬化的工序(3)；
所述上层树脂包括含氟单体，
所述模具的表面涂布有脱模剂，
所述脱模剂含有碳原子、氧原子以及氟原子作为构成原子，
所述模具含有铝原子以及氧原子作为构成原子，
在涂布了所述脱模剂的所述模具的表面滴下十六烷，当将通过θ/2法测量的紧跟着十六烷滴下后的接触角定义为θA(单位：°)，将十六烷滴下四分钟之后的接触角定义为θB(单位：°)时，θA以及θB为85°以上，且θA与θB之差为3.5°以下，
通过X射线光束直径100μm，分析面积1000μm×500μm，以及光电子的取出角度45°的条件下的X射线光电子能谱法测量的，涂布了所述脱模剂的所述模具表面的氟原子数相对于碳原子数、铝原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在30atm％以上。
2.如权利要求1所述的光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述工序(1)通过将所述下层树脂涂布在基材薄膜上，将所述上层树脂涂布在所述模具上来进行，所述工序(2)通过从所述上层树脂侧，将涂布有所述上层树脂的所述模具推压至涂布于所述基材薄膜上的所述下层树脂来进行。
3.如权利要求1所述的光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述工序(1)通过在基材薄膜上依次涂布所述下层树脂以及所述上层树脂来进行。
4.如权利要求1所述的光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述工序(1)通过在基材薄膜上同时涂布所述下层树脂以及所述上层树脂来进行。
5.如权利要求1所述的光学薄膜的制造方法，其特征在于，所述工序(1)通过在所述模具上依次涂布所述上层树脂以及所述下层树脂来进行。
6.一种多个凹部以可见光波长以下的间隔设置于表面的模具，其特征在于，
所述模具的表面配置有脱模剂，
所述脱模剂含有碳原子、氧原子以及氟原子作为构成原子，
所述模具含有铝原子以及氧原子作为构成原子，
在配置了所述脱模剂的所述模具的表面滴下十六烷，当将通过θ/2法测量的紧跟着十六烷滴下后的接触角定义为θA(单位：°)，将十六烷滴下四分钟之后的接触角定义为θB(单位：°)时，θA以及θB为85°以上，且θA与θB之差为3.5°以下，
通过X射线光束直径100μm，分析面积1000μm×500μm，以及光电子的取出角度45°的条件下的X射线光电子能谱法测量的配置了所述脱模剂的所述模具表面的氟原子数相对于碳原子数、铝原子数、氧原子数以及氟原子数的总数的比例在30atm％以上。
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