CN1087672C - 等离子体系统与操作等离子体系统的方法 - Google Patents
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Abstract
一种等离子系统包括喷枪，其具有电极和具有等离子电弧喷口的喷嘴，所述喷口使所述电极暴露于工件，并具有包括一次绕组网络和由所述一次绕组网络驱动的二次绕组网络的输入变压器，由所述二次绕组网络驱动的第一电路装置和第二电路装置，以及用于选择地在所述第一电路装置和所述第二电路装置之间转换的开关装置，其改进包括：二次绕组网络包括具有第一有效匝数的用于驱动第一电路的第一绕组，和具有第二有效匝数的用于驱动第二电路的第二绕组，并且第一第二有效匝数可以不同。
Description
本发明涉及一种电弧等离子体技术，尤其涉及一种改进的等离子体系统及其操作方法，用于使在转移电弧等离子体系统中的操作的引导电弧方式和操作的切割方式最佳化。
本发明涉及一种电弧等离子体系统。其中电源首先在等离子喷枪的喷嘴和电极之间产生引导电弧，然后，把电弧转移到在喷嘴的等离子电弧喷口附近移动的工件上。这种系统在Couch 3，641，308中描述了，尤其是其中的图4。电源提供加在等离子喷枪的电极和附近工件上的直流电压。当工件接近等离子喷枪时，电源便在电极和喷嘴之间产生电弧。这电弧被称为引导电弧，其被通过一个大电阻和闭合的转移开关的电流维持。为了把电弧转移到附近的工件上以便切割工件，使电阻从喷嘴断开，从而电阻不再和工件与喷嘴并联。此时，只要工件在等离子喷枪的等离子出口附近，电弧就被转移到工件上。这种标准的等离子技术在Couch 3641308中以及Tatham 5530220的图2中描述了，这些文件在此列为参考。
用于把电压加到等离子系统中的电极和工件上的电源是直流电源；然而，在实际上，直流电源通常是全波桥式逆变器的整流输出，其中直流电源通过一次网络或变压器绕组被快速地变为相反方向。变压器的二次网络是通过整流产生脉冲直流输出的两个极性相反的二次绕组，其脉冲直流输出通常由扼流圈稳定。这种用于产生直流输出的全桥逆变器在Bilczo 4897522中描述了，该专利也在此列为参考，用于说明产生直流输出的全桥逆变器。电流被转换，从而通过由扼流圈和被操作的直流设备相连的整流电路产生具有给定极性的输出脉冲。在本发明中，直流设备是等离子体系统。如Bilczo的专利所述，被转换的一次脉冲产生方向相反的二次脉冲，其脉宽可被调整，以便控制输出电流。调整电路一般是一种工作在20-40kHz附近的脉宽调制器。另一种全桥逆变器在Bilczo 4897773中描述了，在此列为参考，用于说明被整流的全桥逆变器的输出网络是如何在整流输出脉冲之间产生惯性电流的，其中的脉冲通过快速地转换在变压器的一次部分中的电流脉冲而产生。
此处给出的三件专利表明用于操作等离子电弧喷枪和用于直流焊接的全桥逆变器的技术的状态，所述逆变器是和本发明尤其相关的电源。
不论由全桥或半桥逆变器或其它直流电源操作，转移电弧型的电弧等离子系统包括电极和喷嘴，在喷嘴的端部具有等离子电弧喷枪喷口。该喷口使电极暴露于在等离子喷枪端部附近的工件。在工件被切割或由来自喷枪的等离子电弧处理之前，使用启动程序，其中在电极端部和喷嘴的内表面之间产生引导电弧。为产生引导电弧，需要形成一个和电源串联的电路。为此，一个大电阻被连接在喷嘴和电源的工件引线之间。在等离子喷枪启动期间，把电压加在包括上述大电阻的串联电路上。只要在等离子喷枪内一产生引导电弧，电流便通过电阻。单独的电阻是一个在喷嘴和工件之间的间隙上并联的电路，在操作的引弧方式期间，电流通过电阻，在工件和喷嘴之间产生电压。当电压足够高并且工件足够接近喷枪时，便开始切割操作。选择地转换的开关把工件和喷嘴之间的电阻由其并联关系断开，使得引导电弧从喷嘴转移到工件上，从而和工件、电极以及直流电源的输出端形成串联电路。这种系统一般需要电阻上的电压为60V，并且工件必须接近喷嘴，以便当需要开始切割操作时把引导电弧转移到工件上。使用大的电阻存在许多困难。电阻引起系统的热损失。电压是电流和电阻的乘积。热损失是电阻和电流平方的乘积。因为电阻的大小决定在工件和电极之间可得到的电压，所以电弧的转移操作并不总是可靠的。确实，在某些情况下，当开关断开时，电弧并不从引导方式转移到切割方式。而是在工件和喷嘴之间和喷嘴与电极之间形成双电弧。这双电弧状态将使铜喷嘴破坏。因为在电阻上只有60V电压，所以工件可以离开喷枪同时又可以转移电弧的距离距离受到某些限制。已经发现，从引弧方式到切割方式的可靠的电弧转移，在电弧转移之前大约需要在电极和工件之间具有150mA的电流。如果加在电阻上的电压不足以产生这一电流，则在试图电弧转移的过程中电弧便可能熄灭。因而，对于转移，需要一个最小电流，使得当开关断开而切断电阻时，可以产生足够的电流，以便进行可靠的电弧转移。这是一个和本发明涉及的现有技术有关的问题。为了在和等离子系统中并联的电阻上产生60V的电压，要产生一个基本数量的热量。加在电阻上的电压决定了为转移而可得到的离开距离。这是重要的，因为要被切割的工件不应该离喷嘴太近而无意中和喷嘴的端部接触。通过增加转移的离开距离可以减少这种和喷嘴进行这种有害的接触的可能性。这增加的离开距离通过增加电阻上的电压来实现，这又带来上述缺点。
因为引导电弧上的电压通常大约为150-160V，在扼流圈或电抗器上的电压为50-75V，电源必须产生一个比引导电弧和扼流圈电压的总和大一个引起电弧转移的电压。如果电阻上的电压增加到100V，则需要大约为300-350V的电源输出。当在这一电压下流过电流时，电阻和变压器输出绕组必须具有极高的容量。此外，一般的具有60V电阻电压的等离子系统只能在相当短的距离内转移电弧，使得操作者使工件距离喷枪极近，因而极有可能和等离子喷枪的端部接触。
综上所述，使用和工件与电极并联的大的电阻具有电弧转移距离和产生热损失的限制。
现有技术中用于操作电弧转移型等离子系统的另一个缺点在于，直流电源一般是通过高速开关系统产生一次交流电流的逆变器。在变压器的一次侧使用电流脉冲，变压器的二次绕组具有合适的整流器，从而产生直流电源。这种通常用于等离子技术中的电源具有用于变压器的二次绕组网络，该网络具有一个绕组。在操作的引导和切割方式期间，变压器产生一个电压电流曲线。因而，变压器上的二次绕组网络，不论一个绕组或几个绕组，必须进行折中。它可以是只具有匝数固定的一种规格的导线的绕组。因而，这些二次绕组不能优化，尤其是对于引导操作方式，因为必须和切割操作方式使用同一个绕组。此外，在引导操作方式和切割操作方式期间用于控制电流和电压的曲线必须具有大的调整范围，以便适应低电流高电压和高电流低电压的等离子电弧。在引导操作方式中，电流的范围一般为15-25A，变压器电压一般为300-350V。对于切割操作方式，由于电弧的转移，电流增加到大约50A，而变压器电压减少到大约250V。因而目前通常用于驱动等离子系统的交流操作的逆变器变压器的输出必须在高电压低电流的引导操作方式和高电流低电压的转移电弧的操作方式之间折中。这种一个输出两种用途具有明显的缺点，并且增加了控制两种操作方式的复杂性。因而，使用单绕组变压器技术的现有技术的系统，其中逆变器的输出要求两个不同的电压电流操作区域，不能较好地适用于引导电弧操作方式和转移电弧操作方式。这些现有技术的系统还具有相当低的远离距离或转移距离，以及由于大的并联电阻而带来的相当高的热损失。为了解决这些问题，已经建议使用两个电源。这种方法是昂贵的，复杂的，并且增加体积和重量。
本发明涉及一种用于操作电弧等离子系统的系统，这种系统使得可以增加转移距离，即远离距离，使电弧快速地从引导方式转移到切割方式，并且不需要现有技术中的效率低的并联电阻。此外，因为二次绕组网络而可以获得较低的一次电流。通过使用本发明，对同一个要求的输出电流可以具有较低的一次电流。
按照本发明，提供一种等离子系统，包括电极和具有等离子电弧喷口的喷嘴，所述喷口使电极暴露于其附近的要被切割或处理的工件。这新的系统使用这样的输出变压器，所述输出变压器用于全桥逆变器的输出侧，所述逆变器具有一个转换的直流电源作为其输入级。这种变压器包括一次绕组网络和由使相反极性的电流脉冲通过变压器的一次绕组网络而驱动的二次绕组网络。使用由二次绕组网络驱动的第一电路装置产生电极和喷嘴之间的引导电弧。使用由二次绕组网络驱动的第二电路装置产生电极和工件之间的电弧。一个开关装置在第一电路装置和第二电路装置之间转换。如上所述，这种新的等离子系统基本上是现有技术中使用的系统。按照本发明，这种现有的等离子系统通过改变二次绕组网络使其包括具有第一有效匝数的用于驱动第一电路装置的第一绕组装置和具有第二有效匝数的用于驱动第二电路装置的第二绕组装置而进行了改进。第一和第二有效匝数可以不同，从而使得在引导方式和切割方式期间的电压电流操作曲线不同。“有效”匝数指的是在系统的二次绕组中被提供用于在变压器的输出产生所需的电压电流曲线的匝数。本发明使用术语“第二绕组网络”进行说明，以便使得为变压器的二次网络或二次绕组所选择的特定结构并不是重要的。本发明的基本构思是，使用两个单独绕组驱动等离子系统，使第一绕组对于第一引导操作方式最佳化，而第二绕组对于切割操作方式最佳化。通过使用这种发明构思，在引导操作方式期间，等离子系统可以在高电压低电流区域工作，而在切割方式期间在低电压高电流区域工作。这样，不需要折中，也不需要当系统在引导方式和切割方式之间转移时所需的复杂的控制设备。
通过使用本发明，输出绕组可以被最佳化，使得用于引导操作方式的二次绕组和用于高电流的切割操作方式的相对大的绕组相比而相当小。实际上，对于和用于产生引导电弧的电路装置相连的二次绕组，可以使用较细的例如14-16号的导线。大号的铜带状电缆可用作用于驱动在切割操作方式中使用的电路装置的二次绕组。通过使用本发明，对于在切割方式中使用的绕组，可以使用较低的匝数比。这样，为了提供特定的切割电流，需要的一次电流较小。实际上，引导匝数比，一次对二次是26∶26，而切割匝数比是26∶24。这产生大约25V的电压差，使得两种输出曲线大不相同。
对于工件电压可以使用较大的喷嘴，从而增加远离距离，使得具有较大的电弧转移距离。由于系统中没有电阻，所以功率损失和发热被大大减小。通过在变压器二次绕组使用两个单独的线圈，可以产生允许大的转移距离的高的转移电压。可以使用专用的控制系统在由对于每种操作方式的各个二次绕组的结构确定的两个独立的区域中操作。因而控制设备可在通用的中间范围内操作而比需要具有大的控制范围，而大的控制范围对于用于控制必须执行引导电弧和切割电弧双重功能的单输出绕组网络是必须的。对于等离子系统使用两个单独的不同的二次绕组使得可以从一个电压电流操作区域直接转移到另一个电压电流操作区域。因而，引导电弧和切割电弧通过单独的分别最佳化的电压电流曲线进行控制。对于引导操作方式和切割操作方式两种方式不需要使用一个电压电流曲线。这个控制优点增加了在引导和切割方式之间的转移速度。控制设备也相对简单，并且引导电弧和切割电弧之间的反应也减小了。
通过使用本发明，当等离子喷枪被移近要被切割的工件时，可以快速地开始切割操作。的确，可以在相对大的距离上进行转移。这在某些切割操作中是很有用的，例如在切割多孔金属网中，其中沿着多孔金属网移动的等离子喷枪必须在引导电弧方式和切割方式之间快速地转换。本发明有助于这种操作，因为本发明允许较大的远离距离和快速地电弧转移。
此外，转移电压可以增加到300V以上。和现有技术中一般为60V的情况相比，可以看出，通过使用本发明的这一方面可以增加远离距离并使转移变得极其容易。
按照本发明的另一方面，具有在引导方式和切割方式之间转换的开关的两个单独的二次绕组的使用可通过测量或检测工件电流进行控制。当工件电流达到某个值时，通过操作转移开关而使得发生电弧转移。通过使工件向喷枪移动而使这一电流增加。当然，当工件被移开时，则这电流值减少。当检测的电流值超过某个值时，转移开关被打开从而使电弧转移到工件上。随着电弧长度的增加，电压将增加到变压器不能提供这一电压和电流时的值。此时，输出电流将减少而使转移开关闭合，因而，重新开始引导操作方式。这在操作方式之间的自动地来回转换通过使用按照本发明的另一方面中的电路装置的电流分流而方便地完成。
本发明的主要目的在于提供一种用于操作电弧等离子设备的系统和方法，该系统和方法不需要并联电阻，能够产生大的远离距离，并且能够快速地进行电弧转移。
按照本发明的另一方面，在用于操作电弧等离子喷枪的系统和方法中使用单独的输出或使用二次绕组。使用两个绕组使得系统和方法可以对引导方式和切割方式两种方式进行优化。用这种方式，可以设计电压电流控制设备，使得在每种操作方式的中心范围内操作，而不需要在两种方式中在极其大的范围内操作。这样，电弧等离子装置在电压电流曲线的两个区域内操作，这些区域由单独的不同输出绕组的不同的特性曲线确定。
本发明的另一方面是提供一种使用单独的电流检测装置用于在引导方式和切割方式之间进行转换的系统，所述系统能够非常精确地控制发生转移的定时。按照这一方面，可以选择一个精确的转移时刻，并且仅仅通过响应特定测量或检测的电流操作一个开关进行控制。
本发明的另一个目的在于提供一种系统和方法，如上所述，该系统和方法对于在引导方式期间的工件电压允许使用大的喷嘴，从而允许较大的远离距离。
本发明的另一个目的在于提供一种单一的电源，用于以不同的电压电流特性曲线向引导方式和切割方式两种方式供电。
发明的另一个目的在于提供一种系统和方法，如上所述，该系统和方法允许使用不同大小的输出绕组和不同号的绕组导线，以便控制等离子装置的单独的操作方式。
发明的另一个目的在于提供一种系统和方法，如上所述，该系统和方法对于引导方式和切割方式使用两个单独的绕组，具有在电弧转移过程中的电流控制功能，并能够增加电弧转移的远离距离。
这些和其它的特点和优点通过结合下面的附图进行的说明将更加清楚地看出：
图1是和本发明有关的现有技术的电路示意图；
图2是本发明的最佳实施例中的电路示意图；
图3A是表示引导电弧操作方式和切割电弧操作方式所需的操作区域的电压电流曲线图；
图3B是表示例如图3A所示的具有在图1的现有技术中使用的一个电压电流特性曲线的曲线；
图3C是类似于图3B的表示如图2所示的本发明的最佳实施例中产生的两个单独的电压电流特性曲线的图；
图4A是类似于图3B表示在具有一个电压电流操作曲线的本发明的现有技术中两种操作方式之间的转移控制的曲线；
图4B是类似于图4A的表示本发明的最佳实施例的控制转换特点的曲线图；
图4C是说明图4A所示的现有技术的控制转换和图4B所示的本发明的最佳实施例的控制转换的区别的示意图；
图5是本发明的最佳实施例的电流检测特征并说明用于在引导方式和切割方式之间转换的分流装置的第二种结构的图；
图6是说明图5所示的本发明的实施例的远离距离特征的曲线图；
图7是用于本发明的实施例中的具有示意地表示的绕组的逆变器变压器的示意图；
图8是表示本发明用于切割呈多孔金属网板的形式的一系列金属件的侧剖视图；
图9是类似于图5的线路图，说明具有第二绕组网络的最佳实施例，其中如通常使用的那样包括两个相反极性的绕组；
图10A和图10B是表示图9所示的本发明的最佳实施例的操作特性的简化示意线路图；
图11是表示图10A和10B所示的本发明的实施例的操作的脉冲图；以及
图12是本发明的实施例的另一种改型。
参见附图，其中所示仅用于说明本发明而不是对其进行限制，图1表示和本发明相关的现有技术，其中等离子系统A包括等离子喷枪10，其具有标准电极12，电极具有安装在喷嘴20内的尖端14，喷嘴具有电弧喷口22，把工件30暴露于电极尖端14。在电极和喷嘴之间产生引导电弧P，具有大约150-160V的电压Va。在系统A操作期间，工件30离开喷嘴20。由流过电阻40的引导电弧电流Ip产生工件和喷嘴之间的电压Vw。电阻40并联在工件30和喷嘴20之间并位于由开关SW闭合而形成的串联电路中。电流Iw是工件电流，它在工件接近喷嘴时流过，并通过分流器42进行测量。总电流Ir是引导电弧电流Ip加上工件电流Iw。电抗器44维持从电源50到等离子系统的输入脉冲之间的电流。在所示的现有技术中，直流电源50是全桥逆变器，其具有一次绕组52，用于驱动变压器T在极性相反的二次绕组54，56中产生输出脉冲。可以理解，全桥整流器可以包括4个二次绕组；不过，为了说明本发明二次绕组的数量和结构并不是重要的。使脉冲通过一次绕组52，从而在二次绕组54，56中产生脉冲。当一个方向的电流脉冲通过一次绕组52时，将在单独的二次绕组54，56中产生相反极性的电流脉冲。二极管60，62整流间隔输出的电流脉冲，当电源连接于工件30和喷枪10时使其进行直流操作。此外，引导电弧P具有大约为150V的电压。开关SW打开以便使电弧转移到工件30上。电阻40上的电压是电压Vw，它和喷嘴与工件之间的电压相同。实际上，电阻40上的电压大约为60V。因而在本例中工件30和电极12之间的电压是210V。实际上，在电极和变压器T之间通常包括电抗器。在这种情况下，在电抗器上将产生一个电压用于维持在绕组54，56中的单独的间隔输出的脉冲之间的引导电弧。为了开始切割操作，当在工件和喷嘴之间的电压至少为60V时把开关SW打开。利用可用于电弧转移的60V电压，只有在工件30相当接近喷嘴20时才能进行电弧转移。这是本发明涉及的一般现有技术的操作。现有技术的和本发明的电源可以取任何通常的形式。利用各种输出绕组结构可以是全桥和或半桥的。
本发明最佳实施例的附图用于说明本发明而不是对其进行限制。图2表示按照本发明第一实施例构成的等离子系统B，其中第一二次电路装置100用于在电极12和喷嘴20之间产生和维持引导电弧。该电路装置包括其自身的在输出变压器110的铁心上的单独的二次绕组102，并且包括整流二极管112和惯性二极管150。实际上，在这种电路中可使用一个以上的绕组，使绕组的极性相反，从而使得当变压器110的输入被逆变器供给相反方向的电流脉冲时产生其极性被控制的离散的整流脉冲。为了简化只用一个绕组进行说明。合适的绕组结构在Bilczo 4897522和Bilczo 4897773中披露了。绕组具有许多匝，以便产生为引起和维持引导电弧所需的高电压。图3C和4B示出了系统B在特定电压电流曲线的区域内的操作。开关SW1图中所示为晶体管或IGBT120。当开关SW1闭合时，电路装置100和喷枪10的电极与喷嘴串联。用这种方式，借助于从绕组102得到的电压可以产生引导电弧。分流器132测量总电流IA并用于调节。分流器130用于检测引导电流。扼流圈或电抗器140用于维持电流，从而在间隔的输入脉冲之间即变压器10的间隔的输出脉冲之间维持引导电弧。在操作时，开关SW1被闭合，使得变压器110的二次绕组102被激励(最好两个绕组102)。绕组102内的电流脉冲在电极和喷嘴之间的间隙上以及电抗器上产生电压。实际上，引弧电压大约为150V，扼流圈140的电压大约为50V；因此，绕组102的输出大约为200V。如果工件30要被切割，则把其移近喷枪10。这种接近由分流器130和132中的电流检测到，从而打开开关SW1，并激励二次电路装置200。这二次电路装置200包括二次绕组202，整流二极管204和惯性二极管206。当开关SW1打开时，二次绕组上的电压被用于立即把电弧转移到工件30上。电容器210用于在没有电流从工件通过电极时即在工件30不在其位时维持峰值电压。按照本发明的这一方面，通过工件30的电流是分流器132的电流减去引弧分流器130的电流。在本发明的这一实施例中，工作电流Iw是非直接测量的，而不用一个单独的分流器测量这一特定电流。如后面所要解释的，工件电流表示通过打开开关SW1使电弧转移发生的合适的条件。
图3A-3C和图4A-4C所示的电压电流曲线用于说明图1所示的现有技术和图2所示的本发明的最佳实施例之间的区别。这些曲线包括引弧操作的X区域和切割电弧操作区域Y。这些区域是和本发明的两种操作方式有关的可调节的最佳操作区域。现在参看图3A，区域X的特征是高电压低电流，用于引弧。区域Y的特征是低电压大电流。该区域是确定切割操作的操作条件。在图3B中，说明了现有技术的系统的一个特性曲线230。因为使用一个绕组54，56，所以产生一个特性曲线230，其被设计和区域X与Y相交。这一个特性曲线不可能对X和Y区域的每一个进行优化。现在参看图3C，对于绕组102，电路装置100的特性曲线是曲线132，其被对于X区域在系统B的引弧操作方式下优化。特性曲线234由绕组202和电路装置200产生，并对于区域Y优化。在图4A-4C中，在区域X，Y中的控制点分别是当在引弧方式或切割方式下为控制设备选择的操作点。如图4A所示，从点250到点252的位移是线260。因而，当图1的开关SW打开时，控制设备沿着线260从点250移动到点252。当图2所示的系统B的开关SW1打开时，控制设备发生相同的操作。这在图4B中示出了；不过，本发明和现有技术相比的优点在图4C中示意地示出了。当从操作点250向操作点252移动时，变压器输出跳过距离262，然后，由电流控制设备逐渐地移动到点252。这和现有技术的区别是明显的，现有技术要求电流控制设备立即直接地从点250移动到点252，其距离如线段264所示。可以看出本发明的移动线段263大大小于现有技术的线段264。因而，通过使用本发明，首先控制点沿着线260立即跳跃，然后逐渐地移动到点252。现有技术要求控制设备沿着总距离线260操作。图4A-4C所示的曲线是定性的示意曲线，用于理解本发明的优点。实际的电流控制设备不是本发明的部分。只需要认识到，对于引弧方式和切割方式使用单独的绕组在允许系统具有不同的电压电流曲线方面具有明显的优点。
为了控制在引弧方式和切割方式之间移动，在系统B中使用工作电流的季节测量，如图2所示。更直接地使用工件电流的情况示于图5，其中系统C包括由工件电流检测器或分流器302和以前说明的分流器130控制的电流响应开关电路300。电路300在分流器302上检测到工作电流超过给定值时打开开关SW1。当分流器130中的电流减少到给定值时开关闭合，从而重新建立引弧方式。电路300通过使用具有代表工作电流Iw的第一输入312的高增益运算放大器实现这种功能。在线314上的远离参考信号和在线312上的电压信号比较，从而控制放大器310的输出。当这放大器产生逻辑信号1时，开关点320被触发从而在输出322中产生用于打开开关SW1的信号。这切断引导电弧并立即转移电弧。通过直接测量工作电流，系统C检测工件30处于合适的位置并足够接近以便维持转移电弧的时刻。这是实际工作电流的直接测量，并可以通过在线314上的参看电压或门限电压精确地控制，从而给出喷枪10从电路装置100转移到电路装置200的精确的转移操作。当工件被除去时，电流IA由于变压器的功能而减少，该电流由分流器130测量或检测，该分流器控制代表电弧电流的电压的高增益运算放大器330。在线334上的参看电压信号在运算放大器330的输出产生逻辑1，从而触发点320在线324产生信号，该信号在分流器130中的电流减少到门限值以下时启动开关SW1。用这种方式，通过工件位置确定电弧转移。当工件移近喷枪时，电弧被转移。当工件从喷枪移开时，电弧返回引弧方式。现在参看图6，其中以一般的表达方式说明参看线314的电压值。为了表示如实际上使用的实现向切割方式转移的一般方法，可参看线340，它表示工作在28A的引导电弧的系统的操作。假定电路300要被调整到在喷枪342和工件点342之间距离0.3时转移到切割方式。在线314中的参考值被调整到大约为1.7A的工作电流Iw。当这个工件电流被放大器310检测到时，开关SW1被打开，从而从第一电路装置100转移到第二电路装置200而开始切割操作。实际上，电弧在2A或更小时转移。在图1所示的由Ir维持的28A的引导电流下转移距离或远离距离略小于0.3英寸。在线314上较低的转移点允许较大的远离距离，但是也需要较高的转移电压Vw。
图7示意地示出了变压器110，其中一次绕组P1/P2被表示为绕组350，它在图2和图5中也被表示为输入绕组。用于引导电弧电路装置100的二次绕组102以相对细的线绕在变压器110的铁心110a上，用于产生引导操作方式的高电压和低电流。因为使用全桥逆变器，所以使用两个单独的绕组SP1，SP2。这些绕组极性相反，如图9所示。用类似方式，大的二次绕组202包括极性相反的绕组S1/S2，也如图9所示。从图7应该理解，在电路装置100和电路装置200中使用的绕组数由电源和变压器的输入网络确定。本发明涉及对于不同的操作方式使用两个不同的绕组网络，不过，在网络中的绕组的结构和数量可以改变。
图8说明使用等离子喷枪10切割具有分开的元素的多孔金属网板360时的情况。当喷嘴在元素362的上方时，间距z相对较短；因此，分流器302中的电流增加而超过由在线314中的远离电压确定的门限值。如果间距z小于结合图5和图6说明的所选择的远离距离，则电弧被转移从而切割工件或元素362。在通过元素362之后，则具有一个无限的间距z，因此，分流器130的电流减少并维持引导电弧，如结合图5中电路300的操作所解释的那样。喷枪在多孔金属网板360上的快速运动按照电弧由切割方式转移到引弧方式而被重复并被精确地控制，其转移由通过电路300的分流器130和302检测的工件相对于喷枪的位置确定。这是相对于现有技术的优点，并且是借助于高精度的电弧转移实现的。本发明的这一方面应当在图1所示的现有技术中实现，其中电流检测装置可以进行引导方式和切割方式之间的转换。
本发明的另一方面如图9-11所示，其中系统C被修改产生系统D。在该系统中，两个相反极性的绕组102和202分别被示意地表示为等离子二次绕组SP1，SP2和SC1，SC2。使用两个极性相反的并联的绕组以前作为一般的逆变器构思已经讨论过。本发明不依赖于所需用于产生操作电流的变压器绕组的细节。逆变器电源在具有可变长度以便进行调整电流Ir的控制的二次绕组中提供脉冲。在系统D中，除去了惯性二极管150，206，使得惯性电流在一次绕组350中流动，如图2所示。引导电弧绕组SP1，SP2极性相反，并且包括整流二极管220和缓冲电路230。切割绕组SC1，SC2极性相反，并具有含有存储电容器202的专用缓冲电路240，用于存储工件和喷嘴之间的高电压，这高电压发生在当系统D工作在引弧方式时因为电弧转移而使一次绕组350截止的期间。通过使用电容器242，电路200产生高的工件对喷嘴的电压，在实际上大约为340V。当在绕组350的一次电压被切断时即在具有一次惯性二极管的推拉变压器的脉冲之间出现这种峰值电压。工件到喷嘴的平均电压大约为200V。二极管缓冲电路240在一次截止时间存储能量，并使工件对喷嘴电压最大。当一次导通时，由引弧绕组SP1，SP2维持引弧。此时，引弧绕组产生实际上大约为285V的电压，其在引导电弧和电抗器140上分配。引弧电压大约为160V，电抗器电压大约为125V。切割绕组没有闭合的电路，从而在绕组SC1，SC2产生开路电压。这些绕组产生大约为275V的电压，在接通时刻具有大约为25％的过冲。这过冲电压的峰值把电容器242充电到大约为340V。这电容器电压是和引弧电压(160V)以及电抗器电压(125V)串联的，从而在工件和喷嘴之间产生大约为50-60V的电压。当一次电压截止时，流过引弧电路100中的电流将由存储在输出电抗器140中的能量维持。电流继续以非常小的电压降流过引弧绕组SP1，SP2。在变压器一次侧上的嵌位二极管通过允许由二次电路产生的任何电流流过来限制一次侧电压。160V的引弧被维持，并在输出电抗器140上出现-160V电压。变压器绕组SP1，SP2在这状态期间被嵌位为0V，但是切割电源仍然维持340V。这电压来自在逆变器的一个状态期间被充电的缓冲电容器242。在切割电路200中没有电流通路，使得电容器242不能放电。切割二极管D1和D2永不流过任何惯性电流。引弧电源电压非常接近于0，使得工件到喷嘴的电压等于电容器242上的电压，从而产生340V的工件到喷嘴的电压。
因为输入脉冲的速率为每秒几百个脉冲，在发生在引弧操作方式中的输出脉冲之间存在放电间隔或期间。本发明的优点将使用有代表性的电压结合图10A-10B进行说明。当开关SW闭合并且引弧P被建立时，如图10A所示，引弧具有实际上大约为160V的电压。电抗器140具有140V的电压。因而，在绕组102中产生二次脉冲，二次绕组102的电压大约为300V。电路装置200的绕组202的开路电压大约为275V，在接通时具有25％的过冲，其峰值使电容器210充电，或使缓冲电容器242充电到340V，如图9所示。在这些电压下，工件对喷嘴的电压大约为60V。当由于输入脉冲的中断而使输出脉冲截止时，电路装置100试图续流。然而，图5所示的二极管150已被从绕组102上除去。因而，电路装置100的续流通过绕组102而发生，绕组102在变压器铁心110a上和一次绕组350紧密耦合，并产生大约为10V的电压降。在这续流状态期间，电流被电抗器140维持。这使得在电抗器上出现-160V的电压。绕组102的电压降为10V，因而剩余的150V的电压出现在喷嘴和电极之间。电容器210保持在一个状态下的充电状态，并且绕组102在其上具有大约为10V的电压。这产生大约为310V的工件对喷嘴的电压。因而，在引弧操作方式期间，极高的电压加在工件和喷嘴之间。这个过程在图11中说明了，其中在一次电流脉冲P截止时在输出脉冲之间产生高电压脉冲360。脉冲360的速率为几个KHz。该过程示于图11并且只要开关SW闭合，该过程就被继续。当开关为把电弧转换为切割方式而打开时，可得到高电压用于电弧转移。这在本领域中是极为先进的，并大大改进了电弧向工件的转移。高的工件喷嘴电压使得电源能够在0.5英寸以上可靠地产生电弧转移。实际上，工件喷嘴电压被限制，以便满足IEC974-1的规定。这规定要求工件喷嘴电压被限制在113VDC峰值。由于113VDC的峰值的限制，转移距离将减少，然而电源应满足这一规定。因此，标准电压限制电路被加在工件和喷嘴之间。
实际上引弧绕组比切割绕组具有较高的匝数比。当引弧开关打开时，电弧转移到工件上，并且电源的负载从高压低电流转换为低压高电流。此时，转换的一部分由于不同的变压器绕组的作用而发生，转换的其余部分由控制系统处理。当电弧缩回喷嘴时(引导电弧)发生同样的增强的转变。负载从低电压大电流转换为高电压低电流。当引弧绕组重新接通时这转变的一部分瞬时发生。控制系统的响应时间可以减少，并且每秒的最大转移数可以增加。
当最大一次电流是主要的设计参数时，如图5和9所示的双绕组电路将是有利的。例如，在常规的单绕组输出电路中，绕组的比和上面使用的引导比相似。然而，这高匝数比的绕组也用于切割方式并且要求大的一次电流。当和双绕组电路比较时，常规的单绕组电路需要较多的一次电流。双绕组电路通过使切割绕组具有较低的匝数比而减少一次电流的最大值。
为了说明本发明的宽度，图12示出了等离子系统E，其中电源400通过使电流脉冲通过一次绕组412而产生交流脉冲用于驱动输出变压器410。二次绕组414，如前所述可以包括一组极性相反的绕组，包括中间抽头420，用于确定较低的二次绕组部分422。通过使用这一输出二次网络，借助于使用整流二极管430和开关432而形成等离子电弧电路装置100a。在电路100a中的电流由分流器130检测，从而测量引弧电路Ip。电路装置100a执行在本发明的最佳实施例中所述的电路装置100的功能。按类似方式，电路装置200a具有整流二极管440和分流器302在切割方式下工作。因而，一个二次绕组414可以起到类似于本发明最佳实施例中使用的两个单独绕组102，202的作用。
在本发明的实施中，引弧方式和切割方式的匝数比是不同的，即引弧为26∶26，切割为26∶24。本发明可以利用相同的匝数比，不过，这种方案将使本发明失去一些优点，因为构成本发明基本特征的两个单独绕组将工作在基本相同的输出曲线上。然而，本发明仍然产生高的喷嘴工件电压，当工件移近喷嘴时用于电弧转移。本发明的实施例使用匝数比引弧绕组多的切割绕组，从而对于切割方式产生高的电压输出，例如当高电压操作有利即打孔时。
Claims (20)
1、一种等离子系统，包括电极和具有等离子电弧喷口的喷嘴，所述喷口使所述电极暴露于工件，并具有包括一次绕组网络和由所述一次绕组网络驱动的二次绕组网络的输入变压器，由所述二次绕组网络驱动的用于产生在所述电极和所述喷嘴之间的引导电弧的第一电路装置，由所述二次绕组网络驱动的用于产生在所述电极和所述工件之间的等离子电弧的第二电路装置，以及用于选择地在所述第一电路装置和所述第二电路装置之间转换的装置，其特征在于：所述二次绕组网络包括具有用于驱动所述第一电路装置的有效匝数的第一绕组装置和具有用于驱动所述第二电路装置的有效匝数的第二绕组装置。
2、如权利要求1所述的等离子系统，其特征在于：所述第一绕组装置具有第一有效匝数，所述第二绕组装置具有第二有效匝数，所述第一和第二有效匝数是不同的。
3、如权利要求2所述的等离子件系统，其特征在于：所述第一绕组装置提供具有第一总电流范围的第一电压范围，所述第二绕组装置提供具有第二总电流范围的第二电压范围。
4、如权利要求3所述的等离子件系统，其特征在于：所述第一电压范围远大于所述第二电压范围。
5、如权利要求1所述的等离子件系统，其特征在于：所述第一绕组装置包括两个极性相反的单独的二次绕组，其每个具有所述第一有效匝数。
6、如权利要求5所述的等离子件系统，其特征在于：所述第二绕组装置包括两个极性相反的单独的绕组，其每个具有所述第二有效匝数。
7、如权利要求1所述的等离子件系统，其特征在于：包括用于检测在所述第一第二电路装置中的一个的电流值的装置，和用于当所述检测电流值超过给定电流时使开关装置转换到所述第二电路装置的装置。
8、如权利要求7所述的等离子件系统，其特征在于：所述检测电流值是所述工件和所述电极之间的电流。
9、如权利要求1所述的等离子件系统，其特征在于：包括用于检测在所述第一第二电路装置中的一个的电流值的装置，和用于当所述检测电流值小于给定电流时使开关装置转换到所述第一电路装置的装置。
10、如权利要求9所述的等离子件系统，其特征在于：包括用于检测在所述第一第二电路装置中的一个的电流值的装置，和用于当所述检测电流值超过给定电流时使所述开关装置转换到所述第二电路装置的装置。
11、如权利要求9所述的等离子件系统，其特征在于：所述检测电流值是从所述工件到所述电极之间的电流。
12、如权利要求7所述的等离子件系统，其特征在于：所述电流值是从所述工件到所述电极之间的电流。
13、如权利要求1所述的等离子件系统，其特征在于：所述第二绕组装置是所述第一绕组装置的一部分。
14、如权利要求3所述的等离子件系统，其特征在于：所述第二绕组装置是所述第一绕组装置的一部分。
15、如权利要求5所述的等离子件系统，其特征在于：所述第二绕组装置是所述第一绕组装置的一部分。
16、如权利要求1所述的等离子系统，其特征在于：包括用于检测在所述第一第二电路装置中的一个的电流值的第一检测装置，和用于当所述检测的电流值超过给定电流时使开关装置转换到所述第二电路装置的装置。
17、如权利要求16所述的等离子系统，其特征在于：包括用于检测在所述第一第二电路装置中的一个的电流值的第二检测装置，和用于当所述检测的电流值小于给定电流时使所述开关装置转换到所述第一电路装置的装置。
18、如权利要求1所述的等离子系统，其特征在于：包括用于检测在所述第一第二电路装置中的一个的电流值的第二检测装置，和用于当所述检测的电流值小于给定电流时使开关装置转换到所述第一电路装置的装置。
19、一种用于操作等离子系统的方法，所述等离子系统包括电极和具有等离子电弧喷口的喷嘴，所述喷口使所述电极暴露于工件，并具有包括一次绕组网络和由所述一次绕组网络驱动的二次绕组网络的输入变压器，由所述二次绕组网络驱动的用于产生在所述电极和所述喷嘴之间的引导电弧的第一电路装置，由所述二次绕组网络驱动的用于产生在所述电极和所述工件之间的等离子电弧的第二电路装置，以及用于在所述第一电路装置和所述第二电路装置之间转换的装置，所述方法包括以下步骤：
(a)提供所述第二绕组网络作为具有一有效匝数的用于驱动所述第一电路装置的第一绕组装置，以及具有一有效匝数的用于驱动所述第二电路装置的第二绕组装置；
(b)检测所述第一和第二电路装置中的一个的电流值；以及
(c)当所述检测的电流值超过给定电流时使开关装置转换到所述第二电路装置的装置。
20、如权利要求19所述的方法，其特征在于还包括以下步骤：
(d)检测所述第一和第二电路装置中的一个的电流值；以及
(e)当所述检测的电流值小于给定电流时使所述开关装置转换到所述第一电路装置。
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100464926C (zh) * | 2003-07-01 | 2009-03-04 | 株式会社大亨 | 等离子弧电源装置 |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AT2774U1 (de) * | 1998-05-04 | 1999-04-26 | Inocon Technologie Gmbh | Verfahren und einrichtung zum teilweisen anschmelzen von gegenständen |
| US6313429B1 (en) * | 1998-08-27 | 2001-11-06 | Retech Services, Inc. | Dual mode plasma arc torch for use with plasma arc treatment system and method of use thereof |
| US6369350B1 (en) | 2001-05-30 | 2002-04-09 | Thermal Dynamics Corporation | Plasma-arc torch system with pilot re-attach circuit and method |
| US6794601B2 (en) | 2002-09-05 | 2004-09-21 | Thermal Dynamics Corporation | Plasma arc torch system with pilot re-attach circuit and method |
| US6992262B2 (en) * | 2003-10-09 | 2006-01-31 | Illinois Tool Works Inc. | Method and apparatus for localized control of a plasma cutter |
| US7034245B2 (en) * | 2004-06-29 | 2006-04-25 | The Esab Group, Inc. | Systems and methods for controlling pilot arc current in an arc cutting or welding machine |
| US8263896B2 (en) * | 2005-01-03 | 2012-09-11 | Illinois Tool Works Inc. | Automated determination of plasma torch operating mode |
| US7807937B2 (en) * | 2005-01-03 | 2010-10-05 | Illinois Tool Works Inc. | Method and system of conserving plasma torch consumable |
| US7781699B2 (en) * | 2006-03-30 | 2010-08-24 | Illinois Tool Works Inc. | Plasma torch with post flow control |
| US8927895B2 (en) * | 2007-07-31 | 2015-01-06 | Hypertherm, Inc. | Method and apparatus for sensing the length of a lead |
| US7982159B2 (en) * | 2007-09-25 | 2011-07-19 | Kaliburn, Inc. | Plasma arc ignition using a unipolar pulse |
| US8232501B2 (en) * | 2007-09-27 | 2012-07-31 | Sansha Manufacturing Co., Ltd. | Plasma arc power supply and control method therefor |
| TWI381776B (zh) * | 2008-12-03 | 2013-01-01 | Creating Nano Technologies Inc | 電漿放電裝置 |
| KR101880622B1 (ko) * | 2011-12-16 | 2018-07-24 | 한국전자통신연구원 | 플라즈마 젯 어셈블리 및 그를 구비하는 플라즈마 브러시 |
| US20150273231A1 (en) * | 2014-03-31 | 2015-10-01 | Electronics And Telecommunications Research Institute | Plasma system |
| PT3202234T (pt) * | 2014-10-01 | 2018-10-01 | Umicore Nv | Fonte de alimentação para aquecedor a gás de arco elétrico |
| JP6419600B2 (ja) * | 2015-02-19 | 2018-11-07 | 株式会社ダイヘン | プラズマ溶接用電源装置 |
| CN112475568B (zh) * | 2020-10-28 | 2024-02-20 | 上海沪工焊接集团股份有限公司 | 双电压等离子切割机导弧控制方法和装置 |
| CN114932299B (zh) * | 2022-05-30 | 2024-05-03 | 上海米勒焊接设备有限公司 | 等离子切割机切割弧压检测电路 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5189277A (en) * | 1991-04-08 | 1993-02-23 | Thermal Dynamics Corporation | Modular, stackable plasma cutting apparatus |
| US5225658A (en) * | 1988-03-24 | 1993-07-06 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Stopping a plasma arc cutter upon completion of cutting |
| US5296665A (en) * | 1992-05-19 | 1994-03-22 | Hypertherm, Inc. | Method of restarting a plasma arc torch using a periodic high frequency-high voltage signal |
| US5530220A (en) * | 1994-04-11 | 1996-06-25 | Thermal Dynamics Corporation | Plasma torch arc transfer circuit |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3641308A (en) * | 1970-06-29 | 1972-02-08 | Chemetron Corp | Plasma arc torch having liquid laminar flow jet for arc constriction |
| FR2232395B1 (zh) * | 1973-06-06 | 1976-05-28 | Soudure Autogene Francaise | |
| US4282569A (en) * | 1979-07-12 | 1981-08-04 | Union Carbide Corporation | Constant current welding power supply with an upslope starting current |
| WO1989009110A1 (en) * | 1988-03-24 | 1989-10-05 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Plasma-arc cutting machine and a method of controlling the same |
| US4943699A (en) * | 1988-06-09 | 1990-07-24 | Powcon Inc. | System for supplying power |
| US4897522A (en) * | 1989-02-06 | 1990-01-30 | The Lincoln Electric Company | Output control circuit for inverter |
| US4996407A (en) * | 1989-04-03 | 1991-02-26 | Hyperpower, Inc. | Plasma arc transfer controller |
| US4897773A (en) * | 1989-05-03 | 1990-01-30 | The Lincoln Electric Company | Inverter output circuit |
| US5045667A (en) * | 1990-06-06 | 1991-09-03 | Rockwell International Corporation | Manual keyhole plasma arc welding system |
| US5416297A (en) * | 1993-03-30 | 1995-05-16 | Hypertherm, Inc. | Plasma arc torch ignition circuit and method |
| JP2925467B2 (ja) * | 1994-12-27 | 1999-07-28 | 株式会社三社電機製作所 | プラズマアーク電源装置 |
| US5620617A (en) * | 1995-10-30 | 1997-04-15 | Hypertherm, Inc. | Circuitry and method for maintaining a plasma arc during operation of a plasma arc torch system |
-
1997
- 1997-03-13 US US08/815,935 patent/US5831237A/en not_active Expired - Lifetime
-
1998
- 1998-03-09 CA CA002231634A patent/CA2231634C/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-03-12 MY MYPI98001078A patent/MY116725A/en unknown
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- 1998-03-13 EP EP98104542A patent/EP0865230B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-03-13 CN CN98108047A patent/CN1087672C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1998-03-13 ES ES98104542T patent/ES2312180T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1998-03-13 JP JP10062401A patent/JP2949665B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5225658A (en) * | 1988-03-24 | 1993-07-06 | Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho | Stopping a plasma arc cutter upon completion of cutting |
| US5189277A (en) * | 1991-04-08 | 1993-02-23 | Thermal Dynamics Corporation | Modular, stackable plasma cutting apparatus |
| US5296665A (en) * | 1992-05-19 | 1994-03-22 | Hypertherm, Inc. | Method of restarting a plasma arc torch using a periodic high frequency-high voltage signal |
| US5530220A (en) * | 1994-04-11 | 1996-06-25 | Thermal Dynamics Corporation | Plasma torch arc transfer circuit |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100464926C (zh) * | 2003-07-01 | 2009-03-04 | 株式会社大亨 | 等离子弧电源装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100296056B1 (ko) | 2002-11-18 |
| RU2143963C1 (ru) | 2000-01-10 |
| JP2949665B2 (ja) | 1999-09-20 |
| ES2312180T3 (es) | 2009-02-16 |
| ID20040A (id) | 1998-09-17 |
| AU5839698A (en) | 1998-10-01 |
| EP0865230B1 (en) | 2008-08-20 |
| MY116725A (en) | 2004-03-31 |
| DK0865230T3 (da) | 2008-12-08 |
| TR199800441A3 (tr) | 1999-10-21 |
| JPH10296444A (ja) | 1998-11-10 |
| US5831237A (en) | 1998-11-03 |
| EP0865230A1 (en) | 1998-09-16 |
| UA44800C2 (uk) | 2002-03-15 |
| ATE406084T1 (de) | 2008-09-15 |
| TW533753B (en) | 2003-05-21 |
| CN1203843A (zh) | 1999-01-06 |
| TR199800441A2 (xx) | 1999-10-21 |
| DE69839901D1 (de) | 2008-10-02 |
| KR19980080233A (ko) | 1998-11-25 |
| CA2231634A1 (en) | 1998-09-13 |
| AU705753B2 (en) | 1999-06-03 |
| CA2231634C (en) | 2001-02-06 |
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