CN108761603A - 一种制作平行等间距条纹全息光栅的光刻系统 - Google Patents
一种制作平行等间距条纹全息光栅的光刻系统 Download PDFInfo
- Publication number
- CN108761603A CN108761603A CN201810495948.7A CN201810495948A CN108761603A CN 108761603 A CN108761603 A CN 108761603A CN 201810495948 A CN201810495948 A CN 201810495948A CN 108761603 A CN108761603 A CN 108761603A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- collimation lens
- light beam
- grating
- photodetector
- bragg grating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1847—Manufacturing methods
- G02B5/1857—Manufacturing methods using exposure or etching means, e.g. holography, photolithography, exposure to electron or ion beams
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/32—Holograms used as optical elements
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/7055—Exposure light control in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control or light interruption
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Abstract
本发明属于信息光学领域,涉及一种制作平行等间距条纹全息光栅的光刻系统,为解决制作平行等间距条纹全息光栅时曝光光束平行度差的技术问题,使用体布拉格光栅‑1级透射衍射效率作为平行光的判断标准,可以较为精确的确定针孔滤波器与准直透镜之间的距离,准确的将针孔滤波器的小孔放置在准直透镜的物方焦点上,从而实现干涉光路的准直;此外该系统有助于实现对曝光光束平行性的实时监控,配合PZT平移台还可以实现对平行光的锁定,从而提高了平行等间距条纹的全息光栅的拍摄质量。
Description
技术领域
本发明属于信息光学技术领域,涉及一种拍摄全息光栅的光刻系统。
背景技术
平面平行等间距条纹全息光栅是一种重要的衍射光学元件,广泛应用于光谱仪、光通信、光学计量、强激光系统等。该类光栅对光栅条纹的平行性也提出了苛刻的要求,记录光的平行性差,直接影响到光栅的波像差。因此,记录全息光栅的平行光的自准直性要好。准直光路的光学器件一般用非球面透镜或离轴抛物面镜来自准直,获得平行光。常见的全息光路准直性检测方法有莫尔条纹法和标准参考光栅法。莫尔条纹法:如附图2所示,先用自准直法,将平行光再返回针孔滤波器,根据先验知识,返回的光斑直径约5mm,认为针孔位于透镜的前焦点上,产生平行光;按照传统的全息曝光和显影,将制作的光栅基板旋转180度置于原光路中,调节莫尔条纹周期到厘米量级,观察莫尔条纹,若发现莫尔条纹呈碗状弯曲,则说明针孔离焦,调节针孔的前后位置,直至莫尔条纹成水平状态,记录水平调节的位移量,然后返回调节量的一半,此时针孔位于准直透镜的前焦面上,该方法需要制作检测光栅,容易受到环境的影响,时效性差。准标参考光栅法:将标准光栅置于带曝光支架上,如附图2所示,先用自准直法,将平行光再返回针孔滤波器,根据先验知识,返回的光斑直径约5mm,认为针孔位于透镜的前焦点上,产生平行光,观察标准参考光栅的莫尔条纹,调节莫尔条纹周期到厘米量级,若发现莫尔条纹呈碗状弯曲,则说明针孔离焦,调节针孔的前后位置,直至莫尔条纹成水平状态,此时说明针孔位于准直透镜的前焦面上,该方法需要标准参考光栅,标准光栅制作十分复杂,需要用干涉仪反复检测,直至制备出低像差的标准光栅。
发明内容
为解决制作平行等间距条纹全息光栅时曝光光束平行度差的技术问题,本发明技术方案如下:
一种制作平行等间距条纹全息光栅的光刻系统,该光刻系统包括相干光源、分束器、第一反射镜,第二反射镜,第一针孔滤波器,第二针孔滤波器,第一准直透镜,第二准直透镜;第一体布拉格光栅、第二体布拉格光栅、第一光电探测器、第二光电探测器;
相干光源发出的光经过分束器后被分成透射光路和反射光路;沿着光传播方向反射光路上依次放置第一反射镜、第一针孔滤波器、第一准直透镜;透射光路上依次放置第二反射镜、第二针孔滤波器、第二准直透镜;反射光路经过第一准直透镜后的光作为第一曝光光束,透射光路经过第二准直透镜后的光作为第二曝光光束;
其特征在于:
以靠近相干光源端为前,光传播方向为后;第一准直透镜的后方放置第一体布拉格光栅,所述的第一体布拉格光栅口径小于第一准直透镜口径,且第一曝光光束入射至第一体布拉格光栅的入射角等于第一体布拉格光栅的布拉格角,第一光电探测器放置在第一曝光光束入射至第一体布拉格光栅后的-1级透射衍射光路上,用于测量其-1级透射衍光的衍射效率;
第二准直透镜的后方放置第二体布拉格光栅,所述的第二体布拉格光栅口径小于第二准直透镜口径,且第二曝光光束入射至第二体布拉格光栅的入射角等于第二体布拉格光栅的布拉格角,第二电探测器放置在第二曝光光束入射至第二体布拉格光栅后的-1级透射衍射光路上,用于测量其-1级透射衍光的衍射效率;
第一针孔滤波器放置于第一准直透镜的物方焦点处;
第二针孔滤波器放置于第二准直透镜的物方焦点处。
使用上述装置进行干涉拍摄时需要将第一针孔滤波器沿着光轴前后移动,实时观察第一光电探测器的读数;当第一光电探测器的读数最大时,固定第一针孔滤波器并且保持第一针孔滤波器与第一准直透镜间距恒定;
将第二针孔滤波器沿着光轴前后移动,实时观察第二光电探测器的读数;当第二光电探测器的读数最大时,固定第二针孔滤波器并且保持第二针孔滤波器与第二准直透镜间距恒定;
经过上述调整后,调整完毕后第一曝光光束与第二曝光光束为平行光;此时第一曝光光束与第二曝光光束产生的干涉条纹为严格的平行等间距条纹,用于对待制作全息光栅干版曝光可以获得高质量的平行等间距条纹全息光栅。
上述方案中所述的光电探测器的读数最大时应理解为针孔滤波器沿着光轴来回移动时,光电探测器实际探测到体布拉格光栅-1级透射衍射光衍射效率的最大值。
为了便于控制全息光栅的周期,优选方案:所述的第一曝光光束与第二曝光光束沿着待制作全息光栅法线方向对称排布,并且满足2dsinθ=λ,其中d为待制作全息光栅的周期,λ为相干光源波长,θ为第一曝光光束与第二曝光光束夹角的一半。
上述技术方案用于调整干涉光路自准直的原理为:当曝光光束的光轴与体布拉格光栅的外法线的夹角满足2d0θbsin=λc时,体布拉格光栅的-1级衍射效率最大,其中d0为体布拉格光栅的光栅周期,θb为入射光与体布拉格光栅外法线的夹角(即体布拉格光栅的布拉格角),λc为入射光的波长。入射光的角度一旦偏离布拉格角一个微小量,体布拉格的-1级衍射效率即迅速下降,当偏离角度超出一定范围时(±0.01°),衍射效率就降低为衍射效率峰值的一半;当光束为平行光时,体布拉格光栅的-1级衍射效率达到峰值,此时第i光电探测器的读数最大值;当第一曝光光束是发散光或者会聚光时,大部分入射光将偏离体布拉格光栅的布拉格角,-1级衍射光衍射效率急剧下降;具体调节方法是:将第一针孔滤波器沿着光轴前后扫描,实时观察光电探测器的读数,当发现光电探测器的读数达到最大值时,立即停止扫描,此时第一针孔滤波器准确的放置在了第一准直透镜的物方焦点上,第一曝光光束为平行光;按照上述类似的方法调节第二曝光光束的自准直性。
上述技术方案将两个体布拉格光栅分别放置在第一曝光光束边缘光线与第二曝光光束边缘光线上,只对第一曝光光束与第二曝光光束边缘光进行部分采样监控,若在干涉拍摄过程中发现光电探测器数值发生明显变化则说明参与曝光的光束已偏离平行光,可以根据偏离的程度决定是否终止曝光。
所述的准直透镜可以选用平凸非球面准直透镜,可以矫正球差,获得高质量平行光。
附图说明
图1为制作平行等间距条纹全息光栅的光刻系统示意图;
图2为自准直光路粗调示意图;
图3为自准直光路精调示意图;
其中:1为相干光源,2为分束器,3为第一反射镜,4为第二反射镜,5为第一光阑,6为第二光阑,7为第一针孔滤光波器,8为第二针孔滤波器,9为第一准直透镜,10为第二准直透镜,11为待曝光全息记录干版,12为平面反射镜,13为第一体布拉格光栅,14为第一光电探测器,15为第二光电探测器,16为第二体布拉格光栅。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步描述:
一种制作平行等间距条纹全息光栅的光刻系统,所述的光刻系统用于制作平行等间距条纹的全息光栅;该光刻系统如图1所示,包括相干光源1、分束器2、第一反射镜3,第二反射镜4,第一光阑5,第二光阑6,第一针孔滤波器7,第二针孔滤波器8,第一准直透镜9,第二准直透镜10;第一体布拉格光栅13、第二体布拉格光栅16、第一光电探测器14、第二光电探测器15;
相干光源发出的光经过分束器后被分成透射光路和反射光路;沿着光传播方向反射光路上依次放置第一反射镜、第一光阑、第一针孔滤波器、第一准直透镜;透射光路上依次放置第二反射镜、第二光阑、第二针孔滤波器、第二准直透镜;反射光路经过第一准直透镜后的光作为第一曝光光束,透射光路经过第二准直透镜后的光作为第二曝光光束;
其特征在于:
以靠近相干光源端为前,光传播方向为后;第一准直透镜的后方放置第一体布拉格光栅,所述的第一体布拉格光栅口径小于第一准直透镜口径,如图3所示,且第一曝光光束入射至第一体布拉格光栅的入射角等于第一体布拉格光栅的布拉格角,第一光电探测器放置在第一曝光光束入射至第一体布拉格光栅后的-1级透射衍射光路上;用于测量其-1级透射衍光的衍射效率;
第二准直透镜的后方放置第二体布拉格光栅,所述的第二体布拉格光栅口径小于第二准直透镜口径,且第二曝光光束入射至第二体布拉格光栅的入射角等于第二体布拉格光栅的布拉格角,第二电探测器放置在第二曝光光束入射至第二体布拉格光栅后的-1级透射衍射光路上;用于测量其-1级透射衍光的衍射效率;第一针孔滤波器放置于第一准直透镜的物方焦点处;第二针孔滤波器放置于第二准直透镜的物方焦点处。
上述技术方案中在第一曝光光束与第二曝光光束上各放置一个体布拉格光栅,且各用一个光电探测器检测其体布拉格-1级透射衍射光衍射效率。具体的可将两个体布拉格光栅分别放置在部分第一曝光光束与部分第二曝光光束上,只对第一曝光光束与第二曝光光束的边缘光线进行采样监控,未被采样监控的第一曝光光束与第二曝光光束部分对全息干版进行干涉光刻,若在干涉拍摄过程中发现光电探测器数值发生明显变化则说明曝光光束已偏离平行光,可以根据偏离的程度判定是否在误差允许范围之内,并决定是否需要终止曝光。
在使用上述装置进行干涉拍摄时,将第一针孔滤波器沿着光轴前后移动,实时观察第一光电探测器的读数;当第一光电探测器的读数最大时,固定第一针孔滤波器并且保持第一针孔滤波器与第一准直透镜间距恒定;将第二针孔滤波器沿着光轴前后移动,实时观察所述第二光电探测器的读数;当第二光电探测器的读数最大时,固定第二针孔滤波器并且保持第二针孔滤波器与第二准直透镜间距恒定;此时第一曝光光束与第二曝光光束已被准直为平行光。值得注意的是在使用上述技术方案进行自准直调节时,如图2所示,可使用一块平面反射镜12辅助装调,辅助装调完成后再用体布拉格光栅进行装调;所述的平面反射镜辅助装调步骤为:先在第一准直透镜后垂直光轴方向插入平面反射镜,沿光轴调整第一针孔滤波器位置,使第一曝光光束被平面反射镜反射回光束通过第一针孔滤波器;将所述的平面反射镜垂直光轴方向插入第一准直透镜后,沿光轴调整第二针孔滤波器位置,使第二曝光光束被平面反射镜反射回光束通过第二针孔滤波器。
为了便于控制全息光栅的周期,优选方案:所述的第一曝光光束与第二曝光光束沿着待曝光全息记录干版11法线方向对称排布,并且满足2dsinθ=λ,其中d为待制作全息光栅的周期,λ为相干光源波长,θ为第一曝光光束与第二曝光光束夹角的一半。
为了实现闭环控制,更优的方案为:将第一针孔滤波器、第二针孔滤波器分别安装在PZT平移台上,并将光电探测器的数值实时反馈至PZT平移台,所述的PZT平移台可沿着光轴方向平移。若光电探测器探测的数值发生变化,该变化数值实时反馈至PZT平移台,PZT平移台根据光电探测器的数值变化沿光轴方向移动调整针孔滤波器与准直透镜间距使光电探测器数值恢复至最大值,从而实现自准直状态位置锁定。
上述技术方案的使用带来的技术效果是:使用体布拉格光栅-1级透射衍射效率作为平行光的判断标准可以较为精确的确定针孔滤波器与准直透镜之间的距离,准确的将针孔滤波器的小孔放置在准直透镜的物方焦点上,从而实现干涉光路的准直;此外该方法有助于实现对曝光光束平行性的实时监控,配合PZT平移台还可以实现对平行光的锁定,从而提高了平行等间距条纹的全息光栅的拍摄质量。
本技术方案未详细说明部分属于本领域员公知技术。
Claims (4)
1.一种制作平行等间距条纹全息光栅的光刻系统,该光刻系统包括相干光源、分束器、第一反射镜,第二反射镜,第一针孔滤波器,第二针孔滤波器,第一准直透镜,第二准直透镜;第一体布拉格光栅、第二体布拉格光栅、第一光电探测器、第二光电探测器;
相干光源发出的光经过分束器后被分成透射光路和反射光路;沿着光传播方向反射光路上依次放置第一反射镜、第一针孔滤波器、第一准直透镜;透射光路上依次放置第二反射镜、第二针孔滤波器、第二准直透镜;反射光路经过第一准直透镜后的光作为第一曝光光束,透射光路经过第二准直透镜后的光作为第二曝光光束;
其特征在于:
以靠近相干光源端为前,光传播方向为后;第一准直透镜的后方放置第一体布拉格光栅,所述的第一体布拉格光栅口径小于第一准直透镜口径,且第一曝光光束入射至第一体布拉格光栅的入射角等于第一体布拉格光栅的布拉格角,第一光电探测器放置在第一曝光光束入射至第一体布拉格光栅后的-1级透射衍射光路上,用于测量其-1级透射衍光的衍射效率;
第二准直透镜的后方放置第二体布拉格光栅,所述的第二体布拉格光栅口径小于第二准直透镜口径,且第二曝光光束入射至第二体布拉格光栅的入射角等于第二体布拉格光栅的布拉格角,第二电探测器放置在第二曝光光束入射至第二体布拉格光栅后的-1级透射衍射光路上,用于测量其-1级透射衍光的衍射效率。
2.根据权利要求1所述的制作平行等间距条纹全息光栅的光刻系统,其特征在于:
所述的第一曝光光束与第二曝光光束沿着待曝光全息记录干版法线方向对称排布,并且满足2dsinθ=λ,其中d为待制作全息光栅的周期,λ为相干光源波长,θ为第一曝光光束与第二曝光光束夹角的一半。
3.根据权利要求1或2所述的制作平行等间距条纹全息光栅的光刻系统,其特征在于:
第一针孔滤波器安装在第一PZT平移台上,第二针孔滤波器安装在第二PZT平移台上;
第一光电探测器与第二光电探测器的测试数值实时反馈至对应的第一PZT平移台与第二PZT平移台;第一光电探测器与第二光电探测器的测试数值发生变化时,第一PZT平移台与第二PZT平移台分别沿光轴方向移动使第一光电探测器与第二光电探测器的测试数值为最大值。
4.根据权利要求3所述的制作平行等间距条纹全息光栅的光刻系统,其特征在于:所述的第一准直透镜与第二准直透镜为平凸非球面准直透镜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810495948.7A CN108761603B (zh) | 2018-05-22 | 2018-05-22 | 一种制作平行等间距条纹全息光栅的光刻系统 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810495948.7A CN108761603B (zh) | 2018-05-22 | 2018-05-22 | 一种制作平行等间距条纹全息光栅的光刻系统 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN108761603A true CN108761603A (zh) | 2018-11-06 |
CN108761603B CN108761603B (zh) | 2020-06-16 |
Family
ID=64008302
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201810495948.7A Active CN108761603B (zh) | 2018-05-22 | 2018-05-22 | 一种制作平行等间距条纹全息光栅的光刻系统 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN108761603B (zh) |
Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6066818A (ja) * | 1983-09-22 | 1985-04-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 位置合わせ方法 |
JP2936187B2 (ja) * | 1991-12-16 | 1999-08-23 | 株式会社ニコン | レジストパタ−ンの形成方法 |
CN1845016A (zh) * | 2006-04-24 | 2006-10-11 | 苏州大学 | 全息光栅制作光路的莫尔条纹调节方法 |
CN1845017A (zh) * | 2006-04-24 | 2006-10-11 | 苏州大学 | 用控制装置稳定全息干涉条纹的方法及装置 |
CN101393303A (zh) * | 2008-09-26 | 2009-03-25 | 苏州大学 | 一种制作近红外波段三维光子晶体的方法 |
CN101726779A (zh) * | 2009-12-03 | 2010-06-09 | 苏州大学 | 一种制作全息双闪耀光栅的方法 |
US20110027720A1 (en) * | 2009-08-03 | 2011-02-03 | Ipg Photonics Corporation | Method and Device for Fabricating Volume Bragg Gratings |
CN102087481A (zh) * | 2010-12-22 | 2011-06-08 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种凹面全息光栅曝光光路中实时监测装置的调整方法 |
CN102374901A (zh) * | 2011-09-22 | 2012-03-14 | 中国科学院半导体研究所 | 一种用于测量低波数拉曼信号的单光栅拉曼光谱测试系统 |
CN103134587A (zh) * | 2013-01-29 | 2013-06-05 | 北京理工大学 | 一种基于体全息光栅组件分光的光谱分光成像系统光路 |
CN203825374U (zh) * | 2014-04-21 | 2014-09-10 | 象山星旗电器科技有限公司 | 基于反射型体全息光栅的光路实验装置 |
CN104101928A (zh) * | 2014-07-25 | 2014-10-15 | 上海理工大学 | 具有连续分束比的分束器 |
CN104133267A (zh) * | 2014-08-19 | 2014-11-05 | 林安英 | 制作多波长体布拉格光栅的方法 |
CN105954977A (zh) * | 2016-07-08 | 2016-09-21 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 全息光栅制作装置、曝光干涉条纹相位稳定装置及方法 |
-
2018
- 2018-05-22 CN CN201810495948.7A patent/CN108761603B/zh active Active
Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6066818A (ja) * | 1983-09-22 | 1985-04-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 位置合わせ方法 |
JP2936187B2 (ja) * | 1991-12-16 | 1999-08-23 | 株式会社ニコン | レジストパタ−ンの形成方法 |
CN1845016A (zh) * | 2006-04-24 | 2006-10-11 | 苏州大学 | 全息光栅制作光路的莫尔条纹调节方法 |
CN1845017A (zh) * | 2006-04-24 | 2006-10-11 | 苏州大学 | 用控制装置稳定全息干涉条纹的方法及装置 |
CN101393303A (zh) * | 2008-09-26 | 2009-03-25 | 苏州大学 | 一种制作近红外波段三维光子晶体的方法 |
US20110027720A1 (en) * | 2009-08-03 | 2011-02-03 | Ipg Photonics Corporation | Method and Device for Fabricating Volume Bragg Gratings |
CN101726779A (zh) * | 2009-12-03 | 2010-06-09 | 苏州大学 | 一种制作全息双闪耀光栅的方法 |
CN102087481A (zh) * | 2010-12-22 | 2011-06-08 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种凹面全息光栅曝光光路中实时监测装置的调整方法 |
CN102374901A (zh) * | 2011-09-22 | 2012-03-14 | 中国科学院半导体研究所 | 一种用于测量低波数拉曼信号的单光栅拉曼光谱测试系统 |
CN103134587A (zh) * | 2013-01-29 | 2013-06-05 | 北京理工大学 | 一种基于体全息光栅组件分光的光谱分光成像系统光路 |
CN203825374U (zh) * | 2014-04-21 | 2014-09-10 | 象山星旗电器科技有限公司 | 基于反射型体全息光栅的光路实验装置 |
CN104101928A (zh) * | 2014-07-25 | 2014-10-15 | 上海理工大学 | 具有连续分束比的分束器 |
CN104133267A (zh) * | 2014-08-19 | 2014-11-05 | 林安英 | 制作多波长体布拉格光栅的方法 |
CN105954977A (zh) * | 2016-07-08 | 2016-09-21 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 全息光栅制作装置、曝光干涉条纹相位稳定装置及方法 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
LINYONG QIAN等: "Tunable Filter With Varied-Line-Spacing Grating Fabricated Using Holographic Recording", 《IEEE PHOTONICS TECHNOLOGY LETTERS》 * |
林远芳等: "全息光栅制作光路的ASAP仿真调试与实验验证芳", 《实验室研究与探索》 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN108761603B (zh) | 2020-06-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN108761602A (zh) | 一种全息光栅光刻系统中干涉光路自准直的调节方法 | |
CN102944312B (zh) | 一种测量部分相干涡旋光束拓扑荷数的方法 | |
CN109975820B (zh) | 基于Linnik型干涉显微镜的同步偏振相移检焦系统 | |
US10627222B2 (en) | Method and apparatus for detecting cylinder and cylindrical converging lens | |
CN101140196A (zh) | 透镜焦距的测量装置及其测量方法和光学质量评估方法 | |
CN102385170B (zh) | 一种高精度测量调整光学镜片中心偏差的光学系统 | |
US9823119B2 (en) | System and method for analyzing a light beam guided by a beam guiding optical unit | |
CN110186653A (zh) | 非成像系统的光轴一致性校准和裂像定焦装调装置及方法 | |
CN104792798A (zh) | 基于全内反射照明技术的亚表面损伤测量装置及方法 | |
US10663289B2 (en) | Method and apparatus for detecting concave cylinder and cylindrical diverging lens | |
CN205942120U (zh) | 一种带有偏振分束元件的自准光路系统 | |
CN102589428A (zh) | 基于非对称入射的样品轴向位置跟踪校正的方法和装置 | |
CN111065968B (zh) | 一种全息光栅光刻系统及其干涉光路自准直的调节方法 | |
CN110736721B (zh) | 基于衍射光栅的玻璃平板折射率均匀性检测装置及检测方法 | |
CN201152808Y (zh) | 透镜焦距的测量装置 | |
CN115480383A (zh) | 透射反射式数字全息显微系统 | |
CN108563027B (zh) | 一种扩束准直光束的自动调校方法 | |
CN208270786U (zh) | 一种全息光栅光刻系统 | |
CN108761603A (zh) | 一种制作平行等间距条纹全息光栅的光刻系统 | |
CN106770335B (zh) | 一种基于反射式点衍射干涉仪的位相缺陷检测系统与方法 | |
JP2022504212A (ja) | Euvプラズマ源において励起レーザービームを測定するための計測システムおよび方法 | |
CN112611548B (zh) | 一种基于数字全息的透镜焦距测量装置及方法 | |
CN109458944A (zh) | 基于同步共轭差分干涉的平面绝对检验装置及其检测方法 | |
CN103954235B (zh) | 一种光学凸球面面形的检测装置及方法 | |
RU2289153C1 (ru) | Устройство фокусировки оптического излучения на объект |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |