CN108747876B - 一种漆面研磨砂碟的制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种漆面研磨砂碟的制备方法，具体包括以下步骤，将碳化硅磨料、光固化胶黏剂、稀释剂、光引发剂、助剂按比例添加到容器内，高搅避光分散，形成碳化硅浆料；将分散合格后的碳化硅浆料通过凹版涂敷于具有立体磨料结构的模具中；将PET基材贴敷于模具上，采用紫外光照射，使得浆料固化并转移到基材上，形成重复排列的立体磨块结构；将初步成型后的磨块加热固化，得到立体结构的研磨砂碟。本发明制备的研磨砂碟具有立体结构的碳化硅磨料，用于对漆面的瑕疵和损伤层进行抛光处理，具有很好的自锐性，可大大提高漆面抛光效果。

Description

一种漆面研磨砂碟的制备方法
技术领域
本发明涉及工件打磨技术领域，特别是一种打磨工件漆面表层用的研磨砂碟的制备方法。
背景技术
高档漆面应用很广泛，适合的漆面不仅对本体有装饰作用，更重要的是具有保护和提升功能性的作用，例如在乐器、高档家俱、汽车、轮船、游艇、航空航天装备等方面，高档漆面发挥了越来越重要的作用。油漆在喷涂过程，可能存在不均匀、局部瑕疵等缺陷，影响到外观和其保护功能，后期使用过程也会因外界环境作用造成局部损伤，需要对漆面进行局部抛光。早期，漆面的抛光多是采用干砂纸和抛光膏结合的方式进行处理，效率较低，处理效果差，操作起来还比较繁琐。
发明内容
本发明需要解决的技术问题是提供一种制备方法，能够生产用于对漆面的瑕疵和损伤层进行抛光处理的研磨砂碟，在提高漆面抛光效果的基础上，减少操作工序，提高工作效率。
为解决上述技术问题，本发明所采取的技术方案如下。
一种漆面研磨砂碟的制备方法，具体包括以下步骤：
A.将碳化硅磨料、光固化胶黏剂、稀释剂、光引发剂、助剂按比例添加到容器内，高搅避光分散，搅拌速度为1200～2400rpm，分散时间为4～10h，形成碳化硅浆料；
B.将分散合格后的碳化硅浆料通过凹版涂敷于具有立体磨料结构的模具中；
C.将PET基材贴敷于模具上，采用紫外光照射，使得浆料固化并转移到基材上，形成重复排列的立体磨块结构；
D.将初步成型后的磨块在80～120℃下加热固化24～36小时，得到立体结构的研磨砂碟。
上述一种漆面研磨砂碟的制备方法，步骤A中各组分的重量份数为：碳化硅磨料30～60份，光固化胶黏剂30～60份，稀释剂20～40份，光引发剂0.5～5份，助剂1～5份。
上述一种漆面研磨砂碟的制备方法，步骤A中所述碳化硅磨料为绿碳化硅磨料，粒径范围为0.1～100μm。
上述一种漆面研磨砂碟的制备方法，所述绿碳化硅磨料粒径范围为1～20μm。
上述一种漆面研磨砂碟的制备方法，所述光固化胶黏剂为异氰脲酸丙烯酸酯类胶黏剂，稀释剂为丙烯酸类或甲基丙烯酸类稀释剂，光引发剂为2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、2,4,6-三甲基苯甲酰基苯基膦酸乙酯、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮、1-羟基环己基苯基甲酮、2-羟基-2-甲基-1-[4-(2-羟基乙氧基)苯基]-1-丙酮、苯甲酰甲酸甲酯、2-苯基苄-2-二甲基胺-1-(4-吗啉苄苯基)丁酮、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基-1-丙酮中的至少一种，助剂包括分散剂、防沉降剂、稳定剂、表面活性剂、硅烷偶联剂、散热剂中的至少一种。
上述一种漆面研磨砂碟的制备方法，所述立体磨料结构为三角锥型；三角锥底边和高度的比例为1：1～3：1，三角锥底边间隙与底边的比例为0.01～0.5：1。
由于采用了以上技术方案，本发明所取得技术进步如下。
本发明制备的研磨砂碟具有立体结构的碳化硅磨料，用于对漆面的瑕疵和损伤层进行抛光处理，由于碳化硅磨料的韧性系数为0.7-0.9，在磨料中属于较脆的，用于对漆面进行打磨具有较好的自锐性，可提高漆面抛光效果。光固化胶黏剂采用性能偏软的异氰脲酸丙烯酸酯类胶黏剂，可以实现与碳化硅磨料的匹配性，使磨料既具备了一定的磨削力，又不会对漆面造成二次划伤。研磨砂碟的PET基材具有一定的强度和柔韧性，可以湿法使用，因此本发明制备的研磨砂碟在进行漆面打磨时，可与水配合使用，一道工序即可解决漆面的抛光问题，简化了操作步骤，提高了工作效率。本发明制备的研磨砂碟，其磨料采用三角锥结构，在打磨漆面的过程中可实现逐层脱落，延长了使用寿命；由于磨料为三角锥结构，因此相邻磨料间会存在间隙，在磨料和漆面接触时，便会有充分的液体流动空间和排屑沟槽，避免二次污染或划伤现象的出现，可以达到很好的抛光效果。
具体实施方式
下面将结合具体实施例对本发明进行进一步详细说明。
实施例1
一种漆面研磨砂碟的制备方法，采用该方法制备的研磨砂碟用于对漆面进行抛光处理，可提高抛光效果和抛光效率。该制备方法具体包括以下步骤。
A.将碳化硅磨料、光固化胶黏剂、稀释剂、光引发剂、助剂按比例添加到容器内，高搅避光分散，搅拌速度为2000rpm，分散时间为8h，形成碳化硅浆料。
上述各组分的重量份数为：碳化硅磨料50份，光固化胶黏剂40份，稀释剂30份，光引发剂5份，助剂3份。其中碳化硅磨料为绿碳化硅磨料，粒径范围为1～60μm；光固化胶黏剂为异氰脲酸丙烯酸酯类胶黏剂，稀释剂为甲基丙烯酸类稀释剂，光引发剂为1-羟基环己基苯基甲酮、2-羟基-2-甲基-1-[4-(2-羟基乙氧基)苯基]-1-丙酮和苯甲酰甲酸甲酯的复配，助剂包括分散剂、稳定剂、硅烷偶联剂和散热剂。
B.将分散合格后的碳化硅浆料通过凹版涂敷于具有立体磨料结构的模具中。
本步骤中的立体磨料结构为三角锥型，三角锥底边和高度的比例为3：1，三角锥底边间隙与底边的比例为0.1：1。
C.将PET基材贴敷于模具上，采用紫外光照射，使得浆料固化并转移到基材上，形成重复排列的立体磨块结构。
D.将初步成型后的磨块在100℃下加热固化30小时，得到立体结构的研磨砂碟。
实施例2
一种漆面研磨砂碟的制备方法，采用该方法制备的研磨砂碟用于对漆面进行抛光处理，可提高抛光效果和抛光效率。该制备方法具体包括以下步骤。
A.将碳化硅磨料、光固化胶黏剂、稀释剂、光引发剂、助剂按比例添加到容器内，高搅避光分散，搅拌速度为1200rpm，分散时间为10h，形成碳化硅浆料。
上述各组分的重量份数为：碳化硅磨料60份，光固化胶黏剂30份，稀释剂20份，光引发剂0.5份，助剂5份。其中碳化硅磨料为绿碳化硅磨料，粒径范围为1～20μm；光固化胶黏剂为异氰脲酸丙烯酸酯类胶黏剂，稀释剂为丙烯酸类稀释剂，光引发剂为2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、2,4,6-三甲基苯甲酰基苯基膦酸乙酯和2-苯基苄-2-二甲基胺-1-(4-吗啉苄苯基)丁酮的复配，助剂包括防沉降剂、稳定剂、表面活性剂和散热剂。
B.将分散合格后的碳化硅浆料通过凹版涂敷于具有立体磨料结构的模具中。
本步骤中的立体磨料结构为三角锥型，三角锥底边和高度的比例为1：1，三角锥底边间隙与底边的比例为0.01：1。
C.将PET基材贴敷于模具上，采用紫外光照射，使得浆料固化并转移到基材上，形成重复排列的立体磨块结构。
D.将初步成型后的磨块在80℃下加热固化36小时，得到立体结构的研磨砂碟。
实施例3
一种漆面研磨砂碟的制备方法，采用该方法制备的研磨砂碟用于对漆面进行抛光处理，可提高抛光效果和抛光效率。该制备方法具体包括以下步骤。
A.将碳化硅磨料、光固化胶黏剂、稀释剂、光引发剂、助剂按比例添加到容器内，高搅避光分散，搅拌速度为2400rpm，分散时间为4h，形成碳化硅浆料。
上述各组分的重量份数为：碳化硅磨料30份，光固化胶黏剂60份，稀释剂40份，光引发剂3份，助剂1份。其中碳化硅磨料为绿碳化硅磨料，粒径范围为1～10μm；光固化胶黏剂为异氰脲酸丙烯酸酯类胶黏剂，稀释剂为甲基丙烯酸类稀释剂，光引发剂为2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮、2-羟基-2-甲基-1-[4-(2-羟基乙氧基)苯基]-1-丙酮和2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基-1-丙酮的复配，助剂包括分散剂、防沉降剂、稳定剂、表面活性剂、硅烷偶联剂和散热剂、
B.将分散合格后的碳化硅浆料通过凹版涂敷于具有立体磨料结构的模具中。
本步骤中的立体磨料结构为三角锥型，三角锥底边和高度的比例为2：1，三角锥底边间隙与底边的比例为0.2：1。
C.将PET基材贴敷于模具上，采用紫外光照射，使得浆料固化并转移到基材上，形成重复排列的立体磨块结构。
D.将初步成型后的磨块在120℃下加热固化24小时，得到立体结构的研磨砂碟。

Claims (2)

1.一种漆面研磨砂碟的制备方法，其特征在于，具体包括以下步骤：
A.将碳化硅磨料、光固化胶黏剂、稀释剂、光引发剂、助剂按比例添加到容器内，高搅避光分散，搅拌速度为1200rpm，分散时间为8h，形成碳化硅浆料；
步骤A中各组分的重量份数为：碳化硅磨料50份，光固化胶黏剂40份，稀释剂30份，光引发剂5份，助剂3份；所述碳化硅磨料为绿碳化硅磨料，粒径范围为1～20μm；所述光固化胶黏剂为异氰脲酸丙烯酸酯类胶黏剂；稀释剂为甲基丙烯酸类稀释剂，光引发剂为1-羟基环己基苯基甲酮、2-羟基-2-甲基-1-[4-(2-羟基乙氧基)苯基]-1-丙酮和苯甲酰甲酸甲酯的复配，助剂包括分散剂、稳定剂、硅烷偶联剂和散热剂；
B.将分散合格后的碳化硅浆料通过凹版涂敷于具有立体磨料结构的模具中；
C.将PET基材贴敷于模具上，采用紫外光照射，使得浆料固化并转移到基材上，形成重复排列的立体磨块结构；
D.将初步成型后的磨块在100℃下加热固化30小时，得到立体结构的研磨砂碟。
2.根据权利要求1所述的一种漆面研磨砂碟的制备方法，其特征在于，所述立体磨料结构为三角锥型；三角锥底边和高度的比例为1：1～3：1，三角锥底边间隙与底边的比例为0.01～0.5：1。
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Denomination of invention: A preparation method for lacquer surface grinding sand disc

Effective date of registration: 20230728

Granted publication date: 20210319

Pledgee: Agricultural Bank of China Limited Baoding Gaokai District Branch

Pledgor: HEBEI SIRUIEN NEW MATERIAL TECHNOLOGY CO.,LTD.

Registration number: Y2023980050288