CN108642470A - 一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，包括真空镀膜室、抽真空装置、加热器、弧源发生器和涨缩头，涨缩头包括放卷涨缩头和收卷涨缩头，带材缠绕在放卷涨缩头上，带材的端部穿入真空镀膜室连接到收卷涨缩头，真空镀膜室分别连接抽真空装置，通过抽真空装置对真空镀膜室抽真空，真空镀膜室内设置加热器，弧源发生器均匀分布在真空镀膜室上，通过加热器对真空镀膜室加热后弧源发生器向带材溅射金属离子，弧源发生器与带材之间安装进气管，气体通过进气管流入真空镀膜室后与金属离子发生作用沉积在带材表面。该镀膜系统实现了带材的连续单双面单一或复合膜层的沉积，应用范围非常广泛，可满足各种镀层需求。

Description

一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统

技术领域

本发明属于真空等离子体镀膜设备技术领域，具体涉及一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统。

背景技术

现有技术对连续板状或带状产品进行镀膜加工的真空等离子体镀膜设备，技术落后，能耗高，膜厚不均匀，产量低，收卷不齐，并且同时只能连续一次单面镀膜，不能同时双面镀膜，又不能同时在带材同一面连续镀不同膜层和不同膜厚，同时真空镀膜室不能随意扩展等缺点。

为了解决在真空环境下带材和板材表面连续单面镀同一涂层、连续单面镀复合涂层或连续单面镀不同膜厚的复合涂层，以及解决连续正反面镀同一涂层、正反面镀不同涂层、正反面镀同一涂层不同膜厚、正反面镀不同涂层不同膜厚的性能要求，研发了该带材多室连续式真空等离子体镀膜系统。

发明内容

为了解决在真空环境下带材和板材表面连续单面镀同一涂层、连续单面镀复合涂层或连续单面镀不同膜厚的复合涂层，以及解决连续正反面镀同一涂层、正反面镀不同涂层、正反面镀同一涂层不同膜厚、正反面镀不同涂层不同膜厚的性能要求问题，本发明提出了一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，采用该系统镀膜使得涂层连续沉积在带材和板材的表面，沉积的涂层厚度均匀，并且沉积复杂涂层效果好、效率高。

本发明的目的通过以下技术方案实现：一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，包括真空镀膜室、抽真空装置、加热器、弧源发生器和涨缩头，涨缩头包括放卷涨缩头和收卷涨缩头，带材缠绕在放卷涨缩头上，带材的端部穿入真空镀膜室连接到收卷涨缩头，真空镀膜室分别连接抽真空装置，通过抽真空装置对真空镀膜室抽真空，真空镀膜室内设置加热器，弧源发生器均匀分布在真空镀膜室上，通过加热器对真空镀膜室加热后弧源发生器向带材溅射金属离子，弧源发生器与带材之间安装进气管，气体通过进气管流入真空镀膜室后与金属离子发生作用沉积在带材表面，进气管上安装流量计，通过流量计检测进气管内的流量大小。

优选的，所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，所述真空镀膜室为圆形或者椭圆形，提高了镀膜的连续性和镀膜气体的均匀性，保证了镀膜效率，特别是解决了对带材连续式的镀膜困难的难题。

优选的，所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，所述真空镀膜室包括放卷镀膜室和收卷镀膜室，放卷镀膜室和收卷镀膜室连通，放卷镀膜室和收卷镀膜室连通处设置纠偏装置，纠偏装置设置在真空镀膜室之间，纠偏装置包括转动轮和与转动轮连接的编码器，带材从纠偏装置上穿过，通过纠偏装置对带材的位置进行纠偏，放卷镀膜室内安装放卷涨缩头，收卷镀膜室内安装收卷涨缩头，缠绕在放卷涨缩头上的带材端部依次穿入放卷镀膜室和收卷涨缩头后连接到收卷涨缩头，放卷镀膜室和收卷镀膜室均设置加热器，加热器包括加热管和与加热管一体成型的热电偶，加热器分别等距离设置在放卷镀膜室和收卷镀膜室内，放卷镀膜室和收卷镀膜室上均分布弧源发生器，进气管分别等距离安装在放卷镀膜室和收卷镀膜室的内壁上，通过放卷镀膜室和收卷镀膜室对带材依次镀膜。

优选的，所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，所述真空镀膜室还包括中间镀膜室，中间镀膜室位于放卷镀膜室与收卷镀膜室之间，中间镀膜室连接抽真空装置，中间镀膜室一端连接放卷镀膜室，中间镀膜室的另一端连接收卷镀膜室，中间镀膜室中也设置加热器，加热器包括加热管和与加热管一体成型的热电偶，中间镀膜室上也分布弧源发生器，中间镀膜室内壁也分布进气管，带材依次从放卷镀膜室传递到中间镀膜室和收卷镀膜室，通过放卷镀膜室、中间镀膜室和收卷镀膜室对带材依次镀膜。

优选的，所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，所述中间镀膜室不止一个，中间镀膜室分别连接抽真空装置，中间镀膜室依次等距离设置在放卷镀膜室与收卷镀膜室之间，中间镀膜室之间依次连接，带材在中间镀膜室之间依次传递后传入到收卷镀膜室。

优选的，所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，所述放卷涨缩头和收卷涨缩头分别设置在真空镀膜室外，放卷涨缩头位于放卷室内，收卷涨缩头位于收卷室内，放卷室和收卷室分别连接抽真空装置，通过抽真空装置对放卷室和收卷室分别抽真空，放卷室和收卷室分别位于真空镀膜室上方，缠绕在放卷涨缩头上的带材穿出放卷室穿过真空镀膜室后穿入收卷室的收卷涨缩头上。

优选的，所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，所述真空镀膜室的下方均设置底架，真空镀膜室分别通过底架支撑在地面上，真空镀膜室设置炉门，炉门与真空镀膜室铰接，通过打开炉门将带材安装在涨缩头，使带材装卸更加方便，同时提高了真空电镀室的强度，节约了制造成本。

优选的，所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，所述炉门上套有密封圈，炉门通过密封圈与真空镀膜室密封，炉门上设置观察窗，工作人员通过观察窗查看真空镀膜室内的镀膜情况，真空镀膜室上设置真空检测装置，通过真空检测装置检测真空镀膜室内的真空度。

优选的，所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，所述抽真空装置下方设置支架，抽真空装置分别通过支架安装在地面上，抽真空装置分别通过真空管道与真空镀膜室连接，真空管道上分别设置百叶窗，通过百叶窗调节真空管道内的排气情况，百叶窗通过百叶窗减速器连接百叶窗传动机，通过百叶窗减速器和百叶窗传动机调节百叶窗。

优选的，所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，所述涨缩头与传动电机连接，通过传动电机带动涨缩头转动，涨缩头与传动电机之间设置减速器，减速器调节涨缩头转动的速率，涨缩头通过输入轴密封装置与减速器连接，输入轴密封装置采用水冷式磁流体旋转密封装置或骨架旋转密封装置，输入轴密封装置使得涨缩头与减速器稳定连接，输入轴密封装置内通入冷却水，通过冷却水对输入轴密封装置降温。

优选的，所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，所述弧源发生器的内部安装阴极靶，通过采用不同材质的阴极靶溅射不同金属离子从而获得不同成分的复合涂层，阴极靶上连接冷水管，通过冷水管内的冷却水对阴极靶降温。

与现有技术相比，本发明具有如下的有益效果：本发明通过放卷涨缩头和收卷涨缩头的连续收放卷的传动方式，有效解决了带材或板材表面膜层沉积效率低、沉积厚度不均匀、沉积涂层效果差的问题。本申请中弧源发生器均匀分布在真空镀膜室上，使得弧源发生器溅射的金属离子与气体形成膜层并均匀分布在带材上，提高了膜层的均匀性。本发明镀膜系统实现了带材的连续单双面单一或复合膜层的沉积，并且膜层沉积效率高、膜层厚度均匀、沉积效果好、可满足各种镀层需求。

附图说明

为了更清楚地说明本实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一个实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例1中真空等离子体镀膜系统的主视图；

图2为本发明实施例1中真空等离子体镀膜系统的俯视图；

图3为本发明实施例1中真空等离子体镀膜系统的侧视图；

图4为本发明实施例2中真空等离子体镀膜系统的主视图；

图5为本发明实施例3中真空等离子体镀膜系统的主视图；

图6为本发明实施例3中真空等离子体镀膜系统的俯视图；

图7为本发明实施例3中真空等离子体镀膜系统的侧视图；

图8为本发明实施例4中真空等离子体镀膜系统的主视图；

图9为本发明实施例4中真空等离子体镀膜系统的俯视图；

图10为本发明实施例5中真空等离子体镀膜系统的主视图；

图11为本发明实施例6中真空等离子体镀膜系统的主视图；

图12为本发明实施例7中真空等离子体镀膜系统的主视图；

图13为本发明实施例8中真空等离子体镀膜系统的主视图；

图14为本发明实施例9中真空等离子体镀膜系统的主视图；

图15为本发明实施例10中真空等离子体镀膜系统的主视图；

图16为本发明实施例10中真空等离子体镀膜系统的侧视图。

图中：1真空镀膜室，11进气管，12纠偏装置，13底架，14传动板，15导带辊，16炉门，17观察窗，18真空检测装置；2抽真空装置，21真空管道，22百叶窗，23支架；3加热器；4弧源发生器；5放卷涨缩头，51传动电机，52减速器，53输入轴密封装置，54放卷室；6收卷涨缩头，61传动电机，62减速器，63输入轴密封装置，64收卷室；7带材；8放卷镀膜室，81底架，82传动板，83导带辊，84炉门，85观察窗，86真空检测装置，87铰链；9收卷镀膜室，91底架，92传动板，93导带辊，94炉门，95观察窗，96真空检测装置，97铰链；10中间镀膜室，101底架，102传动板，103导带辊，104炉门，105观察窗，106真空检测装置，107铰链。

具体实施方式

为了更好地理解本发明，下面将通过实施例对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

实施例1

由图1至图3所示，一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，包括真空镀膜室1、抽真空装置2、加热器3、弧源发生器4和涨缩头，涨缩头包括放卷涨缩头5和收卷涨缩头6，带材7缠绕在放卷涨缩头5上，带材7的端部穿入真空镀膜室1连接到收卷涨缩头6，真空镀膜室1分别连接抽真空装置2，通过抽真空装置2对真空镀膜室1抽真空，真空镀膜室1内设置加热器3，弧源发生器4均匀分布在真空镀膜室1上，通过加热器3对真空镀膜室1加热后弧源发生器4向带材7溅射金属离子，弧源发生器4与带材7之间安装进气管11，进气管11安装真空镀膜室1内，气体通过进气管11流入真空镀膜室后与金属离子发生作用沉积在带材7表面，进气管11上安装流量计，通过流量计检测进气管11内的流量大小。

所述真空镀膜室1包括放卷镀膜室8和收卷镀膜室9，放卷镀膜室8和收卷镀膜室9连通，放卷镀膜室8和收卷镀膜室9连通处设置纠偏装置12，纠偏装置12包括转动轮和与转动轮连接的编码器，带材7从纠偏装置12上穿过，通过纠偏装置12对运行过程中走偏的带材纠偏，可防止带材收卷时松散和参差不齐，使带材7在镀膜前后保持整齐。放卷涨缩头5安装在放卷镀膜室8内，收卷涨缩头6安装在收卷镀膜室9内，缠绕在放卷涨缩头5上的带材7端部依次穿入放卷镀膜室8和收卷镀膜室9后连接到收卷涨缩头6。放卷镀膜室8和收卷镀膜室9内均设置加热器3，加热器3包括加热管和与加热管一体成型的热电偶，加热器3分别等距离设置在放卷镀膜室5和收卷镀膜室6内，放卷镀膜室5和收卷镀膜室6分布弧源发生器4，弧源发生器4均匀分布在放卷镀膜室5和收卷镀膜室6上，进气管11分别等距离安装在放卷镀膜室5和和收卷镀膜室6内壁上，通过放卷镀膜室5和收卷镀膜室6对带材依次镀膜。

所述放卷镀膜室8为圆形，放卷镀膜室8的下方均设置底架81，放卷镀膜室8分别通过底架81支撑在地面上，放卷镀膜室8内均设置传动板82和导带辊83，加热器3和导带辊83分别均匀安装在传动板82上，通过加热器3对放卷镀膜室8内的带材7加热，导带辊83在传动板82上转动，带材7依次穿过导带辊83，导带辊83传递带材7，通过调整导带辊83的转动方向解决了带材7正反面连续镀膜的难题，无需打开放卷镀膜室8放气，缩短了镀膜周期，提高了镀膜效率同时也节约了能耗。所述放卷镀膜室8设置炉门84，通过打开炉门84来安装带材7，使得带材7的安装更加方便，提高了放卷镀膜室8的强度，节约了制造成本。所述炉门84与放卷镀膜室8通过铰链87连接，炉门84上套有密封圈，炉门84通过密封圈与放卷镀膜室8密封，炉门84上设置观察窗85，工作人员通过观察窗85查看放卷镀膜室8内的镀膜情况，放卷镀膜室8上设置真空检测装置86，通过真空检测装置86检测放卷镀膜室8内的真空度。

所述收卷镀膜室9为圆形，收卷镀膜室9的下方均设置底架91，收卷镀膜室9分别通过底架91支撑在地面上，收卷镀膜室9内均设置传动板92和导带辊93，加热器3和导带辊93分别均匀安装在传动板92上，通过加热器3对收卷镀膜室9内的带材7加热，导带辊93在传动板92上转动，带材7依次穿过导带辊93，导带辊93传递带材7，通过调整导带辊93的转动方向解决了带材7正反面连续镀膜的难题，无需打开收卷镀膜室9放气，缩短了镀膜周期，提高了镀膜效率同时也节约了能耗。所述收卷镀膜室9设置炉门94，通过打开炉门94来安装带材7，使得带材7的拆卸更加方便，提高了收卷镀膜室9的强度，节约了制造成本。所述炉门94与收卷镀膜室9通过铰链97连接，炉门94上套有密封圈，炉门94通过密封圈与收卷镀膜室9密封，炉门94上设置观察窗95，工作人员通过观察窗95查看收卷镀膜室9内的镀膜情况，收卷镀膜室9上设置真空检测装置96，通过真空检测装置96检测收卷镀膜室9内的真空度。

所述抽真空装置2设置有两个，所述抽真空装置2分别通过真空管道21与放卷镀膜室8和收卷镀膜室9连接，真空管道21上分别设置百叶窗22，通过百叶窗22调节真空管道21内的排气情况，百叶窗22通过百叶窗减速器连接百叶窗传动机，通过百叶窗减速器和百叶窗传动机调节百叶窗。所述抽真空装置2下方设置支架23，抽真空装置2分别通过支架23安装在地面上。

所述弧源发生器4的内部安装阴极靶，通过采用不同材质的阴极靶溅射不同金属离子从而获得不同成分的复合涂层，阴极靶上连接冷水管，通过冷水管内的冷却水对阴极靶降温。

所述放卷涨缩头5与传动电机51连接，通过传动电机51带动放卷涨缩头5转动，放卷涨缩头5与传动电机51之间设置减速器52，减速器52调节放卷涨缩头5转动的速率，放卷涨缩头5通过输入轴密封装置53与减速器52连接，输入轴密封装置53采用水冷式磁流体旋转密封装置或骨架旋转密封装置，输入轴密封装置53使得放卷涨缩头5与减速器52稳定连接，输入轴密封装置53内通入冷却水，通过冷却水对输入轴密封装置53降温。放卷涨缩头5通过传动电机51控制正反转，使带材7进行正反向运行并调整运行的速度，从而获得不同层次和层次不同的、厚度不同的涂层。

所述收卷涨缩头6与传动电机61连接，通过传动电机61带动收卷涨缩头6转动，收卷涨缩头6与传动电机61之间设置减速器62，减速器62调节收卷涨缩头6转动的速率，收卷涨缩头6通过输入轴密封装置63与减速器62连接，输入轴密封装置63采用水冷式磁流体旋转密封装置或骨架旋转密封装置，输入轴密封装置63使得收卷涨缩头6与减速器62稳定连接，输入轴密封装置63内通入冷却水，通过冷却水对输入轴密封装置63降温。收卷涨缩头6通过传动电机61控制正反转，使带材7进行正反向运行并调整运行的速度，从而获得不同层次和层次不同的、厚度不同的涂层。

本实施例中，放卷镀膜室8和收卷镀膜室9均为圆形，放卷镀膜室8和收卷镀膜室9水平设置，带材7依次从放卷镀膜室8传递至收卷镀膜室9，并且带材7在放卷镀膜室8和收卷镀膜室9传递方向保持不变，带材7在放卷镀膜室8和收卷镀膜室9均为逆时针传递，实现了带材的单面镀膜。

工作原理：首先，打开放卷镀膜室8的炉门84和收卷镀膜室8的炉门94，把要镀膜的带材7安装到放卷镀膜室8内的放卷张缩头5上，将带材7的引带穿过放卷镀膜室8内的导带辊83引到纠偏装置12再穿过收卷镀膜室9内的导带辊93连接到收卷镀膜室9上的收卷张缩头6上，启动放卷张缩头5的传动电机51和减速器52以及收卷涨缩头6的传动电机61和减速器62，张紧带材7，保证恒张力输出，关上放卷镀膜室8的炉门84和收卷镀膜室8的炉门94。

然后，同时启动两端的抽真空装置2，抽真空，放卷镀膜室5和收卷镀膜室6到达真空后，启动加热器3加热，加热器3加热放卷镀膜室5和收卷镀膜室6，放卷镀膜室5和收卷镀膜室6达到所需的温度进入保温状态。

最后，打开进气管11上的流量计，通入所需的镀膜气体，当达到镀膜所需的气压后，再启动弧源发生器4，蒸发弧源发生器4内的阴极靶开始溅射，阴极靶上溅射出来的金属离子与真空室内的气体形成等离子体，通过偏压电源的作用沉积到带材表面。

当带材需要不同的膜层时，在弧源发生器内安装不同材质的阴极靶，即可获得不同的膜层，如需不同膜厚，调节涨缩头的转速即可，如需双面镀膜，调整带材在真空镀膜室的传递方向即可。

实施例2

由图4所示，在实施例1的基础上，实施例2的结构与实施例1相同，仅仅带材7的传递方向不同。本实施例中，放卷镀膜室8和收卷镀膜室9均为圆形，带材7从放卷镀膜室8传递至收卷镀膜室9，并且带材7在放卷镀膜室8和收卷镀膜室9传递方向不同，带材7在放卷镀膜室8为逆时针传递，带材7在收卷镀膜室9为顺时针传递，实现了带材的双面镀膜。

实施例3

由图5至图7所示，在实施例1的基础上，实施例3中放卷镀膜室8和收卷镀膜室9竖直设置，放卷镀膜室8位于收卷镀膜室9下方，实施例3中其他结构位置关系与实施例1一致。

实施例4

由图8至图9所示，在实施例1的基础上，所述真空镀膜室1还包括中间镀膜室10，中间镀膜室10位于放卷镀膜室8与收卷镀膜室9之间，放卷镀膜室8、中间镀膜室10和收卷镀膜室9三者水平设置，中间镀膜室10连接抽真空装置2，中间镀膜室10一端连接放卷镀膜室8，中间镀膜室10与放卷镀膜室8之间设置纠偏装12，中间镀膜室10的另一端连接收卷镀膜室9，中间镀膜室10与放卷镀膜室8之间设置纠偏装置12，中间镀膜室10中也设置加热器3，加热器3包括加热管和与加热管一体成型的热电偶，中间镀膜室10上也分布弧源发生器4，中间镀膜室10内壁也分布进气管11，带材7依次从放卷镀膜室8传递到中间镀膜室10和收卷镀膜室9，通过放卷镀膜室8、中间镀膜室10和收卷镀膜室9对带材7依次镀膜。

所述中间镀膜室10为圆形，中间镀膜室10的下方均设置底架101，中间镀膜室10分别通过底架101支撑在地面上，中间镀膜室10内均设置传动板102和导带辊103，加热器3和导带辊103分别均匀安装在传动板102上，加热器3包括加热管和与加热管一体成型的热电偶，通过加热器3对中间镀膜室10内的带材7加热，导带辊103在传动板102上转动，带材7依次穿过导带辊103，导带辊103传递带材7，通过调整导带辊103的转动方向解决了带材7正反面连续镀膜的难题，无需打开中间镀膜室10放气，缩短了镀膜周期，提高了镀膜效率同时也节约了能耗。所述中间镀膜室10设置炉门104，通过打开炉门104来安装带材7，使得带材7的安装更加方便，提高了中间镀膜室10的强度，节约了制造成本。所述炉门104与中间镀膜室10通过铰链107连接，炉门104上套有密封圈，炉门104通过密封圈与中间镀膜室10密封，炉门104上设置观察窗105，工作人员通过观察窗105查看中间镀膜室10内的镀膜情况，中间镀膜室10上设置真空检测装置106，通过真空检测装置106检测中间镀膜室10内的真空度。

本实施例中，放卷镀膜室8、收卷镀膜室9和中间镀膜室10均为圆形，带材7依次从放卷镀膜室8传递至中间镀膜室10一直到收卷镀膜室9，并且带材7在放卷镀膜室8、中间镀膜室10和收卷镀膜室9均为逆时针方向传递，实现了带材的单面镀膜。

实施例5

由图10所示，在实施例4的基础上，实施例5中放卷镀膜室8、中间镀膜室10和收卷镀膜室9三者竖直设置，放卷镀膜室8位于中间镀膜室10上方，收卷镀膜室9位于中间镀膜室10下方，实施例5中其他结构位置关系与实施例4一致。

实施例6

由图11所示，在实施例4的基础上，实施例6的结构与实施例4相同，仅仅带材7的传递方向不同。本实施例中，带材7从放卷镀膜室8传递至中间镀膜室10一直到收卷镀膜室9，并且带材7在放卷镀膜室8和中间镀膜室10均为逆时针传递，带材7在收卷镀膜室9为顺时针传递，实现了带材的双面镀膜。

实施例7

由图12所示，在实施例4的基础上，实施例7的中间镀膜室10为椭圆形，其他结构以及带材的传递方向均与实施例4一致。

实施例8

由图13所示，在实施例4的基础上，实施例8的放卷镀膜室8和收卷镀膜室9均为椭圆形，其他结构以及带材的传递方向均与实施例4一致。

实施例9

由图14所示，在实施例4的基础上，实施例9的放卷镀膜室8、中间镀膜室10和收卷镀膜室9均为椭圆形，其他结构以及带材的传递方向均与实施例4一致。

实施例10

由图15至图16所示，在实施例1的基础上，实施例10中所述真空镀膜室1中不设置放卷镀膜室8和收卷镀膜室9。所述放卷涨缩头5和收卷涨缩头6分别设置在真空镀膜室1外，放卷涨缩头5位于放卷室54内，放卷室54内安装进气管11，收卷涨缩头6位于收卷室64内，收卷室64内安装进气管11，放卷室54和收卷室64分别连接抽真空装置2，通过抽真空装置2对放卷室54和收卷室64分别抽真空，放卷室54和收卷室64分别位于真空镀膜室1上方，放卷室54和收卷室64分别与真空镀膜室1连接，放卷室54和收卷室64与真空镀膜室1连接处分别设置纠偏装置12，缠绕在放卷涨缩头5上的带材穿出放卷室54穿过真空镀膜室1后穿入收卷室64的收卷涨缩头6上。

所述真空镀膜室1为圆形，真空镀膜室1的下方均设置底架13，真空镀膜室1分别通过底架13支撑在地面上，真空镀膜室1内均设置传动板14和导带辊15，加热器3和导带辊15分别均匀安装在传动板14上，加热器3包括加热管和与加热管一体成型的热电偶，通过加热器3对真空镀膜室1内的带材7加热，导带辊15在传动板14上转动，带材7依次穿过导带辊15，通过导带辊15传递带材7，通过导带辊15传递带材7，通过调整导带辊15的转动方向解决了带材7正反面连续镀膜的难题，无需打开真空镀膜室1放气，缩短了镀膜周期，提高了镀膜效率同时也节约了能耗。所述真空镀膜室1设置炉门16，通过打开炉门16来安装带材7，使得带材7的安装更加方便，提高了真空镀膜室1的强度，节约了制造成本。所述炉门16与真空镀膜室1铰接，炉门16上套有密封圈，炉门16通过密封圈与真空镀膜室1密封，炉门16上设置观察窗17，工作人员通过观察窗17查看真空镀膜室1内的镀膜情况，真空镀膜室1上设置真空检测装置18，通过真空检测装置18检测真空镀膜室1内的真空度。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：包括真空镀膜室、抽真空装置、加热器、弧源发生器和涨缩头，涨缩头包括放卷涨缩头和收卷涨缩头，带材缠绕在放卷涨缩头上，带材的端部穿入真空镀膜室连接到收卷涨缩头，真空镀膜室分别连接抽真空装置，通过抽真空装置对真空镀膜室抽真空，真空镀膜室内设置加热器，弧源发生器均匀分布在真空镀膜室上，通过加热器对真空镀膜室加热后弧源发生器向带材溅射金属离子，弧源发生器与带材之间安装进气管，气体通过进气管流入真空镀膜室后与金属离子发生作用沉积在带材表面。

2.根据权利要求1所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：所述真空镀膜室包括放卷镀膜室和收卷镀膜室，放卷镀膜室和收卷镀膜室连通，放卷镀膜室和收卷镀膜室连通处设置纠偏装置，纠偏装置设置在真空镀膜室之间，纠偏装置包括转动轮和与转动轮连接的编码器，带材从纠偏装置上穿过，通过纠偏装置对带材的位置进行纠偏，放卷镀膜室内安装放卷涨缩头，收卷镀膜室内安装收卷涨缩头，缠绕在放卷涨缩头上的带材端部依次穿入放卷镀膜室和收卷涨缩头后连接到收卷涨缩头，放卷镀膜室和收卷镀膜室均设置加热器，加热器包括加热管和与加热管一体成型的热电偶，加热器分别等距离设置在放卷镀膜室和收卷镀膜室内，放卷镀膜室和收卷镀膜室上均分布弧源发生器，进气管分别等距离安装在放卷镀膜室和收卷镀膜室的内壁上，通过放卷镀膜室和收卷镀膜室对带材依次镀膜。

3.根据权利要求2所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：所述真空镀膜室还包括中间镀膜室，中间镀膜室位于放卷镀膜室与收卷镀膜室之间，中间镀膜室连接抽真空装置，中间镀膜室一端连接放卷镀膜室，中间镀膜室的另一端连接收卷镀膜室，中间镀膜室中也设置加热器，加热器包括加热管和与加热管一体成型的热电偶，中间镀膜室上也分布弧源发生器，中间镀膜室内壁也分布进气管，带材依次从放卷镀膜室传递到中间镀膜室和收卷镀膜室，通过放卷镀膜室、中间镀膜室和收卷镀膜室对带材依次镀膜。

4.根据权利要求3所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：所述中间镀膜室不止一个，中间镀膜室分别连接抽真空装置，中间镀膜室依次等距离设置在放卷镀膜室与收卷镀膜室之间，中间镀膜室之间依次连接，带材在中间镀膜室之间依次传递后传入到收卷镀膜室。

5.根据权利要求1所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：所述放卷涨缩头和收卷涨缩头分别设置在真空镀膜室外，放卷涨缩头位于放卷室内，收卷涨缩头位于收卷室内，放卷室和收卷室分别连接抽真空装置，通过抽真空装置对放卷室和收卷室分别抽真空，放卷室和收卷室分别位于真空镀膜室上方，缠绕在放卷涨缩头上的带材穿出放卷室穿过真空镀膜室后穿入收卷室的收卷涨缩头上。

6.根据权利要求1所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：所述真空镀膜室为圆形或者椭圆形，真空镀膜室的下方均设置底架，真空镀膜室分别通过底架支撑在地面上，真空镀膜室内均设置传动板和导带辊，加热器和导带辊分别均匀安装在传动板上，通过加热器对真空镀膜室内的带材加热，导带辊在传动板上转动，带材依次穿过导带辊，通过导带辊传递带材，真空镀膜室设置炉门，炉门与真空镀膜室铰接，炉门上套有密封圈，炉门通过密封圈与真空镀膜室密封，炉门上设置观察窗，工作人员通过观察窗查看真空镀膜室内的镀膜情况，真空镀膜室上设置真空检测装置，通过真空检测装置检测真空镀膜室内的真空度。

7.根据权利要求1所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：所述抽真空装置下方设置支架，抽真空装置分别通过支架安装在地面上，抽真空装置分别通过真空管道与真空镀膜室连接，真空管道上分别设置百叶窗，通过百叶窗调节真空管道内的排气情况，百叶窗通过百叶窗减速器连接百叶窗传动机，通过百叶窗减速器和百叶窗传动机调节百叶窗。

8.根据权利要求1所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：所述涨缩头与传动电机连接，通过传动电机带动涨缩头转动，涨缩头与传动电机之间设置减速器，减速器调节涨缩头转动的速率，涨缩头通过输入轴密封装置与减速器连接，输入轴密封装置采用水冷式磁流体旋转密封装置或骨架旋转密封装置，输入轴密封装置使得涨缩头与减速器稳定连接，输入轴密封装置内通入冷却水，通过冷却水对输入轴密封装置降温。

9.根据权利要求1所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：所述弧源发生器的内部安装阴极靶，通过采用不同材质的阴极靶溅射不同金属离子从而获得不同成分的复合涂层，阴极靶上连接冷水管，通过冷水管内的冷却水对阴极靶降温。