CN209923423U - 一种带材连续式真空等离子体镀膜系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种带材连续式真空等离子体镀膜系统，包括真空镀膜室、抽真空系统、收放卷装置和驱动装置；收放卷装置包括放卷室和收卷室；抽真空系统通过真空连接通道分别与放卷室和收卷室连通；真空镀膜室上分布有若干阴极靶和进气管；放卷室和收卷室内部分别设置有放卷涨缩头和收卷涨缩头，放卷室和收卷室内部侧壁上分别设有加热装置，带材在真空镀膜室内通过阴极靶向带材上溅射金属离子，气体通过进气管流入真空镀膜室后与金属离子发生作用沉积在带材表面；本实用新型提供的真空等离子体镀膜系统使带材表面膜层沉积效率高、沉积厚度均匀、沉积涂层效果好。可以实现带材真空等离子体镀膜生产的连续化，大面积、高效率、大规模生产。

Description

一种带材连续式真空等离子体镀膜系统

技术领域

本实用新型涉及真空等离子体镀膜设备技术领域，特别地是一种带材连续式真空等离子体镀膜系统。

背景技术

现有的技术对连续带状或板状金属产品进行镀膜加工的真空等离子体镀膜设备，技术落后，能耗高，膜厚不均匀，产量低等缺点，加工该类产品的设备一般包括周期式真空等离子体镀膜设备和连续式真空等离子体镀膜设备两种：

1)周期式真空等离子体镀膜设备，源于其生产加工产品的方式是以少量单次装料的方式生产作为一生产周期，产品放置量比较少，尺寸较小，重量较轻，总结所得该种设备普遍存在以下缺点：1、生产效率低，每生产一炉次就要重新升温和抽真空，生产周期比较长，产出少。2、能耗高，每生产一炉次都要重新升温和抽真空，消耗大量的电能；同时气体消耗量较高，每生产一炉次都要打开炉门把多余的工艺气体放掉，然后再充入新的工艺气体补充炉腔。3、工装夹具复杂，要使炉内的产品(如带状或平板状)在旋转的过程中保持平稳和不碰到腔体内壁，要设计复杂的工装夹具来固定它。4、生产每一板状(例如不锈钢板)或带状(例如不锈钢带)产品利用率低，由于工装夹具的关系，如带状产品或板状产品总是要有和工装连接的地方，而这些地方往往被挡住或有工艺连接孔，以至镀膜没有镀到或者有工艺连接孔的地方就要必须去掉，造成了浪费。5、靶材利用率低，由于工装夹具较多，所以每次镀膜会把工装夹具给镀上，消耗了不必要的靶材。6、再加工利用率低，产品再加工范围窄，因为如平板状产品长度有限，宽度也比较窄，不能加工成形大件的产品，只能用于小件的加工成形。

2)为连续式真空等离子体镀膜设备，就是在同一密封真空腔内完成放卷、镀膜和收卷连续加工工序的设备，镀膜的工艺段和传动的转动动力段设计在同一个联通的真空腔，为了减少真空腔的体积，往往要把中间镀膜的部分的真空腔体尽量缩小，因而导致气体流速和均匀性收到很大的影响，导致了加工时的镀膜速度不高，颜色不均匀，同时一般工艺段为长方形，在抽真空的情况下，受大气压得挤压，容易受力比较大，易变形，制作难度和用料成本比较大，难于大范围推广使用，不能扩展其他功能，设备投入成本高，利用率低，产量低。现有连续式的带材真空镀膜多为小型产品，不能大规模应用于工业生产，产品重量小，产量较低，宽度较窄，长度较短，只能小卷镀膜，无法生产大量的稳定优质的产品，同时存在较多缺陷，容易刮伤带材表面，特别是容易刮花和损伤镜面的不锈钢板表面。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种沉积的涂层厚度均匀，沉积效率高，结合力好，可连续化大规模生产的带材连续式真空等离子体镀膜系统。

本实用新型通过以下技术方案实现的：

一种带材连续式真空等离子体镀膜系统，包括真空镀膜室、抽真空系统、收放卷装置和驱动装置；收放卷装置包括放卷室和收卷室；放卷室和收卷室分别连通设置于所述真空镀膜室的两端；抽真空系统通过真空连接通道分别与放卷室和收卷室连通，通过抽真空系统对真空镀膜室抽真空；真空镀膜室的外侧至少一侧均匀分布有若干阴极靶；阴极靶间隔之间设置有若干进气管；放卷室和收卷室内部分别设置有放卷涨缩头和收卷涨缩头，带材缠绕在放卷涨缩头上，带材的端部穿入所述真空镀膜室连接到收卷涨缩头；所述放卷涨缩头和收卷涨缩头分别通过磁流体密封装置与所述驱动装置连接；放卷室和收卷室内部侧壁上分别设有加热装置，通过加热装置对带材加热后，带材在所述真空镀膜室内通过所述阴极靶向带材上溅射金属离子，气体通过进气管流入真空镀膜室后与金属离子发生作用沉积在带材表面，实现带材真空等离子镀膜。

进一步地，所述真空镀膜室为弧形或椭圆形或长方形结构；其中，弧形或椭圆形结构的真空镀膜室提高了镀膜的连续性和镀膜气体的均匀性，保证了镀膜效率，特别是解决了对带材连续式的镀膜困难的难题；所述真空镀膜室的外侧两侧面均匀分布有若干阴极靶，可以对带材进行双面溅射金属离子或单面溅射金属离子的真空等离子体镀膜。

进一步地，所述真空镀膜室内部的前后两端以及中部安装有若干导带辊；带材依次穿过导带辊，通过导带辊传递带材；带材放置在导带辊上防止带材的工作面被刮伤。

进一步地，所述抽真空系统包括至少两个抽真空装置；所述抽真空装置安装在抽真空系统底座上。

进一步地，所述抽真空系统包括第一抽真空装置和第二抽真空装置；第一抽真空装置与所述放卷室连接；第二抽真空装置与所述收卷室连接；第一抽真空装置和第二抽真空装置分别对所述放卷室和放卷室抽真空。

进一步地，所述真空连接通道上设有旋转调节挡板阀，所述旋转调节挡板阀用于调节所述第一抽真空装置和第二抽真空装置对所述放卷室和收卷室抽真空的速率。

进一步地，所述放卷室和所述收卷室的顶部分别设有真空规管，所述真空规管用于测量所述放卷室和收卷室以及真空镀膜室的真空度。

进一步地，所述加热装置为加热管；所述加热管分别等距离设置于放卷室和收卷室内；所述放卷室和收卷室分别安装在放卷室底座和收卷室底座上；通过加热管对带材加热后，带材在所述真空镀膜室内通过所述阴极靶向带材溅射金属离子，气体通过进气管流入真空镀膜室后与金属离子发生作用沉积在带材表面，实现带材真空等离子镀膜。

进一步地，所述驱动装置包括减速机和驱动电机；减速机的一端与驱动电机连接，另一端通过所述磁流体密封装置内部的磁流体分别与所述放卷涨缩头和收卷涨缩头密封连接；减速器用于调节所述放卷涨缩头和收卷涨缩头的速率。

进一步地，所述放卷室通过放卷室炉门铰链安装有放卷室炉门；所述收卷室通过收卷室炉门铰链安装有收卷室炉门；放卷室炉门和收卷室炉门上分别设有放卷室观察窗和收卷室观察窗；工作人员通过放卷室观察窗和收卷室观察窗查看真空镀膜室内带材的镀膜情况。

本实用新型的有益效果：

1、本实用新型的放卷室和收卷室分别连通设置于所述真空镀膜室的两端；抽真空系统通过真空连接通道分别与放卷室和收卷室连通，通过抽真空系统对真空镀膜室抽真空；放卷室和收卷室内部分别设置有放卷涨缩头和收卷涨缩头，并各自设有驱动装置，可实现正反转工作，采用磁流体密封装置密封，带材放置在放卷涨缩头和收卷涨缩头上面，可以承重重量大，宽度范围较大的带材，通过放卷涨缩头和收卷涨缩头的连续收放卷的传动方式，有效解决了带材或板材表面膜层沉积效率低、沉积厚度不均匀、沉积涂层效果差的问题。可以实现带材真空等离子体镀膜生产的连续化，大面积、高效率、大规模生产。

2、真空镀膜室为弧形或椭圆式结构或长方形式结构，其中，弧形或椭圆形结构的真空镀膜室提高了镀膜的连续性和镀膜气体的均匀性，保证了镀膜效率，特别是解决了对带材连续式的镀膜困难的难题，真空镀膜室内部通过设置有导带辊并设置好恒张力，传动运行可靠稳定，收放的带材整齐划一并非常紧密，带材放置在导带辊上，防止带材的工作面或镀膜面的刮伤，安全可靠。

3、真空镀膜室的外侧两侧面均匀分布有若干阴极靶，可以对带材进行双面溅射金属离子或单面溅射金属离子的真空等离子体镀膜。

4、采用带材真空等离子体镀膜生产模式代替水电镀，无污染，无废水废气，安全环保节能，涂层硬度更高更耐磨，结合力更好，防腐能力更强。

附图说明

图1为本实用新型实施例1中带材连续式真空等离子体镀膜系统的主视图；

图2为本实用新型实施例1中带材连续式真空等离子体镀膜系统的侧视图；

图3为本实用新型实施例1中带材连续式真空等离子体镀膜系统的俯视图；

图4为本实用新型实施例2中带材连续式真空等离子体镀膜系统的主视图；

图5为本实用新型实施例2中带材连续式真空等离子体镀膜系统的侧视图；

图6为本实用新型实施例2中带材连续式真空等离子体镀膜系统的俯视图；

图7为本实用新型实施例3中带材连续式真空等离子体镀膜系统的主视图；

图8为本实用新型实施例3中带材连续式真空等离子体镀膜系统的侧视图；

图9为本实用新型实施例3中带材连续式真空等离子体镀膜系统的俯视图；

图10为本实用新型实施例4中带材连续式真空等离子体镀膜系统的主视图；

图11为本实用新型实施例4中带材连续式真空等离子体镀膜系统的侧视图；

图12为本实用新型实施例4中带材连续式真空等离子体镀膜系统的俯视图；

图13为本实用新型实施例5中带材连续式真空等离子体镀膜系统的主视图；

图14为本实用新型实施例6中带材连续式真空等离子体镀膜系统的主视图；

图15为本实用新型实施例7中带材连续式真空等离子体镀膜系统的主视图；

图16为本实用新型实施例8中带材连续式真空等离子体镀膜系统的主视图；

图17为本实用新型实施例8中带材连续式真空等离子体镀膜系统的俯视图。

其中：1-放卷室底座，2-放卷室，3-第一加热管，4-待镀膜带材，5-第一抽真空系统底座，6-第一抽真空装置，7-第一旋转调节挡板阀，8-第一真空连接通道，9-第一真空规管，10-(弧形或椭圆形或长方形结构)真空镀膜室，11-阴极靶，12-导带辊，13-第二真空规管，14-第二真空连接通道，15-第二旋转调节挡板阀，16-第二抽真空装置，17-第二抽真空系统底座，18-已镀膜带材，19-第二加热管，20-收卷室，21-收卷室底座，22-放卷室观察窗，23-放卷室炉门，24-放卷室炉门铰链；25-放卷涨缩头，26-第一磁流体密封装置，27-第一减速机，28-第一驱动电机，29-第二驱动电机，30-第二磁流体密封装置，31-收卷涨缩头，32-第二减速机，33-收卷室炉门铰链，34-收卷室炉门，35-收卷室观察窗，36-进气管，37-第三抽真空装置，38-第三旋转调节挡板阀，39-第三真空连接通道。

具体实施方式

下面结合具体实施方式对本实用新型作进一步的说明。其中，附图仅用于示例性说明，表示的仅是示意图，而非实物图，不能理解为对本专利的限制；为了更好地说明本实用新型的实施例，附图某些部件会有省略、放大或缩小，并不代表实际产品的尺寸；对本领域技术人员来说，附图中某些公知结构及其说明可能省略是可以理解的。

本实用新型实施例的附图中相同或相似的标号对应相同或相似的部件；在本实用新型的描述中，需要理解的是，若有术语“上”、“下”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此附图中描述位置关系的用语仅用于示例性说明，不能理解为对本专利的限制，对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语的具体含义。

实施例1

如图1至图3所示，一种带材连续式真空等离子体镀膜系统，包括真空镀膜室10、抽真空系统、收放卷装置和驱动装置；收放卷装置包括放卷室2和收卷室20；放卷室2和收卷室20分别水平连通设置于所述真空镀膜室10的两端；抽真空系统通过第一真空连接通道8和第二真空连接通道14分别与放卷室2和收卷室20连通，通过抽真空系统对真空镀膜室10抽真空；所述真空镀膜室10的外侧两侧面均匀分布有若干阴极靶11，可以对带材进行双面溅射金属离子或单面溅射金属离子的真空等离子体镀膜；阴极靶11间隔之间设置有若干进气管36；放卷室2和收卷室20内部分别设置有放卷涨缩头25和收卷涨缩头31，带材缠绕在放卷涨缩头25上，带材的端部穿入所述真空镀膜室10连接到收卷涨缩头31；所述放卷涨缩头25和收卷涨缩头31分别通过磁流体密封装置与所述驱动装置连接；放卷室2和收卷室20内部侧壁上分别设有加热装置，通过加热装置对带材加热后，带材在所述真空镀膜室10内通过所述阴极靶11向带材上溅射金属离子，气体通过进气管36流入真空镀膜室10后与金属离子发生作用沉积在带材表面，实现带材真空等离子镀膜。

具体的，本实施例方案中，所述真空镀膜室10为椭圆形结构；椭圆形结构的真空镀膜室10提高了镀膜的连续性和镀膜气体的均匀性，保证了镀膜效率，特别是解决了对带材连续式的镀膜困难的难题。

具体的，本实施例方案中，所述真空镀膜室10内部的前后两端以及中部安装有四个导带辊12；带材依次穿过导带辊12，通过导带辊12传递带材；带材放置在导带辊12上防止带材的工作面被刮伤。

具体的，本实施例方案中，所述抽真空系统包括第一抽真空装置6和第二抽真空装置16；第一抽真空装置6和第二抽真空装置16分别安装在第一抽真空系统底座5和第二抽真空系统底座17上。第一抽真空装置6设置于所述放卷室2顶部并与所述放卷室2连接；第二抽真空装置16设置于所述收卷室20顶部并与所述收卷室20连接；第一抽真空装置6和第二抽真空装置16分别对所述放卷室2和收卷室20抽真空。

具体的，本实施例方案中，所述第一真空连接通道8和第二真空连接通道14分别设有第一旋转调节挡板阀7和第二旋转调节挡板阀15，所述第一旋转调节挡板阀7和第二旋转调节挡板阀15用于调节所述第一抽真空装置6和第二抽真空装置16对所述放卷室2和收卷室20抽真空的速率。

具体的，本实施例方案中，所述放卷室2和所述收卷室20的顶部分别设有第一真空规管9和第二真空规管13，所述真空规管用于测量所述放卷室2和收卷室20以及真空镀膜室10的真空度。

具体的，本实施例方案中，所述加热装置设有第一加热管3和第二加热管19；所述第一加热管3和第二加热管19分别等距离设置于放卷室2和收卷室20内；所述放卷室2和收卷室20分别安装在放卷室底座1和收卷室底座21上；通过加热管对带材加热后，带材在所述真空镀膜室10内通过所述阴极靶11向带材溅射金属离子，气体通过进气管36流入真空镀膜室10后与金属离子发生作用沉积在带材表面，实现带材真空等离子镀膜。

具体的，本实施例方案中，所述驱动装置包括第一减速机27、第二减速机32、第一驱动电机28和第二驱动电机29；第一减速机27的一端与第一驱动电机28连接，另一端通过第一磁流体密封装置26内部的磁流体与所述放卷涨缩头25密封连接；第一减速机27用于调节所述放卷涨缩头25的速率。第二减速机32的一端与第二驱动电机29连接，另一端通过第二磁流体密封装置内部的磁流体与所述收卷涨缩头31密封连接；第二减速机32用于调节所述放卷涨缩头25的速率。

具体的，本实施例方案中，所述放卷室2通过放卷室炉门铰链24安装有放卷室炉门23；所述收卷室20通过收卷室炉门铰链33安装有收卷室炉门34；放卷室炉门23和收卷室炉门34上分别设有放卷室观察窗22和收卷室观察窗35；工作人员通过放卷室观察窗22和收卷室观察窗35查看真空镀膜室10内带材的镀膜情况。

本实施例中，放卷室2和收卷室20均为圆形，放卷室2和收卷室20水平设置，带材依次从放卷室2传递至收卷室20，并且带材在放卷室2和收卷室20传递方向保持不变，带材在放卷室2和收卷室20均为顺时针传递，实现了带材的单面镀膜。

工作原理：首先，打开放卷室2的放卷室炉门23和收卷室20的收卷室炉门34，把要镀膜的待镀膜带材安装到放卷室2内的放卷张缩头上，将待镀膜带材的引带穿过导带辊12连接到收卷室20内的收卷张缩头上，启动放卷张缩头的第一驱动电机28和第一减速机27以及收卷涨缩头31的第二驱动电机29和第二减速机32，张紧带材，保证恒张力输出，关上放卷室炉门23和收卷室炉门34。

然后，同时启动设置在放卷室2和收卷室20上的第一抽真空装置6和第二抽真空装置16，抽真空，放卷室2和收卷室20到达真空后，启动第一加热器和第二加热器加热放卷室2和收卷室20，放卷室2和收卷室20达到所需的温度进入保温状态。

最后，打开进气管36，通入所需的镀膜气体，当达到镀膜所需的气压后，再启动阴极靶11开始溅射，阴极靶11上溅射出来的金属离子与真空室内的气体形成等离子体，通过偏压电源的作用沉积到带材表面。

当带材需要不同的膜层时，可以更换不同材质的阴极靶11，即可获得不同的膜层，如需不同膜厚，调节涨缩头的转速即可，如需双面镀膜，调整带材在真空镀膜室10的传递方向即可。

实施例2

由图4至图6所示，在实施例1的基础上，实施例2中放卷室2和收卷室20竖直设置，放卷室2位于收卷室20上方，实施例2中真空镀膜室10为长方形结构；实施例2中其他结构位置关系与实施例1一致。

实施例3

由图7至图9所示，在实施例1的基础上，实施例3中真空镀膜室10为长方形结构；实施例3中其他结构位置关系与实施例1一致。

实施例4

由图10至图12所示，在实施例1的基础上，实施例4中真空镀膜室10为弧形结构；实施例4中其他结构位置关系与实施例1一致。

实施例5

由图13所示，在实施例1的基础上，实施例5中真空镀膜室10为弧形结构；弧形的真空镀膜室10中部通过第三真空连接通道39连接有第三抽真空装置37，第三抽真空装置37通过第三抽真空系统底座设置在水平面上；第三抽真空装置37上安装有第三旋转调节挡板阀38；第三抽真空装置37对真空镀膜室10抽真空；第三旋转调节挡板阀38用于调节所述第三抽真空装置37对真空镀膜室10抽真空的速率；实施例5中其他结构位置关系与实施例1一致。

实施例6

由图14所示，在实施例1的基础上，实施例6中真空镀膜室10为方形结构；方形的真空镀膜室10中部通过第三真空连接通道39连接有第三抽真空装置37，第三抽真空装置37通过第三抽真空系统底座设置在水平面上；第三抽真空装置37上安装有第三旋转调节挡板阀38；第三抽真空装置37对真空镀膜室10抽真空；第三旋转调节挡板阀38用于调节所述第三抽真空装置37对真空镀膜室10抽真空的速率；实施例6中其他结构位置关系与实施例1一致。

实施例7

由图15所示，在实施例2的基础上，实施例7中真空镀膜室10中部通过第三真空连接通道39连接有第三抽真空装置37，第三抽真空装置37通过第三抽真空系统底座设置在水平面上；第三抽真空装置37上安装有第三旋转调节挡板阀38；第三抽真空装置37对真空镀膜室10抽真空；第三旋转调节挡板阀38用于调节所述第三抽真空装置37对真空镀膜室10抽真空的速率；实施例7中其他结构位置关系与实施例2一致。

实施例8

由图16和图17所示，在实施例1的基础上，实施例8中真空镀膜室10中部通过第三真空连接通道39连接有第三抽真空装置37，第三抽真空装置37通过第三抽真空系统底座设置在水平面上；第三抽真空装置37上安装有第三旋转调节挡板阀38；第三抽真空装置37对真空镀膜室10抽真空；第三旋转调节挡板阀38用于调节所述第三抽真空装置37对真空镀膜室10抽真空的速率；实施例8中其他结构位置关系与实施例1一致。

以上对本实用新型实施例所提供的技术方案进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本实用新型实施例的原理以及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只适用于帮助理解本实用新型实施例的原理；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本实用新型实施例，在具体实施方式以及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。

Claims (10)

1.一种带材连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：包括真空镀膜室、抽真空系统、收放卷装置和驱动装置；收放卷装置包括放卷室和收卷室；放卷室和收卷室分别连通设置于所述真空镀膜室的两端；抽真空系统通过真空连接通道分别与放卷室和收卷室连通，通过抽真空系统对真空镀膜室抽真空；真空镀膜室的外侧至少一侧均匀分布有若干阴极靶；阴极靶间隔之间设置有若干进气管；放卷室和收卷室内部分别设置有放卷涨缩头和收卷涨缩头，带材缠绕在放卷涨缩头上，带材的端部穿入所述真空镀膜室连接到收卷涨缩头；所述放卷涨缩头和收卷涨缩头分别通过磁流体密封装置与所述驱动装置连接；放卷室和收卷室内部侧壁上分别设有加热装置，通过加热装置对带材加热后，带材在所述真空镀膜室内通过所述阴极靶向带材上溅射金属离子，气体通过进气管流入真空镀膜室后与金属离子发生作用沉积在带材表面，实现带材真空等离子镀膜。

2.根据权利要求1所述的一种带材连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：所述真空镀膜室为弧形或椭圆形或长方形结构；所述真空镀膜室的外侧两侧面均匀分布有若干阴极靶，可以对带材进行双面溅射金属离子或单面溅射金属离子的真空等离子体镀膜。

3.根据权利要求2所述的一种带材连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：所述真空镀膜室内部的前后两端以及中部安装有若干导带辊；带材依次穿过导带辊，通过导带辊传递带材；带材放置在导带辊上防止带材的工作面被刮伤。

4.根据权利要求1-3任意一项所述的一种带材连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：所述抽真空系统包括至少两个抽真空装置；所述抽真空装置安装在抽真空系统底座上。

5.根据权利要求4所述的一种带材连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：所述抽真空系统包括第一抽真空装置和第二抽真空装置；第一抽真空装置与所述放卷室连接；第二抽真空装置与所述收卷室连接；第一抽真空装置和第二抽真空装置分别对所述放卷室和放卷室抽真空。

6.根据权利要求5所述的一种带材连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：所述真空连接通道上设有旋转调节挡板阀，所述旋转调节挡板阀用于调节所述第一抽真空装置和第二抽真空装置对所述放卷室和收卷室抽真空的速率。

7.根据权利要求1所述的一种带材连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：所述放卷室和所述收卷室的顶部分别设有真空规管，所述真空规管用于测量所述放卷室和收卷室以及真空镀膜室的真空度。

8.根据权利要求1所述的一种带材连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：所述加热装置为加热管；所述加热管分别等距离设置于放卷室和收卷室内；所述放卷室和收卷室分别安装在放卷室底座和收卷室底座上；通过加热管对带材加热后，带材在所述真空镀膜室内通过所述阴极靶向带材溅射金属离子，气体通过进气管流入真空镀膜室后与金属离子发生作用沉积在带材表面，实现带材真空等离子镀膜。

9.根据权利要求1所述的一种带材连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：所述驱动装置包括减速机和驱动电机；减速机的一端与驱动电机连接，另一端通过所述磁流体密封装置内部的磁流体分别与所述放卷涨缩头和收卷涨缩头密封连接；减速器用于调节所述放卷涨缩头和收卷涨缩头的速率。

10.根据权利要求5-7任意一项所述的一种带材连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：所述放卷室通过放卷室炉门铰链安装有放卷室炉门；所述收卷室通过收卷室炉门铰链安装有收卷室炉门；放卷室炉门和收卷室炉门上分别设有放卷室观察窗和收卷室观察窗；工作人员通过放卷室观察窗和收卷室观察窗查看真空镀膜室内带材的镀膜情况。

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