CN108628503B - 导电膜、电容式触摸屏和导电膜的制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种导电膜、电容式触摸屏和导电膜的制作方法，其中，导电膜包括导电膜本体、刻蚀图案和防短路图形，导电膜本体上通过激光刻蚀形成刻蚀图案；刻蚀图案包括多条刻蚀线，导电膜本体包括多个分步刻蚀区域；防短路图形跨越至少两个分步刻蚀区域，且分别位于相邻两个分步刻蚀区域内的两条相对应的刻蚀线通过一个防短路图形相连接。本发明解决了现有技术中导电膜的位于两个分步刻蚀区域内的两条刻蚀线的连接处容易发生偏移，导致两条刻蚀线未成功连接，从而造成导电膜短路，进而使得导电膜无法实现触摸功能的问题。

Description

导电膜、电容式触摸屏和导电膜的制作方法

技术领域

本发明涉及触控技术领域，具体而言，涉及一种导电膜、电容式触摸屏和导电膜的制作方法。

背景技术

电容式触摸屏因其具有触摸点击灵敏和响应时间快的特点，现已广泛应用在手机、平板电脑中。为了更好地将电容式触摸屏应用在企业会议、商业广告、教育教学、会展展示中，需要大尺寸的电容式触摸屏，相应地，要求用于制作电容式触摸屏的导电膜的尺寸尽可能地大，即需要在导电膜本体上激光刻蚀大尺寸的刻蚀图案以形成导电膜。

但现有技术中，激光刻蚀的平台面积有限，如果增加激光刻蚀的平台面积，会极大地增加制作导电膜的经济成本。因此，在制作大尺寸的导电膜时，需要先将导电膜本体进行分步刻蚀区域的划分，之后依次在各分步刻蚀区域内通过激光刻蚀出多条刻蚀线，多条刻蚀线共同形成刻蚀图案；但位于两个分步刻蚀区域内的两条刻蚀线的连接处容易发生偏移，导致两条刻蚀线未成功连接，从而造成导电膜短路，进而使得导电膜无法实现触摸功能。

发明内容

本发明的主要目的在于提供一种导电膜、电容式触摸屏和导电膜的制作方法，以解决现有技术中的导电膜的位于两个分步刻蚀区域内的两条刻蚀线的连接处容易发生偏移，导致两条刻蚀线未成功连接，从而造成导电膜短路，进而使得导电膜无法实现触摸功能的问题。

为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种导电膜，包括：导电膜本体，导电膜本体上通过激光刻蚀形成刻蚀图案；刻蚀图案包括多条刻蚀线，导电膜本体包括多个分步刻蚀区域；防短路图形，防短路图形通过激光刻蚀形成在导电膜本体上，防短路图形跨越至少两个分步刻蚀区域，且分别位于相邻两个分步刻蚀区域内的两条相对应的刻蚀线通过一个防短路图形相连接。

进一步地，防短路图形呈环形，呈环形的防短路图形围成容置区域，刻蚀线与防短路图形连接，或刻蚀线延伸至容置区域内。

进一步地，防短路图形为矩形环，且防短路图形的边长大于等于0.1mm且小于等于1mm。

进一步地，防短路图形为呈矩形的刻蚀图形，刻蚀线与刻蚀图形连接。

进一步地，防短路图形为呈正方形的刻蚀图形，呈正方形的刻蚀图形的边长大于等于0.1mm且小于等于1mm。

进一步地，导电膜本体包括四个分步刻蚀区域，四个分步刻蚀区域相拼接，位于各分步刻蚀区域内的部分刻蚀图案所占据的范围的最大长度小于等于1.2m。

进一步地，导电膜本体由氧化铟锡或纳米银制成。

根据本发明的另一方面，提供了一种电容式触摸屏，包括：基板；导电膜，导电膜贴设在基板上，导电膜为上述的导电膜。

根据本发明的又一方面，提供了一种导电膜的制作方法，包括如下步骤：步骤S1，在导电膜本体上划分多个分步刻蚀区域，依次在各分步刻蚀区域内通过激光进行刻蚀，以形成刻蚀图案，其中，刻蚀图案包括多条刻蚀线；步骤S2，在导电膜本体上激光刻蚀形成防短路图形，防短路图形跨越至少两个分步刻蚀区域，且分别位于相邻两个分步刻蚀区域内的两条相对应的刻蚀线通过一个防短路图形相连接。

应用本发明的技术方案，通过设置防短路图形，使位于相邻两个分步刻蚀区域内的两条相对应的刻蚀线通过一个防短路图形相连接，这样，在激光刻蚀两条相对应的刻蚀线的过程中，即使两条相对应的刻蚀线发生偏移而未在一条直线上，或者两条相对应的刻蚀线的端部未连接，两条相对应的刻蚀线也能够通过防短路图形而成功连接，从而有效地避免了短路事故的发生，本申请提供的导电膜具有良好的触摸功能和较低的制作成本。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

图1示出了根据本发明的一种可选实施例的导电膜的结构示意图；

图2示出了图1中的导电膜划分为多个分步刻蚀区域后的结构示意图；

图3示出了图2中A处的放大示意图；

图4示出了根据本发明的另一种可选实施例的导电膜的防短路图形和刻蚀线的连接关系意图；

图5示出了根据本发明的又一种可选实施例的导电膜的防短路图形和刻蚀线的连接关系意图；

图6示出了图2中B处的放大示意图；

图7示出了根据本发明的另一种可选实施例的导电膜的结构示意图。

其中，上述附图包括以下附图标记：

10、导电膜本体；11、分步刻蚀区域；12、分区线；20、刻蚀图案；21、刻蚀线；30、防短路图形。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。以下对至少一个示例性实施例的描述实际上仅仅是说明性的，决不作为对本发明及其应用或使用的任何限制。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

为了解决现有技术中的导电膜的位于两个分步刻蚀区域内的两条刻蚀线的连接处容易发生偏移，导致两条刻蚀线未成功连接，从而造成导电膜短路，进而使得导电膜无法实现触摸功能的问题，本发明提供了一种导电膜、电容式触摸屏和导电膜的制作方法。其中，本申请提供的导电膜具有良好的触摸功能和较低的制作成本；电容式触摸屏包括基板和导电膜，导电膜贴设在基板上，其中，导电膜为上述和下述的导电膜，本申请提供的电容式触摸屏具有良好的触摸功能和较低的制作成本；本申请提供的导电膜的制作方法，降低了对激光刻蚀的精度要求，提升了导电膜制作的合格率，利用本申请提供的导电膜的制作方法制成的导电膜，具有良好的触摸功能和较低的制作成本。

需要说明的是，在本申请中，分区线12为虚拟线形，其设置是为了便于操作人员方便对导电膜本体10进行分区刻蚀。

如图1所示，导电膜具有导电膜本体10、刻蚀图案20和防短路图形30。如图2、图3、图4和图5(其中，图3、图4和图5为图2中A处的局部放大图)所示，导电膜包括导电膜本体10、刻蚀图案20和防短路图形30，导电膜本体10上通过激光刻蚀形成刻蚀图案20，刻蚀图案20包括多条刻蚀线21，导电膜本体10包括多个分步刻蚀区域11，相邻的两个分步刻蚀区域11的连接处形成一条分区线12，防短路图形30通过激光刻蚀形成在导电膜本体10上并沿分区线12设置，防短路图形30跨越分区线12，且分别位于相邻两个分步刻蚀区域11内的两条相对应的刻蚀线21通过一个防短路图形30相连接。

在本申请中，通过沿分区线12设置防短路图形30，使位于相邻两个分步刻蚀区域11内的两条相对应的刻蚀线21通过一个防短路图形30相连接，这样，在激光刻蚀两条相对应的刻蚀线21的过程中，即使两条相对应的刻蚀线21发生偏移而未在一条直线上，或者两条相对应的刻蚀线21的端部未连接，两条相对应的刻蚀线21也能够通过防短路图形30而成功连接，从而有效地避免了短路事故的发生，本申请提供的导电膜具有良好的触摸功能和较低的制作成本。

在本申请一具体实施例中，在制作本申请提供的导电膜时，先根据激光刻蚀平台的尺寸在导电膜本体10上划分出多个分步刻蚀区域11，然后将导电膜本体10的一个分步刻蚀区域11放置在激光刻蚀平台上，在该分步刻蚀区域11上刻蚀部分刻蚀图案20；之后，在该分步刻蚀区域11的分区线12处刻蚀防短路图形30；然后移动导电膜本体10，将导电膜本体10的另一分步刻蚀区域11放置在激光刻蚀平台上，在该分步刻蚀区域11上刻蚀其余部分的刻蚀图案20。这样，能够减少移动导电膜本体10的次数，从而提升了导电膜的制作效率。

在本申请一可选实施例中，防短路图形30呈环形，呈环形的防短路图形30围成容置区域，刻蚀线21与防短路图形30连接，或刻蚀线21延伸至容置区域内。这样，呈环形的防短路图形30能够将位于分区线12两侧的两条刻蚀线21连接起来，从而避免导电膜出现短路的情况。

具体地，如图2所示，将导电膜本体10划分为4个分步刻蚀区域11；图3至图5示出了三个具体实施例中竖直方向的两个分步刻蚀区域11的分区线12处的局部放大结构示意图，三个实施例分别提供了三种不同的刻蚀线21与防短路图形30之间的相对位置关系；图6示出了水平方向的两个分步刻蚀区域11的分区线12处的局部放大结构示意图。

在制作本申请提供的导电膜时，可以先将位于一个分步刻蚀区域11内的部分刻蚀图案20刻蚀好，之后，移动导电膜后，在相邻两个分步刻蚀区域11连接处刻蚀防短路图形30，再将另一个分步刻蚀区域11内的部分刻蚀图案20刻蚀好，这样，可以减少移动导电膜的次数。在移动导电膜后，在另一分步刻蚀区域11内激光刻蚀部分刻蚀图案20时，会出现如下三种具体实施例。

在图3示出的一具体实施例中，两条刻蚀线21与防短路图形30连接，即两条刻蚀线21的端部均未延伸至容置区域内，仅与防短路图形30的边线连接。

在图4示出的另一具体实施例中，两条刻蚀线21均延伸至容置区域内，且两条刻蚀线21的端部未相连。

在图5示出的另一具体实施例中，两条刻蚀线21均延伸至容置区域内，且两条刻蚀线21的端部相连接。

在激光刻蚀位于相邻两个分步刻蚀区域11内的两条刻蚀线21时，容易出现左右方向上的偏移、两条刻蚀线21的端部未成功对接、重复刻蚀的情况，理想情况下，如图5所示，两条刻蚀线21的端部正好对接。

在上述三种具体实施例中，两条刻蚀线21与防短路图形30之间的相对位置关系虽然不同，但是均能够实现通过防短路图形30将两条刻蚀线21连接起来的效果。

在图6示出的具体实施例中，两条刻蚀线21均伸入防短路图形30中，但两条刻蚀线21的端部未相连。

在本申请一可选实施例中，防短路图形30为矩形环，且防短路图形30的边长大于等于0.1mm且小于等于1mm。经试验表明，防短路图形30的尺寸在此范围内时，既可以满足防短路效果，又能够降低激光刻蚀加工的成本，提升导电膜的加工效率。

需要说明的是，防短路图形30为矩形环是指：通过激光在导电膜本体10上刻蚀四条首尾相连的防短路刻蚀线，四条首尾相连的防短路刻蚀线组成矩形环。

可选地，为矩形环的防短路图形30的长边边长大于等于0.1mm且小于等于1mm。经试验表明，防短路图形30的尺寸在此范围内时，既可以满足防短路效果，又能够降低激光刻蚀加工的成本，提升导电膜的加工效率。

如图2所示，优选地，通过激光刻蚀四条首尾依次连接且长度相同的防短路刻蚀线，呈正方形的四条防短路刻蚀线组成防短路图形30；其中，正方形的边长大于等于0.1mm且小于等于1mm。经试验表明，防短路图形30的尺寸在此范围内时，既可以满足防短路效果，又能够降低激光刻蚀加工的成本，提升导电膜的加工效率。

在本申请另一可选实施例中，防短路图形30为呈矩形的刻蚀图形，刻蚀线21与刻蚀图形连接。与呈环形的防短路图形30不同，在本实施例中，将矩形区域内全部激光刻蚀掉。本实施例提供的防短路图形30，也能够实现通过防短路图形30将位于分区线12两侧的两条刻蚀线21相连接的效果。

可选地，防短路图形30为呈正方形的刻蚀图形，呈正方形的刻蚀图形的边长大于等于0.1mm且小于等于1mm。经试验表明，防短路图形30的尺寸在此范围内时，既可以满足防短路效果，又能够降低激光刻蚀加工的成本，提升导电膜的加工效率。

可选地，通过防短路图形30相连接的两条刻蚀线21与分区线12垂直。这样，便于对导电膜本体10进行激光刻蚀，降低导电膜本体10的加工制造成本。

在图1示出的可选实施例中，导电膜本体10包括四个分步刻蚀区域11，四个分步刻蚀区域11相拼接，位于各分步刻蚀区域11内的部分刻蚀图案20所占据的范围的最大长度小于等于1.2m。经试验表明，位于各分步刻蚀区域11内的部分刻蚀图案20所占据的范围在满足上述条件时，制作导电膜的成本较低。

可选地，导电膜本体10由氧化铟锡或纳米银制成。

本申请还提供了一种电容式触摸屏(图中未示出)，电容式触摸屏包括基板和贴设在基板上的导电膜，其中，导电膜为上述的导电膜。本申请提供的电容式触摸屏具有良好的触摸性能和较低的制作成本。

可选地，本申请提供的导电膜可以应用于65寸以上的大尺寸电容式触摸屏。

在本申请一可选实施例中，电容式触摸屏包括一张导电膜和一个基板，在导电膜本体10的上表面和下表面分别激光刻蚀不同方向的刻蚀图案20后形成一种实施例的导电膜，之后，将该导电膜贴设在基板上。

在本申请另一可选实施例中，电容式触摸屏包括两张导电膜和一个基板，在两张导电膜本体10上分别激光刻蚀不同方向的刻蚀图案20以形成两张导电膜，之后，将两张导电膜叠置后贴设在基板上，可选地，两张导电膜的结构形式分别如图1和图7所示。

本申请还提供了一种导电膜的制作方法，包括如下步骤：步骤S1，在导电膜本体10上划分多个分步刻蚀区域11，依次在各分步刻蚀区域11内通过激光进行刻蚀，以形成刻蚀图案20，其中，刻蚀图案20包括多条刻蚀线21；步骤S2，在导电膜本体10上激光刻蚀形成防短路图形30，防短路图形30刻蚀在相邻两个分步刻蚀区域11的连接处形成的分区线12处；其中，防短路图形30跨越分区线12，且分别位于相邻两个分步刻蚀区域11内的两条相对应的刻蚀线21通过一个防短路图形30相连接。

通过本申请提供的导电膜的制作方法制作出的导电膜具有良好的触摸性能和较低的制作成本，并且通过本申请提供的导电膜的制作方法制作出的导电膜能够应用在大尺寸的电容式触摸屏中，从而使大尺寸的电容式触摸屏具有良好的触摸性能和较低的制作成本。

在本申请一具体实施例中，在制作图1示出的可选实施例的导电膜时，将图1中的导电膜本体10按照图2示出的结构划分为四个分步刻蚀区域11，依次在各分步刻蚀区域11内通过激光进行刻蚀，形成刻蚀图案20；再通过激光刻蚀将防短路图形30刻蚀在相邻两个分步刻蚀区域11的连接处形成的分区线12处；并且在刻蚀时，防短路图形30跨越分区线12，分别位于相邻两个分步刻蚀区域11内的两条相对应的刻蚀线21通过一个防短路图形30相连接。

在本申请另一具体实施例中，在制作图1示出的可选实施例的导电膜时，将图1中的导电膜本体10按照图2示出的结构划分为四个分步刻蚀区域11，先在一个分步刻蚀区域11内通过激光进行刻蚀，形成一部分刻蚀图案20；之后，在该分步刻蚀区域11与另一分步刻蚀区域11之间的分区线12处，通过激光刻蚀防短路图形30；然后在另一分步刻蚀区域11内通过激光进行刻蚀，形成另一部分刻蚀图案20；重复上述过程，将四个分步刻蚀区域11全部刻蚀完，形成完整的刻蚀图案20。

除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本发明的范围。同时，应当明白，为了便于描述，附图中所示出的各个部分的尺寸并不是按照实际的比例关系绘制的。对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为授权说明书的一部分。在这里示出和讨论的所有示例中，任何具体值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。因此，示例性实施例的其它示例可以具有不同的值。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。

在本发明的描述中，需要理解的是，方位词如“前、后、上、下、左、右”、“横向、竖向、垂直、水平”和“顶、底”等所指示的方位或位置关系通常是基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，在未作相反说明的情况下，这些方位词并不指示和暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位或者以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明保护范围的限制；方位词“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内外。

为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而，示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。

需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、工作、器件、组件和/或它们的组合。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种导电膜，其特征在于，包括：

导电膜本体(10)，所述导电膜本体(10)上通过激光刻蚀形成刻蚀图案(20)；所述刻蚀图案(20)包括多条刻蚀线(21)，所述导电膜本体(10)包括多个分步刻蚀区域(11)；

防短路图形(30)，所述防短路图形(30)通过激光刻蚀形成在所述导电膜本体(10)上，所述防短路图形(30)跨越至少两个所述分步刻蚀区域(11)，且分别位于相邻两个所述分步刻蚀区域(11)内的两条相对应的所述刻蚀线(21)通过一个所述防短路图形(30)相连接。

2.根据权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述防短路图形(30)呈环形，呈环形的所述防短路图形(30)围成容置区域，所述刻蚀线(21)与所述防短路图形(30)连接，或所述刻蚀线(21)延伸至所述容置区域内。

3.根据权利要求2所述的导电膜，其特征在于，所述防短路图形(30)为矩形环，且所述防短路图形(30)的边长大于等于0.1mm且小于等于1mm。

4.根据权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述防短路图形(30)为呈矩形的刻蚀图形，所述刻蚀线(21)与所述刻蚀图形连接。

5.根据权利要求4所述的导电膜，其特征在于，所述防短路图形(30)为呈正方形的刻蚀图形，所述呈正方形的刻蚀图形的边长大于等于0.1mm且小于等于1mm。

6.根据权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述导电膜本体(10)包括四个分步刻蚀区域(11)，四个所述分步刻蚀区域(11)相拼接，位于各所述分步刻蚀区域(11)内的部分所述刻蚀图案(20)所占据的范围的最大长度小于等于1.2m。

7.根据权利要求1所述的导电膜，其特征在于，所述导电膜本体(10)由氧化铟锡或纳米银制成。

8.一种电容式触摸屏，其特征在于，包括：

基板；

导电膜，所述导电膜贴设在所述基板上，所述导电膜为权利要求1至7中任一项所述的导电膜。

9.一种导电膜的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤S1，在导电膜本体(10)上划分多个分步刻蚀区域(11)，依次在各所述分步刻蚀区域(11)内通过激光进行刻蚀，以形成刻蚀图案(20)，其中，所述刻蚀图案(20)包括多条刻蚀线(21)；

步骤S2，在所述导电膜本体(10)上激光刻蚀形成防短路图形(30)，所述防短路图形(30)跨越至少两个所述分步刻蚀区域(11)，且分别位于相邻两个所述分步刻蚀区域(11)内的两条相对应的所述刻蚀线(21)通过一个所述防短路图形(30)相连接。

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